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一種材料結(jié)晶過程的計算機(jī)數(shù)值模擬方法與流程

文檔序號:11386984閱讀:965來源:國知局
一種材料結(jié)晶過程的計算機(jī)數(shù)值模擬方法與流程

本發(fā)明屬于計算機(jī)軟件領(lǐng)域,特別涉及一種材料結(jié)晶過程的計算機(jī)數(shù)值模擬方法。



背景技術(shù):

材料的結(jié)晶一般分為晶體成核和晶體生長兩個過程,在晶體生長的過程中相鄰的晶體可能發(fā)生碰撞而形成晶界,從而使得晶體的生長局部停止。晶體的尺寸、形態(tài)分布、晶界的位置以及結(jié)晶度是影響結(jié)晶型材料性能的關(guān)鍵因素,也是計算機(jī)數(shù)值模擬軟件需要模擬計算的重要內(nèi)容。結(jié)晶的計算機(jī)數(shù)值模擬技術(shù)是:基于一定的科學(xué)原理在計算機(jī)上模擬仿真晶體的形成過程的一門技術(shù)。計算區(qū)域的選擇對模擬軟件的模擬精度、計算速度和以及占用內(nèi)存的數(shù)量影響巨大。晶體數(shù)值模擬的計算區(qū)域從空間上講,主要有二維和三維兩種。在三維空間中進(jìn)行模擬的優(yōu)點是:晶體的成核和生長在三維空間模擬,能夠綜合考慮多種因素(比如:三維的應(yīng)力作用、非均勻溫度、壓力等)對結(jié)晶過程的影響,計算精度高;缺點是:三維空間的幾何信息量大,計算軟件需要的運行內(nèi)存空間大,計算速度慢。而在二維空間進(jìn)行的模擬一般需要對三維空間進(jìn)行一定的幾何簡化。二維模擬的優(yōu)點是:計算速度快,所需的計算機(jī)內(nèi)存??;缺點是:晶體的成核和生長都只能在二維空間進(jìn)行,能夠模擬的影響因素少,計算精度低。在二維和三維的數(shù)值模擬方案中存在求解速度和計算精度的矛盾。

為了解決以上存在的問題,人們一直在尋求一種理想的技術(shù)解決方案。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種求解速度快、需要計算機(jī)內(nèi)存小并且計算精度高的材料結(jié)晶過程的計算機(jī)數(shù)值模擬方法。

為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是:一種材料結(jié)晶過程的計算機(jī)數(shù)值模擬方法,其中,結(jié)晶過程分為晶體成核和晶體生長兩個階段,在模擬晶體成核時,晶核的位置在三維區(qū)域內(nèi)模擬,晶體的生長和碰撞過程在三維模擬區(qū)域內(nèi)特定的截面或者截線上模擬。

基于上述,在三維模擬區(qū)域內(nèi)特定的截面模擬晶體的生長和碰撞過程為:選擇三維模擬區(qū)域v內(nèi)特定的一個或n個截面ai,計算所有晶體和特定截面ai相交的圖像;計算與某一截面ai相交的晶體在這個截面內(nèi)不同方向的生長速度,并以該速度模擬該晶體在這個截面內(nèi)的生長過程,在所選定的特定截面ai內(nèi)模擬相鄰晶體的碰撞過程;在計算機(jī)模擬的每個時間步長內(nèi),計算截面ai內(nèi)晶體的面密度,運用德萊賽定律,將晶體的某個面密度或者幾個面密度的統(tǒng)計平均值與晶體在三維空間的體密度等價,獲得三維空間的晶體相對結(jié)晶度。

基于上述,在三維模擬區(qū)域內(nèi)特定的截線上模擬晶體的生長和碰撞過程為:選擇三維模擬區(qū)域v內(nèi)特定的一個或n個截線li,計算所有晶體和這些特定截線li的相交線;計算與某一截線li相交的晶體在這個截線li內(nèi)不同方向的生長速度,并模擬該晶體沿該截線li的生長過程;在所選定的特定截線li上模擬相鄰晶體的碰撞過程;在計算機(jī)模擬的每個時間步長內(nèi),計算截線li上的晶體的線密度,運用羅西瓦爾定律,將晶體的某個線密度或者幾個線密度的統(tǒng)計平均值與晶體的體密度等價,獲得三維空間中晶體的相對結(jié)晶度。

基于上述,在模擬晶體的生長和碰撞過程中,晶體在截面ai或截線li上的形貌可以輸出保存。

本發(fā)明相對現(xiàn)有技術(shù)具有突出的實質(zhì)性特點和顯著的進(jìn)步,具體的說,本發(fā)明采用的方法是在三維空間中模擬晶體的成核點位置,在三維模擬空間內(nèi)特定的截面或者截線上進(jìn)行晶體的生長和碰撞過程的模擬,與二維經(jīng)典模擬算法以及三維經(jīng)典算法相比,克服了二維和三維的數(shù)值模擬方案中存在的求解速度和計算精度的矛盾。

附圖說明

圖1應(yīng)用本發(fā)明方法輸出的晶體形貌圖。

圖2應(yīng)用經(jīng)典三維模擬方法輸出的晶體形貌圖。

具體實施方式

下面通過具體實施方式,對本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。

一種材料結(jié)晶過程的計算機(jī)數(shù)值模擬方法,其中,結(jié)晶過程分為晶體成核和晶體生長兩個階段,在模擬晶體成核時,晶核的位置在三維區(qū)域內(nèi)模擬,晶體的生長和碰撞過程在三維模擬區(qū)域內(nèi)特定的截面或者截線上模擬。

在三維模擬區(qū)域內(nèi)特定的截面模擬晶體的生長和碰撞過程為:

選擇三維模擬區(qū)域v內(nèi)特定的一個或n個截面ai,計算所有晶體和特定截面ai相交的圖像;計算與某一截面ai相交的晶體在這個截面內(nèi)不同方向的生長速度,并以該速度模擬該晶體在這個截面內(nèi)的生長過程,在所選定的特定截面ai內(nèi)模擬相鄰晶體的碰撞過程;計算截面ai內(nèi)晶體的面密度,運用德萊賽定律,將晶體的某個面密度或者幾個面密度的統(tǒng)計平均值與晶體在三維空間的體密度等價,獲得三維空間的晶體相對結(jié)晶度。

在三維模擬區(qū)域內(nèi)特定的截線上模擬晶體的生長和碰撞過程為:

選擇三維模擬區(qū)域v內(nèi)特定的一個或n個截線li,計算所有晶體和這些特定截線li的相交線;計算與某一截線li相交的晶體在這個截線li內(nèi)不同方向的生長速度,并模擬該晶體沿該截線li的生長過程;在所選定的特定截線li上模擬相鄰晶體的碰撞過程;在每個時間步長內(nèi)計算截線li上的晶體的線密度,運用羅西瓦爾定律,將晶體的某個線密度或者幾個線密度的統(tǒng)計平均值與晶體的體密度等價,獲得三維空間中晶體的相對結(jié)晶度。

在具體的計算模擬過程中,以100*100*100個節(jié)點的三維空間為例,模擬空間的節(jié)點個數(shù)為106個,而其中一個正交截面上的節(jié)點數(shù)為100*100=104個,一個正交截線上的節(jié)點個數(shù)為102個,采用本發(fā)明方法,在模擬晶體生長和碰撞時,計算軟件中僅需要保留與截面ai或截線li相關(guān)的幾何信息,相對于三維空間需要存貯的節(jié)點信息少,節(jié)省了計算機(jī)的內(nèi)存空間,而且,由于僅處理相鄰晶體在截面ai內(nèi)或截線li上的碰撞過程,處理的信息量少,使得計算機(jī)的模擬時間減少,提升了求解速度。

另外,在模擬晶體的生長和碰撞過程中,晶體在截面ai或截線li上的形貌可以通過計算機(jī)軟件輸出保存。如圖1和圖2所示是在同一個時間步長,應(yīng)用本發(fā)明的方法和經(jīng)典三維模擬方法輸出的晶體形貌圖。從圖中可以看出,兩者的相對結(jié)晶度相同,應(yīng)用本發(fā)明的方法輸出的晶體形貌圖與應(yīng)用經(jīng)典三維模擬方法輸出的晶體形貌圖的一個截面圖相似。

對比算例:

采用本發(fā)明中的在三維模擬區(qū)域內(nèi)特定的截面模擬晶體的生長和碰撞過程,其中,先結(jié)合蒙特卡洛方法生成晶核位置,模擬過程中,采用像素法模擬晶體碰撞過程,并采用公式n(t)=n0exp[ψδt]計算晶核數(shù)量,公式計算晶體生長速度;三維空間采用200*200*200個節(jié)點,截面采用200*200個節(jié)點,參數(shù)n0=17.4×106/m3,ψ=0.155k-1,g0=2.1×1010μm/s,u*/r=755k,kg=534858k2,tm=467k,t∞=236k;模擬400k溫度的等溫結(jié)晶過程,時間步長為60s;用于運行模擬的計算機(jī)配置為:cpuintelcorei7-4790,8核,主頻3.6ghz,內(nèi)存8g,軟件系統(tǒng):windows10(64位)專業(yè)版。

將應(yīng)用本發(fā)明的方法和經(jīng)典三維模擬的方法對比,分別運行5次,得到相對結(jié)晶度的平均值以及運行軟件消耗的平均cpu時間。各步長的對比結(jié)果見表1和表2。從表中可以看出應(yīng)用本發(fā)明方法計算得到的相對結(jié)晶度結(jié)果與三維模擬的結(jié)果非常接近,而應(yīng)用本發(fā)明方法模擬消耗的cpu計算時間比經(jīng)典三維的模擬方法少2-5個數(shù)量級。

表1相對結(jié)晶度模擬結(jié)果對比

表2相對模擬計算速度對比

最后應(yīng)當(dāng)說明的是:以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非對其限制;盡管參照較佳實施例對本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說明,所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:依然可以對本發(fā)明的具體實施方式進(jìn)行修改或者對部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換;而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神,其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明請求保護(hù)的技術(shù)方案范圍當(dāng)中。

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