觸控面板的制作方法
【專利摘要】本實用新型為一種觸控面板，系用于觸控式電子裝置。觸控面板包括第一基板。第一基板具有第一表面，其中第一表面經過霧化處理后形成至少一半透區(qū)域；其中該半透區(qū)域內具有第一半透結構，第一半透結構系藉由霧化區(qū)域及非霧化區(qū)域互相交錯而成，以藉由調整霧化區(qū)域之面積來改變第一半透結構之光遮蔽率。
【專利說明】觸控面板
【技術領域】
[0001]本實用新型系關于一種觸控面板，特別是一種藉由霧化處理來調整光遮蔽率之觸控面板。
【背景技術】
[0002]隨著科技的發(fā)展，觸控面板(Touch Panel)已廣泛應用于各種消費電子裝置，例如:智能型手機、平板計算機、相機、電子書、MP3播放器等攜帶式電子產品，或是應用于操作控制設備的顯示屏幕。
[0003]于先前技術中，觸控面板的非觸控區(qū)域通常形成有環(huán)境燈感應(Ambient LightSensor, ALS)孔、紅外線(Infrared Ray, IR)孔等,而開孔位置對應的非觸控區(qū)域通常需要做成一半透區(qū)域，以滿足環(huán)境燈孔或紅外線孔的光遮蔽率的需求。傳統(tǒng)的作法是通過在對應區(qū)域覆蓋一層半透明的印刷油墨來形成半透區(qū)域，其中半透明油墨一般是通過非透明油墨與透明油墨調配成。
[0004]然而，由于油墨的使用時間有限，使得油墨可能會脫落。另外不同批次的油墨的光學性能之間存在差異，因此調配半透明油墨時，要做到精準地調配透明油墨與非透明油墨的參數難度很大。另外于印刷的制程中也可能會產生偏差，相應的半透區(qū)域的光遮蔽率也無法達到一致性。
[0005]因此，有必要實用新型一種新的觸控面板，以解決先前技術的缺失。
實用新型內容
[0006]本實用新型之主要目的系在提供一種觸控面板，其具有藉由霧化處理來調整光遮蔽率之效果。
[0007]為達成上述之目的，本實用新型之觸控面板系用于觸控式電子裝置。觸控面板包括第一基板。第一基板具有第一表面，其中第一表面經過霧化處理后形成至少一半透區(qū)域；其中至少一半透區(qū)域內具有第一半透結構，第一半透結構系藉由霧化區(qū)域及非霧化區(qū)域互相交錯而成，以藉由調整霧化區(qū)域之面積來改變第一半透結構之光遮蔽率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1A系本實用新型之半透區(qū)域用于觸控式電子裝置之示意圖。
[0009]圖1B系本實用新型之觸控面板之第一實施方式之剖視圖。
[0010]圖2A系本實用新型之觸控面板之半透結構之第一實施方式之示意圖。
[0011]圖2B系本實用新型之觸控面板之半透結構之第二實施方式之示意圖。
[0012]圖2C系本實用新型之觸控面板之半透結構之第三實施方式之示意圖。
[0013]圖2D系本實用新型之觸控面板之半透結構之第四實施方式之示意圖。
[0014]圖2E系本實用新型之觸控面板之半透結構之第五實施方式之示意圖。
[0015]圖3系本實用新型之觸控面板之第二實施方式之剖視圖。[0016]圖4系本實用新型之觸控面板之第三實施方式之剖視圖。
[0017]圖5系本實用新型之觸控面板之第四實施方式之剖視圖。
[0018]圖6系本實用新型之觸控面板之第五實施方式之剖視圖。
[0019]圖7系本實用新型之觸控面板之第六實施方式之剖視圖。
【具體實施方式】
[0020]本說明書中所稱的方位“上”及“下”，僅是用來表示相對的位置關系，對于本說明書的圖式而言，觸控面板的上方較遠離使用者，而下方則較接近使用者。另外，本說明書中所稱的“透明”及“不透明”，僅是用來表示物質透過光線的性質。于本實用新型而言，其中“透明”定義為使用者在正常使用觸控面板過程中可以透過基板看到位于該基板后方的物體，而“不透明”定義為使用者在正常使用觸控面板過程中透過基板看到位于該基板后方的物體。
[0021]請先同時參考圖1A系本實用新型之半透區(qū)域用于觸控式電子裝置之示意圖及圖1B系本實用新型之觸控面板之第一實施方式之剖視圖。
[0022]本實用新型之觸控面板IOa可用于觸控式電子裝置I內，觸控式電子裝置I可為智能型手機或平板計算機，但本實用新型并不限于此。于本實用新型之第一實施方式中，觸控面板IOa可包括第一基板20。第一基板20為透明材料，其材料可為乙烯對苯二甲酸酯(PET)、聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚苯硫醚(PPS)、聚烯丙基(polyallylate)、聚碳酸酯(PC)、玻璃或其類似物。第一基板20可為硬質基板或可撓式基板。第一基板20可為平面形狀、曲面形狀或其他不規(guī)則形狀。
[0023]第一基板20可具有第一表面21及第二表面22。在一較佳實施方式中第一表面21可為第一基板20的上表面,第二表面22可為第一基板20的下表面,兩者互相平行。于第一實施方式中，第一基板20之第一表面21系先經過一霧化處理后，以形成至少一半透區(qū)域30。霧化處理之方式可包括激光處理、酸蝕刻處理、噴砂處理或表面研磨處理，但本實用新型并不限于此。藉此，半透區(qū)域30內會具有第一半透結構31，而第一半透結構31系藉由有霧化處理的霧化區(qū)域311及沒有霧化處理的非霧化區(qū)域312互相交錯而成。第一基板20的第一表面21在經過霧化處理后，相應的半透區(qū)域30因玻璃表面不平整而產生光的漫射現象，最終造成的云霧狀或混濁的不透明外觀。當霧化區(qū)域311所占面積越大時，半透區(qū)域30內所能通過的光就越少。因此觸控面板IOa系藉由調整霧化區(qū)域311之面積大小來改變第一半透結構31之光遮蔽率大小，從而調整半透區(qū)域30的光遮蔽率大小。
[0024]在一較佳實施方式中，該霧化處理的方式為噴砂處理。其主要處理工藝如下:
[0025]1、采用噴砂機，該噴砂機可以為壓送式噴砂(噴丸)機構；
[0026]2、利用噴砂機內空氣的高速流動產生高壓作用，將噴砂機高壓罐內的砂料(以水混合金剛砂)通過輸砂管噴出，然后隨壓縮氣流由噴槍嘴高速噴射到第一基板20的第一表面21上；
[0027]3、根據預先設定的噴砂結構，使第一表面21上的半透區(qū)域30的表面組織不斷受到沙粒的沖擊破壞，形成毛面，最終完成霧化區(qū)域311的處理。
[0028]于第一實施方式中，第一表面21經過霧化處理后，相應的霧化區(qū)域311是以復數個凹槽的形式呈現。從第一基板20的剖視圖1B來看，該霧化區(qū)域311與該非霧化區(qū)域312在垂直于該第一基板20之第一表面21的方向上會交錯形成波浪狀。其中，該凹槽在平行于該第一基板20之第一表面21的方向上的面積主要是用來控制霧化區(qū)域311的面積，該面積越大，則在同等數量級的凹槽的情況下，霧化區(qū)域311的面積就越大，半透區(qū)域30的光遮蔽率就越高。在一較佳實施方式中該不透明凹槽的面積可為:10平方納米到100平方納米，但本實用新型并不以此規(guī)格為限。該面積可以根據霧化處理方式的精度以及半透區(qū)域的光遮蔽率需求進行調整。值得注意的是，該凹槽在垂直于該第一基板20之第一表面21的方向上的高度為霧化處理方法(如激光處理)所導致的，其本身對霧化區(qū)域的光遮蔽率是不起作用的，相反如果凹槽高度過大，在某些情況下對第一基板20的強度會造成損傷。因此，在生產實踐中，可以通過控制霧化處理方法(如激光的能量大小，激光的波長)來實現對該高度的控制，在一較佳實施方式中該不透明凹槽的高度可為:10平方納米以下，但本實用新型并不以此規(guī)格為限。
[0029]于圖1A中，觸控式電子裝置I可具有兩個半透區(qū)域30，但本實用新型并不限于此。半透區(qū)域30的數量是由有環(huán)境燈感應(Ambient Light Sensor, ALS)孔、紅外線(InfraredRay, IR)孔等功能孔的數量來決定。本實用新型并不限制每一個半透區(qū)域30之光遮蔽率是否相同，每一個半透區(qū)域30之光遮蔽率可根據功能孔不同的光遮蔽率需求而做調整，亦即調整每一半透區(qū)域30內霧化區(qū)域311之面積大小。
[0030]藉由上述的霧化區(qū)域311與非霧化區(qū)域312的排列，本實用新型可以具有不同實施方式的第一半透結構31。就如同圖2A所示，接著請參考圖2A系本實用新型之觸控面板之半透結構之第一實施方式之示意圖。
[0031]于第一實施方式中，該霧化區(qū)域311與該非霧化區(qū)域312在該第一基板20之該第一表面21上系互相交錯排列成一螺旋狀的半透結構31a，其中該霧化區(qū)域311為一連續(xù)之不透明結構，該非霧化區(qū)域312為一連續(xù)之透明結構。
[0032]接著請參考圖2B系本實用新型之觸控面板之半透結構之第二實施方式之示意圖。
[0033]此外，于第二實施方式中，該霧化區(qū)域311與該非霧化區(qū)域312在該第一基板20之該第一表面21上系互相交錯排列成多個同心圓的半透結構31b，其中該霧化區(qū)域311為一不連續(xù)之不透明結構，該非霧化區(qū)域312為一不連續(xù)之透明結構。
[0034]接著請參考圖2C系本實用新型之觸控面板之半透結構之第三實施方式之示意圖。
[0035]于第三實施方式中，半透結構31c系同樣為多個同心圓結構，但每個同心圓都是由部份霧化區(qū)域311的不透明結構及部份非霧化區(qū)域312的透明結構組成。
[0036]接著請參考圖2D系本實用新型之觸控面板之半透結構之第四實施方式之示意圖。
[0037]于第四實施方式中，半透結構31d可具有點狀之霧化區(qū)域311，而非霧化區(qū)域312則環(huán)繞于霧化區(qū)域311的四周。如此一來，即可藉由霧化區(qū)域311的大小及分布密度來調整光遮蔽率。
[0038]接著請參考圖2E系本實用新型之觸控面板之半透結構之第五實施方式之示意圖。
[0039]于第五實施方式中，因此半透結構31e的具有點狀之非霧化區(qū)域312，而霧化區(qū)域311則環(huán)繞于非霧化區(qū)域312的四周，如此一來，即可藉由霧化區(qū)域311的大小及分布密度
來調整光遮蔽率。。
[0040]藉由上述的半透結構31a到31e，皆可得到觸控面板IOa上半透區(qū)域30所需的光遮蔽率。但本實用新型并不限定于上述的半透結構31a到31e，只要是由霧化區(qū)域311及非霧化區(qū)域312交錯而成的結構皆在本實用新型的保護范圍內。
[0041]接著請參考圖3系本實用新型之觸控面板之第二實施方式之剖視圖。
[0042]除了圖1B所示的第一實施方式外，于本實用新型的第二實施方式中，觸控面板IOb之第一基板20進一步可于第二表面22上執(zhí)行霧化處理。藉此第一基板20之第二表面22會具有第二半透結構32，第二半透結構32同樣藉由霧化區(qū)域321及非霧化區(qū)域322互相交錯而成。如此一來，觸控面板IOb可以藉由調整第一半透結構31與第二半透結構32在垂直于該第一基板20之第一表面21的方向上的重合面積來改變半透區(qū)域30之光遮蔽率。第二半透結構32可以為半透結構31a到31e的其中一種，或是其他的結構，本實用新型并不限于此。
[0043]接著請參考圖4系本實用新型之觸控面板之第三實施方式之剖視圖。
[0044]于本實用新型之第三實施方式中，觸控面板IOc可進一步包括感應區(qū)41、周邊區(qū)42、感測電極層51及遮蔽層52。感應區(qū)41系供使用者進行觸控操作，因此感應區(qū)41之范圍內可具有感測電極層51。感測電極層51材料可包含氧化銦錫、氧化銦鋅、氧化鎘錫、氧化招鋅、氧化銦鋅錫、氧化鋅(zinc oxide)、氧化鎘、氧化鉿、氧化銦鎵鋅、氧化銦鎵鋅鎂、氧化銦鎵鎂或氧化銦鎵鋁、納米金屬、石墨烯等。感測電極層51具有復數之感應電極，以感應使用者之觸控。由于感測電極層51之作用方式并非本實用新型所要改進之重點所在，故在此不再贅述其原理。感測電極層51系設置在第一基板20的第一表面21上且至少位于感應區(qū)41中。周邊區(qū)42系至少設置于感應區(qū)41之一側，或是環(huán)繞于感應區(qū)41的四周。遮蔽層52系設置在第一基板20的第一表面21上且位于該周邊區(qū)42中，以遮蔽觸控面板IOc上的周邊組件。遮蔽層52可利用印刷油墨或者利用曝光顯影蝕刻聚酰亞胺等方式制成，但本實用新型并不限于此。而于此第三實施方式中，半透區(qū)域30系位于周邊區(qū)42內，且半透區(qū)域30內不設置該遮蔽層52，藉此使光線仍可部分通過半透區(qū)域30。于此構造下，觸控面板IOc仍可藉由調整霧化區(qū)域311之面積大小來改變第一半透結構31之光遮蔽率。
[0045]接著請參考圖5系本實用新型之觸控面板之第四實施方式之剖視圖。
[0046]于本實用新型之第四實施方式中，觸控面板IOd包括感應區(qū)41、周邊區(qū)42、第二基板53、感測電極層51及遮蔽層52。周邊區(qū)42設置于感應區(qū)41之一側，或是環(huán)繞于感應區(qū)41的四周，半透區(qū)域30亦位于周邊區(qū)42中，遮蔽層52同樣設置在第一基板20的第一表面21上且位于周邊區(qū)42中不具有半透區(qū)域30的范圍內。與第三實施方式不同的是，觸控面板IOd另外包括了第二基板53。第二基板53系位于第一基板20的第一表面21上方,且用以設置感測電極層51。藉此感測電極層51可以同時延伸至感應區(qū)41及周邊區(qū)42，而不僅限于感應區(qū)41的范圍內。于此構造下，不會影響到半透區(qū)域30之作用，觸控面板IOd仍可藉由調整霧化區(qū)域311之面積大小來改變第一半透結構31之光遮蔽率。
[0047]接著請參考圖6系本實用新型之觸控面板之第五實施方式之剖視圖。
[0048]于本實用新型之第五實施方式中，觸控面板IOe與本實用新型第五實施方式中的觸控面板IOd的不同在于，觸控面板IOe更包括光遮蔽率調整部61。光遮蔽率調整部61系設置于第一基板20的第一表面21上,并位于半透區(qū)域30中，其中該光遮蔽率調整部61包括透明結構611及不透明結構612，以藉由調整透明結構611之面積來改變光遮蔽率調整部61之光遮蔽率。不透明結構612可以藉由印刷油墨的方式或者利用曝光顯影蝕刻聚酰亞胺等制成，但本實用新型并不限于此。并且于第一基板20的垂直方向上，第一半透結構31的霧化區(qū)域311可部分或全部位于光遮蔽率調整部61的透明結構611中。如此一來，觸控面板IOe系藉由調整霧化區(qū)域311與光遮蔽率調整部61的透明結構611在垂直于該第一基板20之第一表面21的方向上之重合面積來改變半透區(qū)域30的整體光遮蔽率，使得觸控面板IOe可以更靈活地調整得到所需要的光遮蔽率，在特定大小的半透區(qū)域內做到最佳的半透效果。
[0049]接著請參考圖7系本實用新型之觸控面板之第六實施方式之剖視圖。
[0050]于本實用新型之第六實施方式中，觸控面板IOf與本實用新型第五實施方式中的觸控面板IOe的不同在于，觸控面板IOf更包括一第二基板53，感應電極層51設置在第二基板53上。。在此迭構下，觸控面板IOf仍可以藉由調整霧化區(qū)域311與光遮蔽率調整部61的透明結構之重合面積來改變半透區(qū)域30與光遮蔽率調整部61的整體光遮蔽率。、
[0051]特別的，本實用新型第四實施方式中觸控面板IOd與本實用新型第六實施方式中觸控面板IOf，在迭構上通過將感應電極層51設置在第二基板53上，使得后續(xù)組件(例如液晶顯示面板)具有一個平整的加工表面，更有利于觸控面板與顯示面板整體結構的組裝。
[0052]上述的觸控面板IOa到IOf皆可用于觸控式電子裝置I內，就如同圖1A所示，觸控式電子裝置I的周邊區(qū)42內可以具有兩個半透區(qū)域30，但本實用新型并不以此數量為限。并須注意的是，于圖1A中的觸控式電子裝置I的表面可見感應區(qū)41及周邊區(qū)42，周邊區(qū)42系環(huán)繞于感應區(qū)41的四周，但本實用新型并不以此為限，觸控式電子裝置I的表面也可以僅具有感應區(qū)41，而半透區(qū)域30則位于感應區(qū)41之范圍內。
[0053]藉由以上的各實施方式，觸控面板10a、10b、10c、IOcUlOe或IOf皆可以利用經過
霧化處理的霧化區(qū)域311來調整光遮蔽率，可有效解決先前技術中僅利用印刷油墨流程來調整光遮蔽率所具有的缺失。
[0054]雖然本實用新型之實施例揭露方式如上，然其并非用以限制本實用新型。本實用新型所屬領域中具有通常知識者，在不脫離本實用新型之精神和范圍內，當可作各種的變動與潤飾。因此，本實用新型之保護范圍當視后附之申請專利范圍所界定者為準。
【權利要求】
1.一種觸控面板，系用于一觸控式電子裝置，該觸控面板包括:一第一基板，該第一基板具有一第一表面，其中該第一表面經過一霧化處理后形成至少一半透區(qū)域；其中該半透區(qū)域內具有一第一半透結構，該第一半透結構系藉由一霧化區(qū)域及一非霧化區(qū)域互相交錯而成，以藉由調整該霧化區(qū)域之面積來改變該第一半透結構之光遮蔽率。
2.根據權利要求1所述的觸控面板，其特征在于:該霧化處理包括一激光處理、一酸蝕刻處理、一噴砂處理或一表面研磨處理。
3.根據權利要求1所述的觸控面板，其特征在于:該霧化區(qū)域系為一連續(xù)之不透明結構，該非霧化區(qū)域系為一連續(xù)之透明結構。
4.根據權利要求3所述的觸控面板，其特征在于:該霧化區(qū)域與該非霧化區(qū)域在該第一基板之該第一表面的水平面上互相交錯排列成一螺旋狀。
5.根據權利要求1所述的觸控面板，其特征在于:該霧化區(qū)域系為一不連續(xù)之不透明結構，該非霧化區(qū)域系為一不連續(xù)之透明結構。
6.根據權利要求5所述的觸控面板，其特征在于:該霧化區(qū)域與該非霧化區(qū)域在該第一基板之該第一表面的水平面上互相交錯排列成多個同心圓。
7.根據權利要求1或4或6所述的觸控面板，其特征在于:該霧化區(qū)域具有復數之不透明凹槽，該霧化區(qū)域與該非霧化區(qū)域在垂直于該第一基板之該第一表面的方向上交錯形成波浪狀。
8.根據權利要求1所述的觸控面板，其特征在于:該第一基板進一步具有一經過霧化處理之第二表面，該第一基板之該第二表面具有一第二半透結構，該第二半透結構位于該半透區(qū)域內。
9.根據權利要求8所述的觸控面板,其特征在于:該第一基板第一表面與該第一基板第二表面互相平行。
10.根據權利要求1所述的觸控面板，其特征在于:該觸控面板進一步包括: 一感應區(qū)；一周邊區(qū)，系至少設置于該感應區(qū)之一側，其中該半透區(qū)域系位于該周邊區(qū)中； 一感測電極層，系設置在第一基板的第一表面上且至少位于該感應區(qū)中；以及 一遮蔽層，系設置在第一基板的第一表面上且位于該周邊區(qū)中；其中該半透區(qū)域內不設置該遮蔽層。
11.根據權利要求1所述的觸控面板，其特征在于:該觸控面板進一步包括: 一感應區(qū)； 一周邊區(qū)，系至少設置于該感應區(qū)之一側，其中該半透區(qū)域系位于該周邊區(qū)中； 一第二基板，系位于該第一基板的第一表面上； 一感測電極層，系設置在第二基板上且至少位于該感應區(qū)中；以及一遮蔽層，系設置在第一基板的第一上表面上且位于該周邊區(qū)中；其中該半透區(qū)域內不設置該遮蔽層。
12.根據權利要求10或11所述的觸控面板，其特征在于:更包括一光遮蔽率調整部，系設置于該第一基板的第一表面上，并位于該半透區(qū)域中，其中該光遮蔽率調整部包括一透明結構及一不透明結構；其中于該第一基板的垂直方向上，該第一半透結構之霧化區(qū)域系部分或全部位于該光遮蔽率調整部的透明結構中。
【文檔編號】G06F3/041GK203786695SQ201420071112
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2014年2月19日 優(yōu)先權日:2014年2月19日
【發(fā)明者】羅華, 葉惠林, 余晶, 邱宗科 申請人:宸鴻科技(廈門)有限公司