掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法。掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法包括：獲得包含多個圖案要素的圖案的數(shù)據(jù)；通過使用獲得的圖案的數(shù)據(jù)將圖案的區(qū)域分成多個部分以使得各圖案要素被布置在各部分中，并產(chǎn)生包含指示各部分中的圖案要素的有無的信息的地圖數(shù)據(jù)；通過使用禁止在包含一個部分及其周圍的部分的約束區(qū)域中設(shè)定相同掩模個體信息的約束條件和地圖數(shù)據(jù)，對于包含圖案要素的各部分設(shè)定多條掩模個體信息中的一條掩模個體信息；和通過使用設(shè)定的掩模個體信息產(chǎn)生與多條掩模個體信息對應(yīng)的多個掩模的數(shù)據(jù)。
【專利說明】掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體器件制造過程的光刻過程中使用曝光裝置(光刻裝置)。光刻過程是用于將半導(dǎo)體器件的電路圖案轉(zhuǎn)印到基板(也稱為硅基板、玻璃基板或晶片)上的過程。曝光裝置的照射光學(xué)系統(tǒng)使用從光源發(fā)射的光束照射掩模(中間掩模(reticle))。然后,在掩模上形成的電路圖案經(jīng)由例如投影光學(xué)系統(tǒng)被轉(zhuǎn)印到晶片上。
[0003]近年來，由于半導(dǎo)體器件的圖案小型化，使用被稱為多重構(gòu)圖的方法。根據(jù)該多重構(gòu)圖，通過使用多個掩模多次曝光晶片的一個層。因此，在晶片上形成多個掩模的圖案。
[0004]曝光裝置的分辨率限度由hp=kl X λ/NA表達。在該式中，“hp”是半間距的縮寫，該半間距是兩個相鄰的圖案之間的最短距離的一半。并且，“kl”是與工藝有關(guān)的因子，“ λ ”是曝光波長，并且“NA”是曝光裝置的數(shù)值孔徑。根據(jù)多重構(gòu)圖，具有比曝光裝置的分辨率限度的半間距小的半間距的圖案被分割成多個掩模的圖案。當通過使用獲得的掩模圖案對晶片進行曝光時，可在晶片上形成比分辨率限度更細微的圖案。
[0005]由于用于將一個布局(圖案)分割成多個掩模的圖案的方法與地圖著色類似，因此，它一般被稱為著色問題。在以下的描述中，可通過使用用于著色的表述來描述圖案的分割方法。在美國專利申請公開N0.2007/0031740和美國專利申請公開N0.2011/0078638中討論了用于將原始目標圖案分割成多個掩模的圖案的方法。
[0006]在美國專利申請公開N0.2007/0031740中，描述了重復(fù)應(yīng)用分割規(guī)則的方法。根據(jù)該方法，確定分割規(guī)則。然后，基于分割規(guī)則將目標圖案分成要由第一掩?；虻诙谀Ｐ纬傻膱D案。對于各圖案重復(fù)執(zhí)行該過程。
[0007]美國專利申請公開N0.2011/0078638討論了使用沖突圖(conflict graph)和數(shù)學(xué)編程的圖案分割方法。沖突圖由頂點和邊緣(edge)構(gòu)成。當沖突圖被應(yīng)用于圖案分割時，各掩模圖案由頂點指示，并且，超出分辨率限度的圖案通過邊緣連接。此外，圖案被以如下方式分割:共用邊界(邊緣)的兩個區(qū)域的掩模號碼是不同的。該過程使用整數(shù)規(guī)劃。
[0008]另一方面，根據(jù)向較低kl值的趨勢，已變得難以通過使用在X方向和Y方向上延伸的常規(guī)的二維布局圖案逼真地將希望的圖案轉(zhuǎn)印到晶片上。因此，近年來，已經(jīng)開發(fā)了稱為一維布局技術(shù)的電路圖案的制造方法，諸如在“Low klLogic Design using GriddedDesign Rules”，Michael C.Smayling 等，Proc.0f SPIE Vol.6925 (2008)中討論的技術(shù)。根據(jù)該一維布局技術(shù)，形成單間距線和空間(L/S)圖案。然后，在多個位置處，具有相同尺寸的孔圖案或切割圖案的多個圖案要素在規(guī)則的網(wǎng)格上被曝光。隨后，在圖案要素處切割單間距L/S圖案并制造電路圖案。根據(jù)該方法，不僅與常規(guī)的二維圖案相比減少了曝光面積，而且可以更容易地執(zhí)行曝光處理。
[0009]根據(jù)美國專利申請公開N0.2007/0031740和美國專利申請公開N0.2011/0078638，基于在X方向和Y方向上延伸的二維布局圖案執(zhí)行圖案分割。根據(jù)美國專利申請公開N0.2007/0031740，需要對于所有的二維布局圖案確定目標圖案和其它的圖案是否適用于分割規(guī)則。因此，在計算中需要長的時間。此外，根據(jù)美國專利申請公開N0.2011/0078638，為了產(chǎn)生沖突圖，需要對于所有的二維布局圖案計算圖案之間的距離。因此，長的計算時間是必需的。
[0010]此外，以前不存在美國專利申請公開N0.2007/0031740和美國專利申請公開N0.2011/0078638中討論的圖案分割方法應(yīng)用于一維布局的孔圖案或切割圖案的多個圖案要素的情況。即使該圖案分割方法實際應(yīng)用于多個圖案要素，仍必須通過使用該多個圖案要素的數(shù)據(jù)計算所有圖案要素之間的距離并確定所獲得的距離是否滿足距離的約束條件。因此，長的計算時間是必需的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]本發(fā)明針對可用于在更短的時間內(nèi)通過分割包含多個圖案要素的圖案產(chǎn)生掩模數(shù)據(jù)的掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法。
[0012]根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法，該掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法用于通過使用計算機產(chǎn)生用于多重構(gòu)圖的包含第一掩模和第二掩模的多個掩模的數(shù)據(jù)，該多重構(gòu)圖用于通過使用第一掩模將基板曝光并然后通過使用第二掩模將基板曝光，該方法包括:獲得包含多個圖案要素的圖案的數(shù)據(jù)；通過使用獲得的圖案的數(shù)據(jù)將圖案的區(qū)域分成多個部分(section)以使得各圖案要素被布置在各部分中，并產(chǎn)生包含指示各部分中的圖案要素的有無的信息的地圖數(shù)據(jù)(map data);通過使用約束條件和地圖數(shù)據(jù)對于包含圖案要素的各部分設(shè)定多條掩模個體信息中的一條掩模個體信息，該約束條件禁止在包含一個部分及其周圍的部分的約束區(qū)域中設(shè)定相同掩模個體信息；和通過使用設(shè)定的掩模個體信息產(chǎn)生與多條掩模個體信息對應(yīng)的多個掩模的數(shù)據(jù)。
[0013]參照附圖閱讀示例性實施例的以下的詳細描述，本發(fā)明的其它特征將變得清晰?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0014]圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的第一示例性實施例的掩模數(shù)據(jù)的產(chǎn)生方法的流程圖。
[0015]圖2A和圖2B分別示出圖案和地圖數(shù)據(jù)。
[0016]圖3示出約束區(qū)域。
[0017]圖4A、圖4B和圖4C示出掩模號碼的設(shè)定例子。
[0018]圖5示出不被轉(zhuǎn)換成地圖數(shù)據(jù)的經(jīng)受圖案分割的多邊形數(shù)據(jù)的常規(guī)的例子。
[0019]圖6示出要被分割的圖案的例子。
[0020]圖7是示出根據(jù)本發(fā)明的第二示例性實施例的掩模數(shù)據(jù)的產(chǎn)生方法的流程圖。
[0021]圖8示出沖突圖的例子。
【具體實施方式】
[0022]本發(fā)明可用于產(chǎn)生用于各種器件的制造和微觀結(jié)構(gòu)的掩模(原始板)的圖案的數(shù)據(jù)，這些器件包含諸如集成電路(IC)和大規(guī)模集成(LSI)電路的半導(dǎo)體芯片、諸如液晶面板的顯示器件、諸如磁頭的檢測元件和諸如電荷耦合器件(CCD)傳感器的圖像傳感器。
[0023]首先，描述根據(jù)第一示例性實施例的掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法。圖1是示出根據(jù)第一示例性實施例的掩模數(shù)據(jù)的產(chǎn)生方法的流程圖。產(chǎn)生方法由諸如計算機的信息處理裝置執(zhí)行。根據(jù)該處理，產(chǎn)生用于曝光基板以使得將掩模圖案的圖像轉(zhuǎn)印到基板的曝光裝置(光刻裝置)的掩模的數(shù)據(jù)。[0024]在步驟SlOl中，計算機獲取要被分割的圖案的數(shù)據(jù)。圖2A示出用于一維布局技術(shù)的孔圖案或切割圖案。在圖2A中，圖案2包括分別具有相同的矩形形狀的多個圖案要素
20。根據(jù)本實施例，圖案2被分成例如第一掩模、第二掩模和第三掩模的多個掩模的圖案。一般地，用于在掩模上形成圖像的布局圖案的數(shù)據(jù)被轉(zhuǎn)換成例如GDSII格式的多邊形數(shù)據(jù)并被存儲。計算機獲得圖案2的多邊形數(shù)據(jù)。
[0025]在步驟S102中，計算機將多邊形數(shù)據(jù)格式的圖案2的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成包含多個網(wǎng)格(或任何形式的部分)21的地圖數(shù)據(jù)。在圖2B中示出地圖數(shù)據(jù)的例子。圖案2的區(qū)域被分割成具有相同的寬度的多個方形(或任何形式的部分)21，使得圖案要素20中的每一個被布置在方形21中的一個中。然后，對于方形21中的每一個，向包含圖案要素20的方形分配“1”，并且向不包含圖案要素20的方形分配“O”。由于孔圖案或切割圖案的圖案要素20中的每一個被設(shè)計為基于網(wǎng)格設(shè)計規(guī)則適配入網(wǎng)格中，因此，圖案要素20中的每一個與具有
相同的寬度的方形21中的每一個--應(yīng)對。以這種方式，圖案2的數(shù)據(jù)被轉(zhuǎn)換成包含指示
方形21中的每一個中的圖案要素20的有/無的信息的地圖數(shù)據(jù)。各方形的形狀不限于矩形，并且，可使用任意的形狀，只要各圖案要素與各形狀對應(yīng)即可。此外，作為地圖數(shù)據(jù)，可以使用如下網(wǎng)格地圖數(shù)據(jù)，在該網(wǎng)格地圖數(shù)據(jù)中，通過使諸如各方形的中心的位置與網(wǎng)格的交點匹配利用網(wǎng)格的各交點的坐標表達圖案要素20中的每一個的布置。
[0026]在步驟S103中，計算機確定掩模個體信息的設(shè)定的約束條件。將參照圖3描述約束條件的確定方法。首先，包含一個方形301和方形301周圍的方形302的區(qū)域被設(shè)為約束區(qū)域。在圖3中，約束區(qū)域包含一個方形301 (由★表示)和方形301的上下左右、斜上和斜下的方形302 (由X表示)。在該約束區(qū)域中，由于方形被緊密布置，因此，如果在一個掩模上形成這些方形的圖案要素并通過使用掩模執(zhí)行曝光，那么會降低圖案要素的分辨率。因此，約束條件被應(yīng)用于該約束區(qū)域。根據(jù)該約束條件，在約束區(qū)域中的各方形中禁止使用相同掩模個體信息。
[0027]掩模個體信息為例如掩模的號碼數(shù)據(jù)或顏色數(shù)據(jù)。掩模號碼是與各掩模對應(yīng)的各個體的個體號碼，諸如1、2或3。約束區(qū)域中的方形不限于關(guān)于目標方形的上下左右、斜上和斜下的方形，并且可包含分辨率性能降低的任意位置處的方形。例如，可在約束區(qū)域中包含與作為評價目標的方形相距三個方形的位置處的方形。
[0028]在步驟S104中，計算機從多個方形選擇一個方形作為評價目標。在選擇方形時，計算機選擇包含圖案要素21中的一個的方形，該方形是具有值“I”的方形。例如，計算機選擇圖4A所示的方形401。在步驟S105中，計算機獲得在方形401位于中心的約束區(qū)域402中已設(shè)定的掩模個體信息。在步驟S106中，計算機對于作為評價目標的方形401設(shè)定與約束區(qū)域402中已設(shè)定的掩模個體信息不同的掩模個體信息。
[0029]將參照圖4B描述已確定掩模個體信息(掩模號碼)中的一些的情況。如果方形404是評價目標的方形，那么約束區(qū)域405將是約束區(qū)域。由于已在約束區(qū)域405中使用掩模號碼“1”，因此將對于方形404設(shè)定掩模號碼“2”。
[0030]在步驟S107中，計算機確定在包含圖案要素21的多個方形中是否存在沒有掩模個體信息的方形。如果存在沒有掩模個體信息的方形(在步驟S107中為是(YES))，那么處理返回步驟S104，并且，選擇作為要設(shè)定掩模個體信息的不同的評價目標的方形。然后，重復(fù)步驟S105?S107。雖然在步驟S104中選擇作為具有值“I”的方形的具有圖案要素21的方形并且選擇所選擇的方形設(shè)定于中心的區(qū)域作為約束區(qū)域，但是，方形的選擇不限于這種例子。例如，不管是否存在圖案要素，都可依次選擇所有的方形，并且，可通過將所選擇的方形設(shè)定在中心來設(shè)定約束區(qū)域。如果不存在沒有掩模個體信息的方形(在步驟S107中為否(NO))，那么處理結(jié)束。
[0031]以這種方式，對于包含圖案要素21的所有方形設(shè)定掩模個體信息，并且，輸出數(shù)據(jù)。圖4C示出對于包含圖案要素21的所有方形都設(shè)定了掩模個體信息的地圖數(shù)據(jù)。在圖4C中，對于各方形設(shè)定掩模個體信息的掩模號碼。
[0032]根據(jù)掩模個體信息產(chǎn)生掩模圖案的數(shù)據(jù)，并且，根據(jù)產(chǎn)生的數(shù)據(jù)將圖案2分成多個掩模的圖案。更準確地說，如圖4C所示，圖案2被分成包含與掩模號碼“I”對應(yīng)的圖案要素的第一掩模、包含與掩模號碼“2”對應(yīng)的圖案要素的第二掩模和包含與掩模號碼“3”對應(yīng)的圖案要素的第三掩模的圖案。
[0033]存在多種用于在步驟S106中設(shè)定掩模個體信息的方法。例如，存在分配在約束區(qū)域中未使用的掩模號碼中的最小號碼的方法。根據(jù)圖4B中的例子，例如，在確定作為評價目標的方形404的掩模號碼時，由于已在約束區(qū)域405中使用了掩模號碼“1”，因此，對于方形404設(shè)定作為未使用的掩模號碼中的最小掩模號碼的“2”。此外，存在如下方法，該方法在確定約束區(qū)域中未使用的掩模號碼中的最大掩模號碼(至少為2)之后隨機選擇小于等于該最大掩模號碼的一個號碼。例如，根據(jù)圖4B中的例子，在確定作為評價目標的方形404的掩模號碼時，由于已在約束區(qū)域405中使用掩模號碼“1”，因此，如果最大預(yù)定掩模號碼是“3”，那么隨機確定“2”或“3”作為方形404的掩模號碼。該方法表達為隨機數(shù)字方法。
[0034]將參照圖5描述如下情況，其中如常規(guī)執(zhí)行的那樣在不將多邊形數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成地圖數(shù)據(jù)的情況下將多邊形數(shù)據(jù)分割成圖案。首先，如圖5所示，為了確定成為評價目標的圖案要素501的掩模號碼，計算圖案要素501的中心與所有周圍圖案要素中的每一個的中心之間的距離。然后，確定不滿足圖案要素之間的距離的約束條件的圖案要素。此外，確定是否已對于不滿足約束條件的圖案要素設(shè)定掩模個體信息。如果已設(shè)定掩模個體信息，那么將對于圖案要素501設(shè)定與已設(shè)定的掩模個體信息不同的掩模個體信息。作為評價目標的圖案要素501周圍的圖案要素的數(shù)量越多，則計算距離所花費的時間越長。
[0035]另一方面，根據(jù)本實施例，由于多邊形數(shù)據(jù)被轉(zhuǎn)換其中各圖案要素與各方形相關(guān)聯(lián)的地圖數(shù)據(jù)并且基于地圖數(shù)據(jù)設(shè)定有限面積的約束區(qū)域，因此，可避免不必要地計算所有圖案要素的距離，并且，可減少計算時間。
[0036]圖6示出5600個矩形圖案要素。當通過使用常規(guī)的方法對于不滿足距離的約束條件的各方形設(shè)定不同的掩模個體信息時，在不將多邊形數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成地圖數(shù)據(jù)并計算圖案要素的中心位置之間的距離的情況下，計算時間為4.99秒。另一方面，當如本實施例那樣將多邊形數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成地圖數(shù)據(jù)并根據(jù)隨機數(shù)字方法設(shè)定掩模號碼時，計算時間為0.51秒。因此，計算時間減少到約10%。
[0037]下面，將描述本發(fā)明的第二示例性實施例。圖7是示出根據(jù)第二示例性實施例的掩模數(shù)據(jù)的產(chǎn)生方法的流程圖。[0038]在步驟S701中，計算機獲取要被分割的圖案的數(shù)據(jù)。在步驟S702中，計算機將多邊形數(shù)據(jù)格式的圖案的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成被分割成多個方形的地圖數(shù)據(jù)。在步驟S703中，計算機確定約束條件。步驟S701~S703與根據(jù)第一示例性實施例的步驟SlOl~S103類似。
[0039]在步驟S704中，計算機基于地圖數(shù)據(jù)產(chǎn)生沖突圖。根據(jù)沖突圖，通過使用頂點表達圖案要素，并且，通過邊緣連接超出分辨率限度的頂點。首先，選擇包含圖案要素的一個方形。然后，在包含選擇的方形的約束區(qū)域中，選擇的方形和包含圖案要素的方形通過邊緣連接。這對于包含圖案要素的所有方形被執(zhí)行。該圖的邊緣的一端處的掩模個體信息需要與另一端處的掩模個體信息不同。以這種方式，設(shè)定關(guān)于掩模個體信息的設(shè)定的約束條件。圖8示出圖2B所示的地圖數(shù)據(jù)的沖突圖。它是通過使用圖3所示的約束區(qū)域獲得的。
[0040]在步驟S705中，計算機通過使用整數(shù)規(guī)劃設(shè)定掩模個體信息。以以下的數(shù)學(xué)表達式表達目標是使掩模的數(shù)量最小化的整數(shù)規(guī)劃的例子。
[0041](I)變量的描述
[0042]j:掩模號碼 I < j < m
[0043]m:最大掩模號碼
[0044]Yj:表示是否要使用掩模號碼j的二進制變量,O:使用，1:不使用
[0045]1:圖案要素號碼
[0046]Xij:表示是否對于圖案要素號碼i要使用掩模號碼j的二進制變量，O:使用，1:不使用
[0047](2)數(shù)學(xué)表達式的描述
[0048]代價函數(shù)(目標函 數(shù))表達如下:
m
[0049]最小化Σ J7/

J=I
[0050]這意味著要使用的掩模號碼的數(shù)量要被最小化。
m
[0051]Y^yj(7)

/'=I
[0052]由于數(shù)學(xué)式(7)等于掩模號碼的數(shù)量，因此，如果掩模號碼的數(shù)量從“2”增加到“3”，那么數(shù)學(xué)式(7)的值從“2”變?yōu)椤?”。掩模號碼的數(shù)量是通過分割圖案形成的掩模的數(shù)量。因此，從掩模成本的觀點看，將圖案分成更少數(shù)量的掩模是重要的。
[0053]通過下式表達約束條件:
[0054]Y1 ^ y2 ^......^ ym(8)

Wl
[0055]= I (W)
j={( 9 )
[0056]Xij < yf (Vi, VJ)(10)
[0057]Xij + XiJ ^ I (V/)( n )
[0058]通過下式表達邊界條件:[0059]Y1=I(12)
[0060]數(shù)學(xué)式(8)表示需要以升序分配掩模號碼的約束條件。它是如下約束條件，即如果不使用第一掩模號碼(yl = 0)，那么防止使用第二掩模號碼(y2=l)。
[0061]數(shù)學(xué)式(9)表示對于作為第i個圖案要素的Xi僅要設(shè)定一個掩模號碼。它是防止對于第i個圖案要素設(shè)定第一掩模號碼和第二掩模號碼兩者的約束條件。
[0062]數(shù)學(xué)式(10)表示將不通過使用未被使用的掩模號碼設(shè)定掩模號碼。換句話說，它是防止在未使用第j個掩模號碼(yi = O)時對于第i個圖案要素使用第j個掩模號碼(Xij=I)的約束條件。
[0063]數(shù)學(xué)式(11)表示基于沖突圖的圖案的約束條件。當通過線段連接第i個圖案和第 個圖案時，使用該約束條件。換句話說，當不應(yīng)分配相同的掩模號碼時，使用它。因此，
該約束條件不被應(yīng)用于所有圖案要素。對于一個約束區(qū)域內(nèi)的圖案要素設(shè)定該約束條件。
[0064]關(guān)于邊界條件，將如數(shù)學(xué)式(12)表不的那樣使用第一掩模號碼。
[0065]在步驟S705中，計算機在整數(shù)規(guī)劃的執(zhí)行軟件中輸入上述的數(shù)學(xué)式，執(zhí)行計算，并設(shè)定掩模個體信息。然后，計算機輸出添加了掩模個體信息的方形的數(shù)據(jù)。
[0066]根據(jù)本示例性實施例，當產(chǎn)生多個掩模的圖案的數(shù)據(jù)時在更短的時間內(nèi)分割圖案。
[0067]也可通過如下方式實現(xiàn)上述的示例性實施例，即經(jīng)由網(wǎng)絡(luò)或各種類型的存儲介質(zhì)向系統(tǒng)或裝置供給實現(xiàn)上述的示例性實施例的各功能的軟件程序，并且，系統(tǒng)或裝置中的計算機(或CPU或MPU)讀取和執(zhí)行存儲于這種存儲介質(zhì)中的程序。
[0068]在掩模繪制裝置中輸入如上面描述的那樣產(chǎn)生的掩模的數(shù)據(jù)，并且，制造多個掩模。在曝光裝置的掩模臺架上安裝制造的掩模，并且，通過照射光學(xué)系統(tǒng)照射它。根據(jù)該照射，在晶片上曝光掩模圖案的圖像。在完成使用制造掩模中的一個的晶片的曝光之后，通過使用不同的掩模曝光晶片的同一層。以這種方式，可通過多重構(gòu)圖在晶片的一個層上形成圖案。
[0069]下面，將描述諸如液晶顯示器件的器件的制造方法。液晶顯示器件制造過程包括透明電極的形成過程。透明電極形成過程包括通過氣相沉積向具有透明導(dǎo)電涂層的玻璃基板施加感光材料、在曝光裝置上設(shè)定如上面描述的那樣制造的掩模并曝光施加了感光材料的玻璃基板、以及顯影玻璃基板。
[0070]在上述的曝光裝置中，照射光學(xué)系統(tǒng)用來自光源的光照射掩模，以通過投影光學(xué)系統(tǒng)等將在掩模上形成的電路圖案轉(zhuǎn)印到晶片上。但是，示例性實施例不限于這種曝光裝置。曝光裝置可以是被配置為通過使在模子上形成的圖案與在基板上施加的樹脂相互接觸并然后使樹脂固化或硬化而在基板上形成圖案的壓印裝置。在這種情況下，經(jīng)分割的掩模圖案的數(shù)據(jù)與在模子上形成的圖案對應(yīng)。另外，在示例性實施例中描述的曝光裝置可以是被配置為用電荷粒子束(電子束)在基板上執(zhí)行繪制的裝置。在這種情況下，基于經(jīng)分割的掩模圖案的數(shù)據(jù)控制被配 置為執(zhí)行繪制的裝置。此外，可通過對于各分割的掩模圖案組合使用上述的各種裝置形成圖案的圖像。
[0071]除了液晶顯示器件的制造以外，上述的使用曝光裝置的器件制造方法也適于供諸如半導(dǎo)體器件的器件使用。該方法可包括在曝光裝置上安裝如上面描述的那樣制造的掩模、曝光施加了感光材料的基板并顯影被照射的基板。此外，器件制造方法可包括諸如氧化、成膜、氣相沉積、摻雜、平坦化、蝕刻、抗蝕劑剝離、切割、接合和封裝的其它已知的處理。
[0072]也可通過讀出并執(zhí)行記錄于存儲介質(zhì)(例如，非暫態(tài)計算機可讀存儲介質(zhì))上的計算機可執(zhí)行指令以執(zhí)行上述的本發(fā)明的實施例中的一個或更多個的功能的系統(tǒng)或裝置的計算機、以及通過由系統(tǒng)或裝置的計算機通過例如從存儲介質(zhì)讀出并執(zhí)行計算機可執(zhí)行指令以執(zhí)行上述的實施例中的一個或更多個的功能而執(zhí)行的方法，實現(xiàn)本發(fā)明的實施例。計算機可包括中央處理單元(CPU)、微處理單元(MPU)或其它電路中的一個或更多個，并且可包括單獨的計算機或單獨的計算機處理器的網(wǎng)絡(luò)?？衫鐝木W(wǎng)絡(luò)或存儲介質(zhì)向計算機提供計算機可執(zhí)行指令。存儲介質(zhì)可包括例如硬盤、隨機存取存儲器(RAM)、只讀存儲器(ROM)、分布式計算系統(tǒng)的存儲器、光盤(諸如緊致盤(⑶)、數(shù)字通用盤(DVD)或藍光盤(BD)?))、閃存器件和存儲卡等中的一個或更多個。
[0073]雖然已參照示例性實施例說明了本發(fā)明，但應(yīng)理解，本發(fā)明不限于公開的示例性實施例。以下的權(quán)利要求的范圍應(yīng)被賦予最寬的解釋以包含所有這樣的變更方式和等同的結(jié)構(gòu)和功能。
【權(quán)利要求】
1.一種掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法，所述掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法用于產(chǎn)生用于多重構(gòu)圖的包含第一掩模和第二掩模的多個掩模的數(shù)據(jù)，該多重構(gòu)圖用于通過使用第一掩模將基板構(gòu)圖并然后通過使用第二掩模將所述基板構(gòu)圖，該方法包括: 獲得包含多個圖案要素的圖案的數(shù)據(jù)； 通過使用獲得的圖案的數(shù)據(jù)將圖案的區(qū)域分成多個部分以使得各圖案要素被布置在各部分中，并產(chǎn)生包含指示各部分中的圖案要素的有無的信息的地圖數(shù)據(jù)； 通過使用約束條件和所述地圖數(shù)據(jù)，對于包含圖案要素的每一部分設(shè)定多條掩模個體信息中的一條掩模個體信息，所述約束條件禁止在包含一個部分及其周圍的部分的約束區(qū)域中設(shè)定相同掩模個體信息；和 通過使用設(shè)定的掩模個體信息產(chǎn)生與所述多條掩模個體信息對應(yīng)的所述多個掩模的數(shù)據(jù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法，其中，所述約束區(qū)域是包含一個部分和以所述一個部分為中心的周圍部分的區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法，其中，所述約束區(qū)域是包含一個部分和與所述一個部分相鄰的部分的區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法，還包括通過對于所述多個部分重復(fù)進行如下操作來設(shè)定多條掩模個體信息:從所述多個部分選擇一個部分，并在包含所選擇的部分的約束區(qū)域中的包含圖案要素的部分中設(shè)定與對于所選擇的部分設(shè)定的掩模個體信息不同的掩模個體信息。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法，還包括設(shè)定已被從所述多條掩模個體信息中的不在所述約束區(qū)域中使用的掩模個體信息中隨機選擇的掩模個體信息。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法，還包括通過使用整數(shù)規(guī)劃設(shè)定掩模個體信息
7.根據(jù)權(quán)利要求6的掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法，還包括設(shè)定掩模個體信息，以使得在掩模個體信息的數(shù)量在整數(shù)規(guī)劃中被用作代價函數(shù)的情況下，代價函數(shù)被最小化。
8.根據(jù)權(quán)利要求6的掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法，還包括:如果多個部分中的包含圖案要素的部分被設(shè)定為頂點，那么通過在禁止設(shè)定相同掩模個體信息的約束區(qū)域中通過邊緣連接頂點來設(shè)定約束條件，并且通過使用整數(shù)規(guī)劃設(shè)定掩模個體信息以使得在通過邊緣連接的頂點的部分中不設(shè)定相同掩模個體信息。
9.根據(jù)權(quán)利要求1的掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法，其中，掩模個體信息是號碼數(shù)據(jù)或顏色數(shù)據(jù)。
10.一種導(dǎo)致計算機執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1~9中的任一項的掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法的程序。
11.一種用于執(zhí)行根據(jù)權(quán)利要求1~9中的任一項的掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法的信息處理裝置。
12.—種光刻裝置，該光刻裝置用于通過使用在第一掩模上形成的圖案和在第二掩模上形成的圖案在多重構(gòu)圖中將基板構(gòu)圖，所述多重構(gòu)圖用于通過使用第一掩模將基板構(gòu)圖并然后通過使用第二掩模將所述基板構(gòu)圖， 其中，包含第一掩模和第二掩模的多個掩模的數(shù)據(jù)是通過掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法產(chǎn)生的，并且， 其中，所述掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法包括:獲得包含多個圖案要素的圖案的數(shù)據(jù)； 通過使用獲得的圖案的數(shù)據(jù)將圖案的區(qū)域分成多個部分以使得各圖案要素被布置在各部分中，并產(chǎn)生包含指示各部分中的圖案要素的有無的信息的地圖數(shù)據(jù)； 通過使用約束條件和所述地圖數(shù)據(jù)，對于包含圖案要素的每一部分設(shè)定多條掩模個體信息中的一條掩模個體信息，所述約束條件禁止在包含一個部分及其周圍的部分的約束區(qū)域中設(shè)定相同掩模個體信息；和 通過使用設(shè)定的掩模個體信息產(chǎn)生與所述多條掩模個體信息對應(yīng)的所述多個掩模的數(shù)據(jù)。
13.—種包括通過使用光刻裝置將基板構(gòu)圖并且顯影構(gòu)圖的基板的器件制造方法，其中，光刻裝置通過使用在第一掩模上形成的圖案和在第二掩模上形成的圖案在多重構(gòu)圖中將基板構(gòu)圖，所述多重構(gòu)圖用于通過使用第一掩模將基板構(gòu)圖并然后通過使用第二掩模將基板構(gòu)圖， 其中，包含第一掩模和第二掩模的多個掩模的數(shù)據(jù)是通過掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法產(chǎn)生的，并且， 其中，所述掩模數(shù)據(jù)產(chǎn)生方法包括: 獲得包含多個圖案要素的圖案的數(shù)據(jù)； 通過使用獲得的圖案的數(shù) 據(jù)將圖案的區(qū)域分成多個部分以使得各圖案要素被布置在各部分中，并產(chǎn)生包含指示各部分中的圖案要素的有無的信息的地圖數(shù)據(jù)； 通過使用約束條件和所述地圖數(shù)據(jù)，對于包含圖案要素的每一部分設(shè)定多條掩模個體信息中的一條掩模個體信息，所述約束條件禁止在包含一個部分及其周圍的部分的約束區(qū)域中設(shè)定相同掩模個體信息；和 通過使用設(shè)定的掩模個體信息產(chǎn)生與所述多條掩模個體信息對應(yīng)的所述多個掩模的數(shù)據(jù)。
【文檔編號】G06F17/50GK103473384SQ201310220118
【公開日】2013年12月25日 申請日期:2013年6月5日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月5日
【發(fā)明者】荒井禎 申請人:佳能株式會社