專利名稱：觸控面板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種觸控面板及其制造方法，特別是指使用全蝕刻法的觸控面板制造方法及其制成的觸控面板。
背景技術(shù)：
觸控面板是一片貼著在液晶顯示器上的裝置，它的功能在于使一般使用者借手指或觸控筆輕壓顯示器上的觸控面板，依據(jù)不同感應(yīng)方式感應(yīng)觸壓點(diǎn)訊號，并借觸控面板導(dǎo)線訊號軟板傳到主機(jī)板的電晶體判讀，得到觸壓點(diǎn)的座標(biāo)位置，井分析出使用者要的 圖像，顯示在螢?zāi)?。其中觸控面板感應(yīng)方式大致分為電阻式觸控、電容式觸控、光學(xué)式觸控或超音波式觸控等方式，其中，電阻式觸控及電容式觸控技術(shù)最為成熟，大量應(yīng)用在消費(fèi)市場。請參閱圖4，以電阻式觸控面板為例說明，其包含
相隔開的ー氧化銦錫玻璃D及ー氧化銦錫薄膜E，前述氧化銦錫玻璃D及氧化銦錫薄膜E上各有ー氧化銦錫導(dǎo)電層Dl、E1，并在該氧化銦錫玻璃D及氧化銦錫薄膜E之間間隔設(shè)置多個間隔物F，以及在該氧化銦錫玻璃D及氧化銦錫薄膜E周緣印刷有導(dǎo)電銀膠層D2、E2，再以ー絕緣層G連接在導(dǎo)電銀膠層D2、E2之間，并有ー訊號軟板H連接前述導(dǎo)電銀膠層D2、E2。利用前述導(dǎo)電銀膠層D2、E2在該氧化銦錫玻璃D及氧化銦錫薄膜E之間通入5伏特電壓，當(dāng)使用者觸碰該氧化銦錫薄膜E，使其凹陷與氧化銦錫玻璃D接觸產(chǎn)生電壓變化，借感應(yīng)觸碰點(diǎn)的電壓變化，偵測觸碰點(diǎn)位置，再借由訊號軟板H將電壓變化的類比訊號轉(zhuǎn)換為數(shù)位控制訊號輸入顯示器內(nèi)，達(dá)到觸控的目的。要進(jìn)ー步說明的是，前述氧化銦錫玻璃D及氧化銦錫薄膜E的制造方法大多是使用蝕刻法配合網(wǎng)板印刷制成，以該氧化銦錫玻璃D為例
先在該氧化銦錫玻璃D上印制感光油墨，將感光油墨烘烤干后，進(jìn)行曝光、顯影及蝕刻制程，最后去除余留的感光油墨后，即完成前述氧化銦錫導(dǎo)電層Dl的圖案設(shè)計，并在事先預(yù)留的氧化銦錫玻璃D周緣空白區(qū)域以網(wǎng)板印刷印制前述導(dǎo)電銀膠層D2的走線圖案。然而，前述制造方法仍然具有以下缺失
I.導(dǎo)電性不佳由于金屬銀價格昂貴，導(dǎo)電銀膠通常是銀粉加黏膠的混合物，金屬銀的比率約為30%左右，有時會有訊號傳輸不良的缺陷。2.良率不好利用網(wǎng)板印刷印制方式其管控因子多，品質(zhì)控制不易，而線寬250微米的良率約只有70%，且線寬最窄范圍受限于200微米左右。3.對準(zhǔn)度差利用網(wǎng)板印刷的套印方式容易使導(dǎo)電銀膠層D2的走線接點(diǎn)產(chǎn)生錯位。4.生產(chǎn)效率低為ニ階段制程，同時需一片一片制造，不僅耗費(fèi)人力，且產(chǎn)出速率慢。中國臺灣公告第544824號公開了ー種名稱為“觸控面板內(nèi)之導(dǎo)線制造方法”的發(fā)明專利，該方法形成第一導(dǎo)電層于導(dǎo)電性基板之上；形成第一光阻層于第一導(dǎo)電層之上；除去部分第一光阻層，以定義出第一導(dǎo)電性布線圖案區(qū)域于第一導(dǎo)電層之上；以剩余的部分第一光阻層為罩幕，除去部分第一導(dǎo)電層，直至暴露出部分導(dǎo)電性基板為止；除去第一光阻層；前述方式可以解決線寬過寬及良率不佳的問題，但是仍然是二階段的制造方式，在完成前述氧化銦錫導(dǎo)電層Dl后，需再一次的進(jìn)行外圍走線的曝光、顯影及蝕刻等制程，需要精準(zhǔn)度高的光罩，因此依然有產(chǎn)出速率慢且成本較高的缺失。中國臺灣公告號第201042516號公開了一種名稱為“觸控面板及其制造方法”的發(fā)明專利，此制造方法包含以下步驟形成一透明導(dǎo)電層，形成一金屬層于該透明導(dǎo)電層上，同時圖案化該透明導(dǎo)電層及該金屬層，每一層個別產(chǎn)生一第一圖案及一第二圖案(該第二圖案連接于該第一圖案的外緣)，以及去除該金屬層的該第一圖案；前述方法揭露同時圖案化透明導(dǎo)電層ITO層及金屬層，再去除可視區(qū)的金屬層的技術(shù)特征，較前案制程方便快速，但是金屬層使用銀會造成成本上升，使用前案所揭露的鋁金屬又有導(dǎo)電性不如銀金屬佳的缺點(diǎn)
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種導(dǎo)電性能佳，可準(zhǔn)確對位，提高產(chǎn)出良率的觸控面板及其制造方法，以提高生產(chǎn)速度，降低生產(chǎn)成本。為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明的解決方案是
本發(fā)明預(yù)計使用導(dǎo)電性佳的銅金屬作為金屬層，并配合特定溶劑溶解不屬于走線圖案的銅金屬。一種觸控面板制造方法，步驟包括
A.在一透明基板上涂布一氧化銦錫薄膜，以及在該氧化銦錫薄膜上涂布一銅金屬薄膜在前述銅金屬薄膜上涂布一光阻層，并將該光阻層曝光及顯影后，以蝕刻方式在前述氧化銦錫薄膜及銅金屬薄膜上各形成一電極圖案，以及一走線圖案連接該電極圖案；C.去除該光阻層；D.在前述基板之走線圖案上涂布一抗蝕膜，并利用特定溶劑溶解未涂布該抗蝕膜的銅金屬薄膜，所述特定溶劑是指硫酸銨溶液或酸堿值為9. 5至12的弱堿性蝕刻液；E.去除該抗蝕膜。進(jìn)一步，在步驟B中，利用前述光阻層的阻障，經(jīng)曝光、顯影及蝕刻后，在該基板的一中央可視區(qū)形成前述電極圖案，以及在該中央可視區(qū)外緣一動作區(qū)形成前述走線圖案，并進(jìn)一步使該走線圖案形成一電訊號輸出線路及一控制訊號輸入線路。進(jìn)一步，步驟D先在前述基板上涂布該抗蝕膜，再以曝光及顯影方式去除覆蓋該走線圖案以外的抗蝕膜。進(jìn)一步，在步驟E之后，還有一步驟F，以一訊號轉(zhuǎn)換單元電性連接至前述電訊號輸出線路。進(jìn)一步，前述透明基板為薄膜基板，在前述各步驟中薄膜基板為整卷式生產(chǎn)。一種使用上述方法制成的觸控面板，包括一透明基板，該透明基板上包含有一電極圖案及連接該電極圖案的一走線圖案，其中該電極圖案為氧化銦錫薄膜層，該走線圖案包含氧化銦錫薄膜層及疊置在該氧化銦錫薄膜層上的銅金屬薄膜層。一種使用上述方法制成的觸控面板，包括一透明基板，該透明基板區(qū)隔出一中央可視區(qū)及該中央可視區(qū)外緣的ー動作區(qū)，在該中央可視區(qū)上包含有一電極圖案，在該動作區(qū)上包含有一走線圖案連接該電極圖案，其中該電極圖案為氧化銦錫薄膜層，該走線圖案則包含氧化銦錫薄膜層及迭置在該氧化銦錫薄膜層上的銅金屬薄膜層。ー種使用上述方法制成的觸控面板，包括一透明基板，該透明基板區(qū)隔出ー中央可視區(qū)及該中央可視區(qū)外緣的ー動作區(qū)，在該中央可視區(qū)上包含有一電極圖案，在該動作區(qū)上包含有一走線圖案連接該電極圖案，該走線圖案包含有一電訊號輸出線路及ー控制訊號輸入線路，其中該電極圖案為氧化銦錫薄膜層，該走線圖案包含氧化銦錫薄膜層及疊置在該氧化銦錫薄膜層上的銅金屬薄膜層。采用上述方法及結(jié)構(gòu)后，本發(fā)明觸控面板及其制造方法具有下列功效
I.銅金屬價格較銀金屬便宜且同樣具有極佳導(dǎo)電性。2.同時蝕刻出電極圖案及走線圖案，使兩者可準(zhǔn)確對位，提高產(chǎn)出良率。
3.半導(dǎo)體蝕刻技術(shù)可以形成線寬50微米的走線圖案，可以適應(yīng)越來越復(fù)雜的訊號傳輸。4.配合適當(dāng)機(jī)構(gòu)或曝光光罩，本發(fā)明方法可以同時生產(chǎn)多片觸控面板的基板，不僅生產(chǎn)速度快，也可以節(jié)省人力成本。5.當(dāng)透明基板為薄膜基板時，可使用整卷式的制造方式，在轉(zhuǎn)印完成電極圖案及走線圖案后再進(jìn)行切割，可以避免薄膜基板在搬運(yùn)時造成碰撞破損或造成污染。


圖I為本發(fā)明方法的流程方塊 圖2為本發(fā)明方法實施時各步驟形成的結(jié)構(gòu)示意 圖3為本發(fā)明觸控面板的上視 圖4為現(xiàn)有觸控面板結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式為了進(jìn)一歩解釋本發(fā)明的技術(shù)方案，下面通過具體實施例來對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)闡述。請參閱圖I及圖2所示，本發(fā)明觸控面板制造方法步驟包括
A.在一透明基板I利用濺鍍法或蒸鍍法等方式涂布ー氧化銦錫薄膜2，以及在該氧化銦錫薄膜2上涂布ー銅金屬薄膜3。B.利用半導(dǎo)體蝕刻技術(shù)在前述銅金屬薄膜3上涂布一光阻層4，并將該光阻層4曝光顯影后，以蝕刻方式在前述氧化銦錫薄膜2及銅金屬薄膜3上各形成一電極圖案A位在該基板I的一中央可視區(qū)11，以及ー走線圖案B位在該中央可視區(qū)11外緣的ー動作區(qū)12并連接該電極圖案A，該走線圖案B包括ー電訊號輸出線路BI及ー控制訊號輸入線路B2。C.完成前述電極圖案A及走線圖案B后，去除該光阻層4。D.利用半導(dǎo)體蝕刻技木，先在前述基板I上涂布ー抗蝕膜5，再以曝光及顯影方式去除覆蓋該走線圖案B以外的抗蝕膜5，包括覆蓋在該中央可視區(qū)11全部的抗蝕膜5，井利用特定溶劑溶解未涂布該抗蝕膜5的銅金屬薄膜3，該特定溶劑僅溶解該銅金屬薄膜3而不溶解氧化銦錫薄膜2，而所述的特定溶劑系指硫酸銨溶液或酸堿值為9. 5至12的弱堿性蝕刻液。E.最后并去除該抗蝕膜5，即完成前述基板I上的電極圖案A及走線圖案B的布置。F.為了要使觸控感應(yīng)的類比訊號轉(zhuǎn)換為電腦可判讀的數(shù)位訊號，以一訊號轉(zhuǎn)換單元6電性連接至前述電訊號輸出線路BI，完成后續(xù)組裝程序后即成為熟知的觸控面板。進(jìn)一步說明的是
本發(fā)明是一種全蝕刻法，同時蝕刻出中央可視區(qū)11的電極圖案A及外圍動作區(qū)12的走線圖案B，兩者接點(diǎn)不會產(chǎn)生錯位，且利用半導(dǎo)體蝕刻技術(shù)可以生產(chǎn)線寬約50微米的走線圖案B，可以適應(yīng)越來越復(fù)雜的訊號傳輸，其良率可達(dá)98% ;而利用銅金屬薄膜3制作電極圖案A及走線圖案B具有極佳的電傳導(dǎo)性，訊號感應(yīng)較靈敏；另外，使用半導(dǎo)體蝕刻技術(shù) 可以批次式生產(chǎn)多片觸控面板的基板1，不僅生產(chǎn)效率高，還可以節(jié)省人力成本支出，當(dāng)該透明基板I為薄膜基板時，可使用整卷式的制造方式，在轉(zhuǎn)印完成電極圖案A及走線圖案B后再進(jìn)行切割，避免薄膜基板在搬運(yùn)時造成碰撞破損或造成污染。上述實施例和圖式并非限定本發(fā)明的產(chǎn)品形態(tài)和式樣，任何所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員對其所做的適當(dāng)變化或修飾，皆應(yīng)視為不脫離本發(fā)明的專利范疇。
權(quán)利要求
1.一種觸控面板制造方法，其特征在于，步驟包括 A.在一透明基板上涂布一氧化銦錫薄膜，以及在該氧化銦錫薄膜上涂布一銅金屬薄膜； B.在前述銅金屬薄膜上涂布一光阻層，并將該光阻層曝光及顯影后，以蝕刻方式在前述氧化銦錫薄膜及銅金屬薄膜上各形成一電極圖案，以及一走線圖案連接該電極圖案； C.去除該光阻層； D.在前述基板的走線圖案上涂布一抗蝕膜，并利用特定溶劑溶解未涂布該抗蝕膜的銅金屬薄膜； E.去除該抗蝕膜。
2.如權(quán)利要求I所述的觸控面板制造方法，其特征在于在步驟B中，利用前述光阻層的阻障，經(jīng)曝光、顯影及蝕刻后，在該基板的一中央可視區(qū)形成前述電極圖案，以及在該中央可視區(qū)外緣的一動作區(qū)形成前述走線圖案。
3.如權(quán)利要求2所述的觸控面板制造方法，其特征在于利用前述光阻層的阻障，經(jīng)曝光、顯影及蝕刻后，該走線圖案形成一電訊號輸出線路及一控制訊號輸入線路。
4.如權(quán)利要求I所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟D先在前述基板上涂布該抗蝕膜，再以曝光及顯影方式去除覆蓋該走線圖案以外的抗蝕膜。
5.如權(quán)利要求I或3所述的觸控面板制造方法，其特征在于在步驟E之后，還有一步驟F，將一訊號轉(zhuǎn)換單元連接至前述電訊號輸出線路。
6.如權(quán)利要求I所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟D所述的特定溶劑是指硫酸銨溶液或酸堿值為9. 5至12的弱堿性蝕刻液。
7.如權(quán)利要求I所述的觸控面板制造方法，其特征在于前述透明基板為薄膜基板，在前述各步驟中薄膜基板為整卷式生產(chǎn)。
8.一種使用權(quán)利要求I所述方法制成的觸控面板，其特征在于，包括一透明基板，該透明基板上包含有一電極圖案及連接該電極圖案的一走線圖案，其中該電極圖案為氧化銦錫薄膜層，該走線圖案包含氧化銦錫薄膜層及疊置在該氧化銦錫薄膜層上的銅金屬薄膜層。
9.一種使用權(quán)利要求2所述方法制成的觸控面板，其特征在于，包括一透明基板，該透明基板區(qū)隔出一中央可視區(qū)及該中央可視區(qū)外緣的一動作區(qū)，在該中央可視區(qū)上包含有一電極圖案，在該動作區(qū)上包含有一走線圖案連接該電極圖案，其中該電極圖案為氧化銦錫薄膜層，該走線圖案則包含氧化銦錫薄膜層及迭置在該氧化銦錫薄膜層上的銅金屬薄膜層。
10.一種使用權(quán)利要求3所述方法制成的觸控面板，其特征在于，包括一透明基板，該透明基板區(qū)隔出一中央可視區(qū)及該中央可視區(qū)外緣的一動作區(qū)，在該中央可視區(qū)上包含有一電極圖案，在該動作區(qū)上包含有一走線圖案連接該電極圖案，該走線圖案包含有一電訊號輸出線路及一控制訊號輸入線路，其中該電極圖案為氧化銦錫薄膜層，該走線圖案包含氧化銦錫薄膜層及疊置在該氧化銦錫薄膜層上的銅金屬薄膜層。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種觸控面板及其制造方法，在一透明基板上依序涂布一氧化銦錫薄膜及一銅金屬薄膜，再利用半導(dǎo)體蝕刻技術(shù)在前述氧化銦錫薄膜及銅金屬薄膜上各形成一電極圖案位在前述基板的一中央可視區(qū)，以及一走線圖案位在該中央可視區(qū)外緣的一動作區(qū)，并在該動作區(qū)上涂布一抗蝕膜，再以特定溶劑溶解該中央可視區(qū)范圍內(nèi)的銅金屬薄膜；本發(fā)明方法可利用全蝕刻制程方式制作觸控面板。
文檔編號G06F3/041GK102768586SQ20111011672
公開日2012年11月7日 申請日期2011年5月6日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月6日
發(fā)明者許明松 申請人:許明松