專利名稱：多功能的多層光學(xué)膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明總的涉及觸摸式傳感器。本發(fā)明特別適用于電子顯示系統(tǒng)中所用的器件。
背景技術(shù)：
觸摸屏讓使用者能更方便地與電子顯示系統(tǒng)相互交流而減少或消除了對鍵盤的需求。例如，使用者可以通過在預(yù)先編制程序的圖標(biāo)所標(biāo)識的位置簡單地觸摸屏幕來執(zhí)行一系列復(fù)雜的指令。可以根據(jù)應(yīng)用通過重新編制支持軟件來改變屏幕上所顯示的菜單。
電阻和電容是兩項(xiàng)通用的觸摸式傳感技術(shù)。這兩項(xiàng)技術(shù)通常包括一層或多層透明導(dǎo)電膜作為檢測觸摸位置的電子線路的一部分。
觸摸屏的性能由多種屏幕特性描述。一個特性是透光性。圖象亮度和對比度隨觸摸屏的透光性提高而增加。高透光性特別適合于便攜式器件，這些器件中顯示器通常由工作壽命有限的電池供電?？梢酝ㄟ^改進(jìn)觸摸屏中各層的光學(xué)透明度和降低各界面處的反射來使透光性最優(yōu)化。通常使用抗反射涂層來減少反射損失。
觸摸屏的另一個特性是眩光(glare)量。觸摸屏的拋光表面會將環(huán)境光線鏡面反射向觀看者。這種鏡面反射光通常被稱作眩光，它會降低所顯示信息的可視性。通常可通過賦予該表面光漫射性來減少由拋光表面產(chǎn)生的眩光。這種光漫射性表面有時被稱作毛面或粗糙表面。還可通過在拋光表面上涂覆一層具有毛面或粗糙表面的膜來減少眩光。所述涂層(膜)有時被稱作抗眩光涂層。
觸摸屏的另一個特性是耐久性。一般來說，觸摸屏容易受物理損壞(如劃傷)。使用者可使用觸針、手指、筆或任何便利的觸摸工具來進(jìn)行觸摸。觸摸屏的耐刮擦能力影響到觸摸屏的耐久性，從而影響觸摸屏的壽命。通?？赏ㄟ^在易受刮擦的表面上涂覆一層抗刮擦膜來改進(jìn)觸摸屏的耐久性。這種可刮擦膜有時也被稱作抗磨膜。
觸摸屏還有一個特性是總成本。通常，制造成本隨觸摸屏中層數(shù)的增加而增加。隨著一種觸摸屏性能的提高，一種或多種其它性能通常會下降。例如，在試圖降低制造成本時，觸摸屏中層數(shù)會減少，這樣會犧牲觸摸屏的其它特性，如耐久性、透光性或?qū)Ρ榷?。結(jié)果難免要作出一定的折衷以最好地滿足給定用途的性能標(biāo)準(zhǔn)。因此，仍需要總體性能改進(jìn)的觸摸屏。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明總體涉及觸摸式傳感器和觸摸式傳感顯示器，它們具有一套所需的性能，不會或幾乎不會犧牲一種性能來換取另一種性能，并且還很好地降低了生產(chǎn)成本。
本發(fā)明的一個方面是一種制造觸摸式傳感器組件的方法，該方法包括制造玻璃基材，然后用大氣壓化學(xué)氣相沉積在所述玻璃基材上沉積至少四層膜，第一層膜主要用來提供所需的光學(xué)透明度和薄層電阻，第二層膜主要用來將所述第一層膜與所述基材隔開，第三層膜主要用來抗磨，第四層膜主要用來降低眩光。
本發(fā)明的另一個方面是一種制造用于觸摸式傳感器的光學(xué)組件的方法，該方法包括在玻璃基材上使用相同的沉積技術(shù)在同一生產(chǎn)線上制造形成多層光學(xué)膜，所述多層光學(xué)膜包括主要用來提供所需的光學(xué)透明度和薄層電阻的第一層膜，主要用來將所述第一層膜與所述基材隔開的第二層膜，主要用來提供所需抗磨性的第三層膜。
本發(fā)明的另一個方面是一種制造用于觸摸式傳感器的多層光學(xué)膜的方法，該方法包括在一條生產(chǎn)線上形成玻璃基材，在相同的生產(chǎn)線上用相同的膜沉積工藝沉積一層主要用來提供所需透光性和薄層電阻的透明導(dǎo)電膜和一層主要用來隔開所述導(dǎo)電膜和所述基材的阻擋膜。
本發(fā)明的另一個方面是用于觸摸式傳感器的光學(xué)組件，該組件包括用浮法工藝制得的基材和用相同工藝在基材上形成的至少三層膜，至少第一層膜主要用來提供所需光學(xué)透明度和導(dǎo)電性，至少第二層膜主要用來將所述第一層膜和所述基材隔開，至少第三層膜主要用來提供耐磨性。
本發(fā)明還有一個方面是觸摸式傳感顯示器，該顯示器包括浮法玻璃基材和在所述玻璃基材上用大氣壓化學(xué)氣相沉積工藝形成的至少四層膜，第一層膜主要用來提供預(yù)定的光學(xué)透明度和導(dǎo)電性，第二層膜主要用來將所述第一層膜和所述基材隔開，第三層膜主要用來抗磨，第四層膜主要用來減少眩光。


通過以下結(jié)合附圖對發(fā)明各實(shí)施方案的詳細(xì)說明可以更好地理解本發(fā)明。
圖1是本發(fā)明一個實(shí)施方案的光學(xué)組件的側(cè)面示意圖；圖2是本發(fā)明另一個實(shí)施方案的觸摸式傳感器的三維示意圖；圖3是本發(fā)明另一個實(shí)施方案的光學(xué)組件的側(cè)面示意圖；圖4是本發(fā)明再一個實(shí)施方案的光學(xué)組件的側(cè)面示意圖；圖5是本發(fā)明另一個實(shí)施方案的觸摸式傳感器的三維示意圖；圖6是本發(fā)明另一個實(shí)施方案的光學(xué)組件的側(cè)面示意圖；圖7是本發(fā)明另一個實(shí)施方案的顯示系統(tǒng)的側(cè)面示意圖；圖8A-8D是本發(fā)明其它實(shí)施方案的四個光學(xué)組件的側(cè)面示意圖。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明總的適用于觸摸屏、與電子顯示系統(tǒng)一起使用的觸摸屏，尤其適用于具有高透光性、高對比度、高耐久性、低眩光、低反射和低制造成本的觸摸屏。本發(fā)明能使觸摸屏的所需性能最優(yōu)化而不會犧牲或降低某一種性能以換取另一種性能。而且，本發(fā)明描述了使一單層具備上述所需性能中的一些性能，從而進(jìn)一步降低設(shè)計和制造成本。
觸摸屏工作的基本原理是當(dāng)進(jìn)行觸摸時原本開路的電路閉合了。通過閉合電路產(chǎn)生的信號的性質(zhì)來檢測觸摸位置?？墒褂酶鞣N不同的技術(shù)來檢測觸摸位置。一種技術(shù)是電阻性的。在電阻式觸摸中，施加的觸摸使得兩個原本物理上隔開的導(dǎo)電膜互相之間直接物理接觸。這種物理接觸使原本開路的電路閉合，從而產(chǎn)生了電阻耦合的電信號。所產(chǎn)生信號的性質(zhì)使得能夠?qū)τ|摸位置進(jìn)行檢測。
通常用于檢測觸摸位置的另一種技術(shù)是電容性的。在此情況下，當(dāng)導(dǎo)電性觸摸施加體(如使用者的手指)與導(dǎo)電膜足夠緊密接觸以產(chǎn)生兩個導(dǎo)體之間的電容耦合時，就產(chǎn)生了信號。這兩個導(dǎo)體例如通過接地互相電連接。所產(chǎn)生信號的性質(zhì)使得能夠?qū)τ|摸位置進(jìn)行檢測。其它可用的技術(shù)包括表面聲波、紅外線和力。
本發(fā)明適用于觸摸式傳感屏，該觸摸屏耐刮擦、具有低眩光、低反射、高透光性和低制造成本。本發(fā)明尤其適用于使用電阻性或電容性技術(shù)來檢測觸摸位置的觸摸屏。例如，本發(fā)明的一個實(shí)施方案非常適合用于電容性觸摸屏，該觸摸屏較好地具有最優(yōu)化的耐磨性、抗反射性和較低的制造成本。本發(fā)明的另一個實(shí)施方案特別適用于電阻性觸摸屏，其中導(dǎo)電片具有合乎需要的、成本降低了的光漫射性表面。
根據(jù)本發(fā)明，通過設(shè)計每一層主要提供觸摸式傳感器的一個所需程度的特定性能可以改進(jìn)觸摸式傳感器的總體性能。例如，觸摸式傳感器中的一給定層可以主要用來提供預(yù)定的透光性和薄層電阻。另一層可主要用來提供預(yù)定的耐磨性下限，再有一層可主要用來減少眩光。
根據(jù)本發(fā)明，如果通過設(shè)計一單層多功能層不能有效地同時提供觸摸式傳感器所需的兩種或多種特性，那么就通過設(shè)計單獨(dú)的主要專用于提供預(yù)定水平的所需性能的一層來提供每一種性能。例如，常規(guī)的電容性觸摸式傳感器通常包括一層耐磨膜用來保護(hù)透明導(dǎo)電片免受反復(fù)觸摸造成的損害。這層耐磨膜通常還用來降低反射。然而，耐磨和降低反射這兩種特性的優(yōu)化設(shè)計值通常會使一種或兩種特性減損一些。例如，有效的耐磨材料往往比用來減少反射的材料具有更高的折射率。此外，提供耐磨性的設(shè)計所需要的膜厚往往明顯不同于有效降低反射的設(shè)計。結(jié)果，一單層膜很難同時具有足夠的耐磨性和足夠的降低反射的性能。根據(jù)本發(fā)明，第一層可設(shè)計成主要用來提供足夠的耐磨性，而第二層可設(shè)計成主要用來降低眩光。這兩層具有不同的折射率、厚度和材料組成。
按照本發(fā)明，可通過在同一生產(chǎn)線上依次沉積至少一些組成層來降低由層數(shù)增加所致的生產(chǎn)成本潛在提高。例如，涂層可以在玻璃制造過程中涂覆在玻璃基材上。再如，可在浮法浴中或浮法浴之后將涂層施涂到熱浮法玻璃上。美國專利6,106,892和6,248,397揭示了將氧化硅涂層沉積在熱玻璃上。美國專利5,773,086揭示了將氧化銦涂層沉積在熱玻璃表面上。在本發(fā)明的一個具體實(shí)施方案中，多層光學(xué)組件的制造包括以下步驟。首先，在浮法浴上制造玻璃基材。其次，使用大氣壓化學(xué)氣相沉積(APCVD)在熱玻璃基材上沉積二氧化硅或氧化錫阻擋層，這一過程可以在浮法浴中進(jìn)行或者在從浮法浴中取出玻璃基材后進(jìn)行。接著，在所述阻擋層上沉積一層透明導(dǎo)電層，例如摻氟的氧化錫。該透明的導(dǎo)電層主要用來具備預(yù)定的光學(xué)透明度和薄層電阻。所述阻擋層主要用來將所述透明導(dǎo)電層與浮法玻璃隔開。最后，用APCVD技術(shù)在透明導(dǎo)電膜上沉積抗反射膜涂層，該抗反射膜涂層主要用來將反射減少至所需水平?？梢岳斫猓€可以沉積其它層以提供其它功能，這些沉積可以在同一生產(chǎn)線上或者在不同的生產(chǎn)線上，可使用APCVD或者不同的制造工藝來進(jìn)行。
圖1是本發(fā)明一個具體實(shí)施方案的多層光學(xué)膜100的剖面示意圖。光學(xué)膜100是適合用于例如觸摸式傳感器的組件。光學(xué)膜100包括基材101、透明的導(dǎo)電膜102、耐磨膜103和抗反射膜104。基材101可以是柔性或剛性的?；?01優(yōu)選是高度透光性的。透明的導(dǎo)電膜102主要用來提供所需的光學(xué)透明度、薄層電阻和薄層電阻均勻性。耐磨層103主要用來提供耐磨的最優(yōu)保護(hù)。抗反射膜104主要用來通過利用光干涉將反射降低至所需水平。光學(xué)膜100中不同的膜可以各自是一單層或者是多層。例如，抗反射膜104可包括一層或多層高折射率或低折射率的層。用于抗反射膜104的合適材料包括低折射率(例如折射率范圍是1.35-1.5)的材料，盡管在一些應(yīng)用中其它折射率也可使用。此外，抗反射膜中各層的光學(xué)厚度通常接近四分之一波長，例如在50-150納米范圍內(nèi)，盡管根據(jù)應(yīng)用需要還可使用更薄或更厚的膜，所述光學(xué)厚度定義為各層的物理厚度與折射率的乘積。特別適用于耐磨膜103的材料通常具有高折射率，例如折射率在1.6-2.7的范圍內(nèi)，盡管在一些用途中還可使用其它折射率。此外，為了提供足夠的耐磨性，耐磨膜應(yīng)足夠厚，足夠的厚度可以遠(yuǎn)大于四分之一波長，或者也可以不遠(yuǎn)大于四分之一波長。
為了降低制造成本，已知的光學(xué)膜通常是將一單層膜設(shè)計成具有兩種或多種性能。然而，如上所述，這種方法通常會使設(shè)計參數(shù)發(fā)生沖突，導(dǎo)致性能下降。例如，若在圖1的光學(xué)膜100中將一單層膜設(shè)計成具有耐磨性和降低反射性，則對材料組成、折射率和厚度的要求上會出現(xiàn)潛在沖突，這種沖突通常會導(dǎo)致一種或兩種性能下降一些。更具體來說，例如，主要用來提供足夠耐磨性的耐磨膜103的厚度可能必須大于主要用來將反射降低至所需程度的抗反射膜104的厚度。此外，耐磨膜103的折射率通常大于抗反射膜104的折射率。因此，如果用一單層膜來提供耐磨性和抗反射性，則必將在兩種性能之間作出折衷。本發(fā)明通過設(shè)計一層主要用來提供所需耐磨性的耐磨膜103和一層主要用來降低反射的抗反射膜104來減少上述性能之間折衷的必要。因此，在本發(fā)明中，這些性能中的每一種均是由各層膜單獨(dú)提供的，每一層膜均被設(shè)計成主要提供一個所需程度的特定性能，而無需特別關(guān)注當(dāng)試圖采用較少層來提供多功能時通常需要考慮的性能折衷問題。
盡管本發(fā)明所述的每一層膜主要負(fù)責(zé)提供整個組件中與其相關(guān)的性能，但這些膜也可以對那些不是它們主要負(fù)責(zé)的性能做出貢獻(xiàn)。例如，即使抗反射膜設(shè)計成主要用來提供抗反射性，耐磨膜也可以對降低反射做出貢獻(xiàn)。
另一個例子是被設(shè)計成主要用來提供光學(xué)透明度和導(dǎo)電性的透明導(dǎo)電膜102的厚度通常不同于主要用來降低反射的抗反射膜104的厚度。為了降低制造成本，在已知組件中通常用一單層膜來提供導(dǎo)電性和降低反射的性能。然而，由于導(dǎo)電性和降低反射性的每一種通常要求不同的厚度，因此已知組件的這兩種性能中至少有一種處于不合需要的水平。本發(fā)明通過設(shè)計單獨(dú)的一層膜102用來提供所需的透明度和導(dǎo)電性以及另一層膜104用來使反射降至最低，從而使上述兩種性能最優(yōu)化。
如上所述，光學(xué)膜100的制造成本可以通過在同一合適的生產(chǎn)線上涂覆光學(xué)膜100中的大多數(shù)或全部的膜層而得以降低。制造方法的例子包括化學(xué)氣相沉積(CVD)、APCVD、真空沉積(例如蒸發(fā)或?yàn)R射)、溶劑基涂覆、澆注和固化、以及其它合適的涂覆技術(shù)。
當(dāng)基材101由玻璃制得時APCVD是特別有利的。在這種情況下，可以在制造玻璃基材的同一條生產(chǎn)線上涂覆層102、103和104，由此降低成本。各層可以依次沉積，例如在不同的涂覆段于升高溫度沉積在熱玻璃基材上。于升高溫度在熱基材上的沉積是特別有利的，因?yàn)檫@些條件往往會改進(jìn)沉積膜的光學(xué)性能、電性能和耐久性。耐久性包括機(jī)械耐久性、加工耐久性和環(huán)境耐久性?；蛘?，可以用APCVD沉積膜102和103，用一種不同的方法(如真空沉積)沉積膜104。
可使用真空沉積(如濺射)來沉積層102、103和104?；?01可以是柔性或剛性的。例如，基材101可以是聚合物卷材的形式。在這種情況下，可以在卷材生產(chǎn)線上依次涂覆層102，103和104。
另一種方案是光學(xué)膜100的不同層可以是溶劑涂覆的或者澆注并固化的。例如，可以在柔性聚合物基材卷材上輥涂各層。這種方法在透明導(dǎo)電膜是透明的有機(jī)導(dǎo)電體的情況下特別有利。在這種情況下，層102、103和104可以依次涂覆在基材101上并干燥/固化。
光學(xué)膜100適合用于觸摸式傳感器，尤其適用于電容性觸摸式傳感器。光學(xué)膜100使得能夠獲得高透光性、低反射、高耐磨性和最佳薄層電阻，而不會或幾乎不會犧牲一種性能來換取另一種性能。應(yīng)該理解，盡管光學(xué)膜100中的某一給定層被設(shè)計成主要有利優(yōu)化一種特定性能，但是該層也可以在不損害主要性能的情況下優(yōu)化一種或多種次要性能。這種次要性能的優(yōu)化可以通過設(shè)計完成也可以是隨主要目的附帶產(chǎn)生的。例如，在透明導(dǎo)電膜102被設(shè)計成主要用來提供透明度和光電導(dǎo)性(optical conductivity)的給定應(yīng)用中，層102的厚度可以是使得該層還能降低界面反射。作為另一個例子，在耐磨膜103被設(shè)計成主要用于提供足夠耐磨性的應(yīng)用中，膜厚可以是使得該膜還能降低反射而不會減損預(yù)期的主要的耐磨性能。
光學(xué)膜100還可包括抗眩光性，這可以通過使反射光發(fā)生光漫射來實(shí)現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明不同方面的四個示例性實(shí)施方案分別示于圖8A至8D。圖8A中的光學(xué)膜800A包括具有基本上光滑表面801A′的基材801A，具有基本上光滑表面802A′的透明導(dǎo)電膜802A、具有基本上光滑表面803A′的耐磨膜803A、具有基本上光滑表面804A′的抗反射膜804A以及具有漫射表面805A′的抗眩光膜805A。層801A至804A類似于圖1所述光學(xué)膜100中的各層。
抗眩光膜805A主要用來將鏡面反射減少至特定應(yīng)用所需的程度，例如通過對反射光進(jìn)行漫射來實(shí)現(xiàn)。根據(jù)圖8A，抗眩光膜805A靠毛面805A′來減少眩光。抗眩光膜805A還具有本體漫射性能，例如通過混入折射率不同于周圍材料的顆粒來實(shí)現(xiàn)。毛面805A′可以用多種方法制得。例如，可以用粗糙模具對層805A進(jìn)行壓花來產(chǎn)生毛面，也可以在沉積膜805A時恰當(dāng)?shù)剡x擇沉積參數(shù)來制得毛面。例如，在抗眩光膜805A是溶劑涂覆的情況下，可以選擇干燥條件以使得干燥后得到毛面805A′。或者，可以采用真空沉積、CVD或APCVD來涂覆抗眩光膜805A以使得所得膜具有毛面。另一種方案是抗眩光膜805A可包括一層分散在主體材料中的顆粒涂層，所述顆粒例如通過使主體材料部分突出而賦予該膜以毛面。作為另一個例子，可以在有紋理的模具上澆注并固化膜805A來形成毛面805A′。還有一個方案是將一種材料(如溶膠凝膠)以例如液滴形式噴涂到膜804A上來形成抗眩光膜805A，該噴涂的材料可以與膜804A的材料相同。
根據(jù)圖8A，光學(xué)膜800A靠附加膜805A具備抗眩光性能。另一種方案是對圖1的抗反射膜104的表面進(jìn)行粗糙化來獲得抗眩光性能，如圖8B所示。圖8B中的光學(xué)膜800B包括具有基本上光滑表面801B′的基材801B，具有基本上光滑表面802B′的透明導(dǎo)電膜802B，具有基本上光滑表面803B′的耐磨膜803B以及具有毛面804B′的抗反射膜804B。層801B至803B類似于圖1所述光學(xué)膜100中的各層。在該光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中，主要用來降低反射的抗反射膜804B由于表面804B′而具有額外的抗眩光性能。實(shí)現(xiàn)抗眩光性能不會或幾乎不會減損膜804B的主要性能。
圖8C示出了本發(fā)明的另一個實(shí)施方案。圖8C中的光學(xué)膜800C包括具有基本上光滑表面801C′的基材801C，具有大致光滑表面802C′的透明導(dǎo)電膜802C，具有毛面803B′的耐磨膜803C，以及具有毛面804C′的抗反射膜804C。層801C至802C類似于圖1所述光學(xué)膜100中的各層。在光學(xué)膜800C中，耐磨膜803C主要用來提供足夠的耐磨性。該耐磨膜803C還具有毛面803C′。當(dāng)抗反射膜804C大致適順地涂覆在層803C上時，產(chǎn)生毛面804C，為光學(xué)膜800C提供了抗眩光性能。這一光學(xué)膜結(jié)構(gòu)特別適用于例如在層803C中直接產(chǎn)生粗糙表面要比在層804C中直接產(chǎn)生粗糙表面更為容易或更有利的場合。在光學(xué)膜800C中，通過將層804C基本上適順地涂覆在層803C上而在層803C中直接產(chǎn)生毛面并在層804C中間接產(chǎn)生毛面。
圖8D示出了本發(fā)明再一個方面的光學(xué)膜800D。光學(xué)膜800D包括具有毛面801D′的基材801D，具有毛面802D′的透明導(dǎo)電膜802D，具有毛面803D′的耐磨膜803D，以及具有毛面804D′的抗反射膜804D。在光學(xué)膜800D中，首先在基材801D中直接產(chǎn)生毛面801D′。例如，該毛面801D′可以在制造基材801D時產(chǎn)生。接著，依次大致適順地涂覆層802D至804D(類似于層802C至804C)，在抗反射層804D中得到毛面804D′。例如，當(dāng)基材801D是玻璃時，可以用化學(xué)蝕刻來產(chǎn)生毛面801D′?；蛘撸?01D′可以在制造玻璃基材時產(chǎn)生，例如在有紋理的模具上形成玻璃。接著，于升高溫度在熱玻璃基材上依次適順地涂覆所有其它層，例如采用APCVD方法。因此，采用APCVD方法可以低成本制得光學(xué)膜800D，它具有所需的透光性、抗反射、抗眩光、耐磨性以及導(dǎo)電性。
應(yīng)該理解，圖8中不同層的次序可以根據(jù)應(yīng)用而變化。例如，在圖8D中，可以在沉積透明導(dǎo)電膜802D之前將耐磨膜803D沉積在基材801D上。
圖2示出了本發(fā)明一個實(shí)施方案的電容性觸摸式傳感器200。該電容性觸摸式傳感器200包括觸摸面板210，導(dǎo)線205、206、207、208，以及電子電路209。觸摸面板210包括基材201、透明導(dǎo)電膜202、耐磨膜203和抗反射膜204。觸摸面板210中的各層類似于圖1光學(xué)膜100中所述各層。觸摸面板210是電容性觸摸面板。導(dǎo)線205、206、207和208將透明導(dǎo)電膜202的四個角與電子電路209連接。電子電路209包括用來確定觸摸位置并根據(jù)特定應(yīng)用的需要處理所收集信息的電子電路和軟件。電子電路209還包括用于提供與應(yīng)用有關(guān)的用戶菜單和用于處理信息的軟件。例如，當(dāng)用戶用手指在位置X對觸摸面板210進(jìn)行觸摸時，電流流經(jīng)透明導(dǎo)電膜202的四個角。這一電流與用戶手指或者其它導(dǎo)電性觸摸體產(chǎn)生電容耦合。電子電路209再通過比較流經(jīng)與透明導(dǎo)電膜202四個角相連的四根導(dǎo)線的電流的相對大小來確定觸摸位置。
觸摸面板210還可包括電阻器的布線圖案用來對穿過面板的電場進(jìn)行線性化，該布線圖案未示于圖2，以使圖2簡單化且具有普遍性。一種線性化方法描述于美國專利4,371,746。
觸摸面板210可提供增強(qiáng)了的透光性、降低了的反射以及最優(yōu)的耐磨性，且不會或幾乎不會犧牲一種性能來換取另一種性能?；?01優(yōu)選是透光的，根據(jù)具體應(yīng)用的需要設(shè)計成具有機(jī)械剛性或柔性。透明的導(dǎo)電膜202被設(shè)計成主要提供光學(xué)透明性和所需的薄層電阻。耐磨膜203被設(shè)計成主要使觸摸面板210抗磨損。所述磨損可能發(fā)生于例如使用者用硬質(zhì)或粗糙的觸針觸摸面板或者反復(fù)觸摸面板。耐磨性對于保護(hù)透明導(dǎo)電膜202是重要的，對于保持觸摸面板210在預(yù)期壽命期間的光學(xué)性能、電性能和外觀性能都是重要的?？狗瓷淠?04主要用來降低反射，從而減少眩光并提高對比度?？狗瓷淠?04可以是一單層或多層?？狗瓷淠?04中的每一層通常具有預(yù)定的光學(xué)厚度，例如接近四分之一可見光波長。每一層還可以是有機(jī)或無機(jī)的。應(yīng)該理解，根據(jù)本發(fā)明觸摸面板210的性能(如透光性、薄層電阻、耐磨性和降低反射性)可以被各自獨(dú)立地調(diào)整到所需水平，而無需或幾乎無需犧牲一種性能以換取另一種性能。還應(yīng)該理解，圖2中觸摸面板210的結(jié)構(gòu)可以類似于圖8A-8D中所述的實(shí)施方案或者任何合適的本發(fā)明實(shí)施方案。
圖3示出了本發(fā)明另一個實(shí)施方案的光學(xué)膜300的剖面示意圖。光學(xué)膜300包括基材301、主要用來提供光學(xué)透明性和導(dǎo)電性的透明導(dǎo)電膜303、主要用來提供耐磨性的耐磨膜304、主要用來降低反射的抗反射膜305、以及主要用來減少或消除眩光的抗眩光膜306。光學(xué)膜300還包括主要用來將透明導(dǎo)電膜303與基材301隔開的阻擋膜302。這種隔離能較好地減少或消除基材301和透明導(dǎo)電膜303之間潛在的不希望有的相互作用。一種相互作用可能是基材301和透明導(dǎo)電膜303之間的化學(xué)反應(yīng)，這會對透明導(dǎo)電膜303的例如光學(xué)性能和/或電性能產(chǎn)生不利影響。又如，基材301可包括顆?；螂s質(zhì)，在不存在阻擋膜302的情況下，這些顆粒或雜質(zhì)會遷移到透明導(dǎo)電膜303中，從而不利地影響該透明導(dǎo)電膜303的電性能和/或光學(xué)性能。這種遷移會在加工和制造光學(xué)膜300的過程中、在組裝時、在使用時發(fā)生，或者由于其它原因而產(chǎn)生。阻擋膜302阻止或減少了這種遷移。例如，基材301可以是具有雜質(zhì)(如鈉)的玻璃，透明導(dǎo)電膜303可以是透明的導(dǎo)電性氧化物(TCO)。TCO的例子包括氧化銦錫(ITO)、摻氟的氧化錫、氧化銻錫(ATO)和氧化鋅(ZnO)，例如摻鋁的氧化鋅。在缺少阻擋膜302的情況下，玻璃中的雜質(zhì)會遷移進(jìn)入TCO，由此增加其薄層電阻以及/或者降低其光學(xué)透明度。這種遷移可以例如于升高溫度在短時間內(nèi)產(chǎn)生，也可以于較低溫度在較長時間內(nèi)產(chǎn)生。例如，TCO通常于升高溫度(如150℃或更高)進(jìn)行沉積，于此溫度雜質(zhì)會從基材遷移進(jìn)入經(jīng)沉積的TCO膜，從而降低該TCO膜的導(dǎo)電性和/或光學(xué)透明度。此外，若該TCO膜在膜沉積之后于升高溫度烘焙，則該膜的電性能和光學(xué)性能會改進(jìn)。沉積后的烘焙有時被稱作退火。在不存在阻擋膜的情況下，即便最初在低溫下沉積TCO膜，在退火過程中雜質(zhì)也會從基材遷移進(jìn)入TCO膜。在不存在阻擋膜302的情況下，要求基材301基本上不含雜質(zhì)。要求基材不含雜質(zhì)限制了基材的選擇范圍，也提高了成本。阻擋膜303的加入使得能夠使用含雜質(zhì)的玻璃，例如浮法玻璃。
抗眩光膜306主要用來漫射剩余反射，從而進(jìn)一步減少或消除眩光?？寡９饽?06可依靠含粗糙表面307而具有抗眩光性能。該粗糙表面可以在沉積抗眩光膜306時形成，例如通過優(yōu)化涂覆和干燥條件來形成。表面307還可以用其它方法來形成，包括壓花、微復(fù)制、噴涂或其它方法。或者，抗眩光膜307可包括本體漫射體以賦予該膜以紋理表面。應(yīng)該理解，光學(xué)膜300還可通過包括類似于參照圖8A-8D進(jìn)行描述的結(jié)構(gòu)來具有抗眩光性能。
還應(yīng)該理解，光學(xué)膜300具有所需的透光性、薄層電阻、抗反射、抗眩光和耐磨性，而不會或幾乎不會犧牲一種性能來換取另一種性能。此外，光學(xué)膜300依靠將透明導(dǎo)電膜303與基材301隔開而得以在例如真空或者接近大氣壓環(huán)境下進(jìn)行高溫加工。此外，層304-306中的一層或多層能用來保護(hù)透明導(dǎo)電膜303免受不希望有的影響，例如氧化、空氣中可能存在的雜質(zhì)，以及進(jìn)一步加工時其它可能不希望有的影響。光學(xué)膜300適合用于觸摸式傳感器。例如，光學(xué)膜可用于類似于圖2所示電路的電容性觸摸式傳感器。
圖4是本發(fā)明另一個實(shí)施方案的光學(xué)膜400的剖面示意圖。光學(xué)膜400包括基材410，主要用來提供光學(xué)透明度和導(dǎo)電性的透明導(dǎo)電膜403，以及主要用來將基材401與透明導(dǎo)電膜403隔離開的阻擋膜402。光學(xué)膜400中的不同層類似于參照圖3所述實(shí)施方案中的各層。透明導(dǎo)電膜403具有紋理表面404以減少眩光。因此，在本發(fā)明這個特定的技術(shù)方案中，透明導(dǎo)電膜具有次要的抗眩光性能而不會減損光學(xué)透明度和薄層導(dǎo)電性(sheet conductivity)這些主要性能。紋理表面404可以在沉積透明導(dǎo)電膜403時形成。例如，在真空沉積透明導(dǎo)電膜403時，可以選擇沉積參數(shù)以獲得最終的粗糙表面404?；蛘撸摫砻婵梢酝ㄟ^沉積后的干法或濕法的化學(xué)或物理蝕刻來粗糙化。再或者，可以用CVD或APCVD來沉積具有粗糙表面404的透明導(dǎo)電膜403。例如，阻擋膜403可以用APCVD沉積在熱玻璃基材401上。接著，透明導(dǎo)電膜403可以用APCVD沉積在熱阻擋膜402和基材401上。應(yīng)該理解，圖4中的每一層膜可包括多于一層的膜。
如前所述，APCVD的一個特別優(yōu)點(diǎn)是可以在大氣壓和升高溫度沉積光學(xué)膜400中的大多數(shù)或者全部的層。這些工藝條件通常能降低成本并提高光學(xué)性能和電性能。而且，可以在同一生產(chǎn)線上依次涂覆各層來進(jìn)一步降低成本。APCVD另一個特別的優(yōu)點(diǎn)是可以在制造玻璃基材401的同一生產(chǎn)線上涂覆各層，從而進(jìn)一步降低成本。阻擋膜402減少或消除了雜質(zhì)從基材401向透明導(dǎo)電膜403的遷移。因此，價格便宜的含雜質(zhì)玻璃可用來制造玻璃基材。阻擋膜402能阻隔雜質(zhì)從基材遷移出去，從而使得能夠在升高溫度沉積透明導(dǎo)電膜403，而不會減損導(dǎo)電膜的光學(xué)性能和電性能。應(yīng)該理解，按照本發(fā)明，光學(xué)膜400可具有其它層，例如主要用來增加光學(xué)膜400的耐磨性的耐磨膜。還應(yīng)該理解，類似于參照圖8的討論，毛面404可以直接形成在透明導(dǎo)電膜403上，或者間接形成，例如先在阻擋膜402中直接形成毛面，然后在阻擋膜402上大致適順地涂覆透明導(dǎo)電膜，由此得到毛面404。
圖5示出了本發(fā)明另一個方面的電阻性觸摸式傳感器500的示意圖。電阻性觸摸式面板500包括頂片530和底片540。頂片530包括面朝底片的透明導(dǎo)電體511。電極505與透明導(dǎo)電體511電連接。底片540包括基材501、主要用來提供光學(xué)透明度和薄層導(dǎo)電性的透明導(dǎo)電膜503、以及主要用來將基材501與透明導(dǎo)電膜503隔開的阻擋膜502。透明導(dǎo)電膜503的頂面(面504)可以被粗糙化或紋理化。電極506可以與透明導(dǎo)電膜503電連接。導(dǎo)線507和508將透明導(dǎo)電體511和底面透明導(dǎo)電體503連接到電子電路510中。
施加的觸摸使得頂面透明導(dǎo)電體511和底面透明導(dǎo)電體503在觸摸位置互相物理接觸。觸摸位置如下確定先給電極505施加電壓并使用導(dǎo)電體503來確定觸摸位置的y坐標(biāo)，接著給電極506施加電壓并使用頂片導(dǎo)電體511來確定觸摸位置的x坐標(biāo)。
底片540提供所需的光學(xué)透明度和薄層導(dǎo)電性。粗糙表面504降低或消除眩光。此外，粗糙表面504減少或消除頂片和底片之間尤其是在觸摸位置或附近的光干涉。這種光干涉有時被稱作牛頓環(huán)，通常是觀看者能明顯看到的。牛頓環(huán)通常是不希望有的，因?yàn)樗鼤档蛯Ρ榷?，并使得觸摸式傳感器500所顯示信息不易閱讀。粗糙化的表面504將牛頓環(huán)降低至可接受的程度或者消除了牛頓環(huán)。應(yīng)該理解，按照本發(fā)明，觸摸式傳感器500提供了所需的光學(xué)透明度、眩光、基本上看不到牛頓環(huán)，所需的薄層電阻并降低了制造成本，且不會或幾乎不會犧牲一種性能以換取另一種性能。
圖6示出本發(fā)明另一個實(shí)施方案的光學(xué)膜600的剖面示意圖。該光學(xué)膜600包括具有粗糙頂表面604的基材601、具有粗糙頂表面605的阻擋膜602、以及具有粗糙頂表面606的透明導(dǎo)電膜603。透明導(dǎo)電膜603主要用來提供最優(yōu)的光學(xué)透明度和薄層導(dǎo)電性。透明導(dǎo)電膜603還依靠粗糙表面606而具有次要的抗眩光性。阻擋膜602主要用來將透明導(dǎo)電膜603與基材601隔開，還具有次要的抗眩光性。光學(xué)膜600中的眩光依靠漫射表面604、605和606得以降低或消除。光學(xué)膜600適合用于觸摸式傳感器，并提供所需的光學(xué)透明度、眩光、隔離透明導(dǎo)電膜與基材，并降低制造成本，且不會或幾乎不會犧牲一種性能以換取另一種性能。光學(xué)膜600按如下制得先在基材601中形成漫射表面604，接著在基材601上基本上適順地沉積阻擋膜602，從而使阻擋膜602的頂表面605也被粗糙化或紋理化。表面604和605在紋理和粗糙度方面可以相同。
或者，表面604和605的漫射性能可以不同。然后，在阻擋膜602上基本上適順地沉積透明導(dǎo)電膜603，從而使透明導(dǎo)電膜603的頂表面606也被粗糙化或紋理化。表面604、605和606可以具有相同的紋理和粗糙度?；蛘?，這些表面可具有不同的紋理和/或粗糙度。
光學(xué)膜600是特別適用于例如優(yōu)選是在透明導(dǎo)電膜中按如下形成漫射表面先在基材中形成粗糙表面，然后在基材上依次涂覆阻擋層和透明導(dǎo)電膜，涂覆方式應(yīng)使得基材中的粗糙度至少一定程度地復(fù)制到涂層中。例如，在一些應(yīng)用中，在透明導(dǎo)電膜606中直接形成粗糙表面可能較困難或不太好。這時，可通過在基材中形成粗糙表面然后在該基材上適順地涂覆其它層以復(fù)制該粗糙表面的方法來間接地形成粗糙表面。
由圖6可理解，基材601的表面604也可以是大致光滑的。這種情況下，可以在阻擋膜602中直接產(chǎn)生粗糙表面然后在阻擋膜602上基本上適順地涂覆透明導(dǎo)電膜603來將粗糙表面復(fù)制到透明導(dǎo)電膜603中。
阻擋膜602減少或消除了不希望有的基材601和透明導(dǎo)電膜603之間的相互作用。例如，阻擋膜602可減少或消除雜質(zhì)的遷移?；蛘撸钃跄?02可減少或消除化學(xué)反應(yīng)。通常，阻擋膜602將透明導(dǎo)電膜603與基材601隔離開，這種隔離消除或減少了不希望有的反應(yīng)，這些反應(yīng)在缺乏阻擋膜的情況下會影響到基材和/或透明導(dǎo)電膜的性能。
APCVD可用來制造多層光學(xué)膜600。例如，可用常規(guī)玻璃制造工藝制造玻璃基材601(如浮法玻璃)。接著，在熱玻璃基材上施涂阻擋膜602的涂層。涂覆溫度可超過400℃。涂覆可以在浮法浴中在玻璃上進(jìn)行，也可以在玻璃從浮法浴中取出后進(jìn)行。阻擋膜適順地涂覆在玻璃上以使得在阻擋膜中得到紋理表面605。接著，在阻擋膜上涂覆透明導(dǎo)電膜603，該導(dǎo)電涂層也可以在浮法浴中施涂，涂覆溫度可超過500℃。APCVD用來制造光學(xué)膜600是特別有利的，因?yàn)槟軌蛟谏邷囟仍谕簧a(chǎn)線上制造一些層或所有層，從而降低制造成本。而且，在升高溫度下沉積各層能改進(jìn)各層性能。
另一種優(yōu)選方案是用CVD或者CVD和APCVD的組合來制造光學(xué)膜600。例如，可采用APCVD在基材601上涂覆阻擋膜602，可采用CVD涂覆透明導(dǎo)電膜603。這些涂覆可以在同一生產(chǎn)線上進(jìn)行。也可用其它合適的方法來涂覆各層。例如，透明導(dǎo)電膜603可以是透明的有機(jī)導(dǎo)電體。這種情況下，可以用刮涂、絲網(wǎng)印刷、噴墨印刷或任何其它合適的涂覆方法將有機(jī)導(dǎo)電體涂覆到阻擋膜602上。
基材601可以是剛性或柔性的?；目梢允蔷酆衔锊牧希蛘呷魏晤愋偷牟Ａ?。例如，基材可以是浮法玻璃，也可以由有機(jī)材料(如聚碳酸酯、丙烯酸酯等)制得。阻擋膜602可以是二氧化硅或氧化錫。透明導(dǎo)電膜可以是半導(dǎo)體、摻雜半導(dǎo)體、半金屬、金屬氧化物、有機(jī)導(dǎo)電體、導(dǎo)電性聚合物等。示例性的無機(jī)材料包括透明導(dǎo)電性氧化物，例如ITO、摻氟的氧化錫、ATO等。示例性的有機(jī)材料包括導(dǎo)電性有機(jī)金屬化合物以及導(dǎo)電性聚合物，例如聚吡咯、聚苯胺、聚乙炔和聚噻吩，如歐洲專利公報EP-1-172-831-A2中揭示的物質(zhì)。
圖7是本發(fā)明一個方面的顯示系統(tǒng)700的剖面示意圖。顯示系統(tǒng)700包括顯示器701和觸摸式傳感器702。觸摸式傳感器702包括本發(fā)明一個實(shí)施方案的光學(xué)膜。例如，觸摸式傳感器702可包括圖1的光學(xué)膜100、圖3的光學(xué)膜300、圖6的光學(xué)膜600、圖8A-8D的光學(xué)膜、或者本發(fā)明的任何其它光學(xué)膜。顯示器701可包括永久性或可替換的圖象(例如圖片、地圖、圖標(biāo)等)以及電子顯示器，如液晶顯示器、陰極射線管、等離子顯示器、場致發(fā)光顯示器、有機(jī)場致發(fā)光顯示器、電泳顯示器等。應(yīng)該理解，盡管在圖7中顯示器701和觸摸式傳感器702表示為兩個單獨(dú)的組件，但這兩者可以集成為一個部件。
本文中所引用的所有專利、專利申請和其它公開出版物均全文引為參考。盡管上文詳細(xì)說明了本發(fā)明的具體例子以便于對本發(fā)明的各方面進(jìn)行解釋，應(yīng)該理解本發(fā)明并不限于這些具體的例子。本發(fā)明覆蓋了在權(quán)利要求書所界定的本發(fā)明精神和范圍內(nèi)的所有更改、實(shí)施方案和變化方案。
權(quán)利要求
1.一種制造觸摸式傳感器組件的方法，該方法包括以下步驟在熔融金屬浴中形成熔融玻璃基材，用大氣壓化學(xué)氣相沉積在該玻璃基材上形成至少四層膜，包括第一層膜，主要用來提供預(yù)定的光學(xué)透明度和導(dǎo)電性；第二層膜，主要用來將所述第一層膜與所述玻璃基材隔開；第三層膜，主要用來耐磨；和第四層膜，主要用來降低反射。
2.一種觸摸式傳感器，它包括由權(quán)利要求1所述方法制得的觸摸式傳感器組件。
3.一種制造用于觸摸式傳感器的光學(xué)組件的方法，該方法包括以下步驟在一生產(chǎn)線上形成玻璃基材，在同一生產(chǎn)線上在該玻璃基材上依次布置多層光學(xué)膜，用相同的沉積技術(shù)沉積所述多層光學(xué)膜的每一層，所述多層膜包括第一層膜，主要用來提供預(yù)定的光學(xué)透明度和薄層導(dǎo)電性；位于所述第一層膜和所述基材之間的第二層膜，用來將所述第一層膜與所述基材隔開；和第三層膜，主要用來至少提供預(yù)定的耐磨性。
4.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述觸摸式傳感器是電容性的。
5.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述玻璃在浮法生產(chǎn)線上形成。
6.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于用于依次布置多層光學(xué)膜的技術(shù)包括化學(xué)氣相沉積。
7.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于用于依次布置多層光學(xué)膜的技術(shù)包括大氣壓化學(xué)氣相沉積。
8.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于用于依次布置多層光學(xué)膜的技術(shù)包括真空沉積。
9.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述光學(xué)組件的正面和背面中至少一面是毛面。
10.如權(quán)利要求3所述的多層光學(xué)膜，它還包括主要用于減少眩光的第四層膜。
11.如權(quán)利要求10所述的多層光學(xué)膜，其特征在于所述第四層膜主要用來降低鏡面反射。
12.如權(quán)利要求10所述的多層光學(xué)膜，其特征在于所述第四層膜主要用來降低漫反射。
13.如權(quán)利要求10所述的多層光學(xué)膜，其特征在于所述第四層膜包括二氧化硅。
14.如權(quán)利要求10所述的多層光學(xué)膜，其特征在于所述第四層膜包括氧化鋁。
15.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述玻璃基材含有摻雜劑。
16.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述第一層膜包括氧化銦錫。
17.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述第一層膜包括摻氟的氧化錫。
18.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述第一層膜包括氧化銻錫。
19.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述第一層膜包括氧化鋅。
20.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述第二層膜包括二氧化硅。
21.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述第二層膜包括氧化錫。
22.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述第三層膜包括氧化錫。
23.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述第三層膜包括氧化鋁。
24.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述第三層膜包括氧化鉭。
25.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述第三層膜包括氧化鋯。
26.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述第三層膜包括氧化鈦。
27.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述第三層膜包括亞硝酸鈦。
28.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其特征在于所述第三層膜包括亞硝酸硅。
29.一種制造用于觸摸式傳感器的多層光學(xué)膜的方法，該方法包括以下步驟在一生產(chǎn)線上形成浮法玻璃基材，在同一生產(chǎn)線上進(jìn)行以下操作在玻璃基材上布置透明導(dǎo)電膜，該導(dǎo)電膜主要用來提供預(yù)定的光學(xué)透明度和薄層電阻；在所述透明導(dǎo)電膜和所述玻璃基材之間布置阻擋膜，該阻擋膜主要用來將所述導(dǎo)電膜和所述玻璃基材隔開；其中采用相同的薄膜沉積技術(shù)布置所述透明導(dǎo)電膜和所述阻擋膜。
30.如權(quán)利要求29所述的制造方法，其特征在于所述觸摸式傳感器是電阻性的。
31.如權(quán)利要求29所述的制造方法，其特征在于形成所述玻璃基材包括將所述玻璃浮于熔融金屬上的步驟。
32.如權(quán)利要求29所述的制造方法，其特征在于所述薄膜沉積技術(shù)包括化學(xué)氣相沉積。
33.如權(quán)利要求29所述的制造方法，其特征在于所述薄膜沉積技術(shù)包括大氣壓化學(xué)氣相沉積。
34.如權(quán)利要求29所述的制造方法，其特征在于所述薄膜沉積技術(shù)包括真空沉積。
35.如權(quán)利要求29所述的制造方法，其特征在于所述多層光學(xué)膜的正面和/或背面是毛面。
36.一種觸摸式傳感器，它包括由權(quán)利要求29所述方法制得的多層光學(xué)膜。
37.一種用于觸摸式傳感器的多層光學(xué)組件，所述光學(xué)組件包括布置在透光性基材上的至少三層膜，所述基材是用浮法技術(shù)制造的；所述至少三層膜是用浮法技術(shù)制造的；其中，至少第一層膜主要用來提供預(yù)定的光學(xué)透明度和導(dǎo)電性；至少第二層膜主要用來將所述第一層膜與所述基材隔開；至少第三層膜主要用來提供預(yù)定的耐磨性。
38.如權(quán)利要求37所述的多層光學(xué)組件，其特征在于用來制造所述至少三層膜的制造工藝包括化學(xué)氣相沉積。
39.如權(quán)利要求37所述的多層光學(xué)組件，其特征在于用來制造所述至少三層膜的制造工藝包括大氣壓化學(xué)氣相沉積。
40.如權(quán)利要求37所述的多層光學(xué)組件，其特征在于用來制造所述至少三層膜的制造工藝包括真空沉積。
41.一種觸摸式傳感器系統(tǒng)，它包括使用浮法工藝形成的玻璃基材；采用大氣壓化學(xué)氣相沉積工藝在所述玻璃基材上依次布置的至少四層光學(xué)膜；其中第一層膜主要用來提供預(yù)定的光學(xué)透明度和導(dǎo)電性；第二層膜主要用來將所述第一層膜與所述基材隔開；第三層膜主要用來耐磨；第四層膜主要用來降低反射。
全文摘要
揭示了一種用于觸摸式傳感器的光學(xué)組件，以及該組件的制造方法。該光學(xué)組件包括一個多層光學(xué)膜，至少一些層是使用相同制造方法在同一生產(chǎn)線上制得的。多層膜的每一層主要用來提供所需的相關(guān)性能。
文檔編號G06F3/041GK1675139SQ03819292
公開日2005年9月28日 申請日期2003年7月10日 優(yōu)先權(quán)日2002年8月9日
發(fā)明者S·C·舒爾茨, R·麥柯迪 申請人:3M創(chuàng)新有限公司