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用于ic芯片或mems器件的全流程生產(chǎn)工作站的制作方法

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用于ic芯片或mems器件的全流程生產(chǎn)工作站的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實(shí)用新型涉及一種制造集成電路(IC)芯片或微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)器件的生產(chǎn)設(shè)備,具體涉及一種能夠用于IC芯片或MEMS器件的全流程生產(chǎn)工作站。
【背景技術(shù)】
[0002]眾所周知,集成電路IC和MEMS器件的生產(chǎn)是一項(xiàng)高投資、高技術(shù)、高風(fēng)險(xiǎn)、高收益的產(chǎn)業(yè)。在IC芯片和MEMS器件的生產(chǎn)中涉及到的工藝流程和生產(chǎn)設(shè)備很多,這些生產(chǎn)設(shè)備放置在幾千到上萬(wàn)平米空間的“無(wú)塵室”中,需要幾十到幾百個(gè)的高素質(zhì)專業(yè)人員對(duì)其進(jìn)行操作維護(hù)。昂貴的生產(chǎn)設(shè)備、大規(guī)模無(wú)塵車間的建設(shè)和維護(hù)決定了一條整體生產(chǎn)線的建設(shè)需要幾億到十幾億的投資,從而導(dǎo)致IC芯片和MEMS器件的生產(chǎn)成本居高不下。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于IC芯片或MEMS器件的全流程生產(chǎn)工作站,能夠顯著降低設(shè)備和維護(hù)成本,提高生產(chǎn)效率。
[0004]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:一種用于IC芯片或MEMS器件的全流程生產(chǎn)工作站,包括一個(gè)無(wú)塵的人機(jī)交換腔,用于人工取放工件和控制工作站運(yùn)行;智能傳輸腔,用于傳輸工件到各個(gè)工藝流程腔;一個(gè)或多個(gè)工藝流程腔,設(shè)置在智能傳輸腔的傳輸線路上,由中心運(yùn)輸腔和圍繞中心運(yùn)輸腔設(shè)置的多個(gè)衛(wèi)星腔組成,其中,中心運(yùn)輸腔與智能傳輸腔連接,其內(nèi)部設(shè)置能夠在各個(gè)衛(wèi)星腔內(nèi)取放工件的自動(dòng)抓取設(shè)備,所述衛(wèi)星腔能夠完成設(shè)定的工件生產(chǎn)工藝流程;所述智能傳輸腔、中心運(yùn)輸腔和衛(wèi)星腔內(nèi)的工作環(huán)境和運(yùn)行次序通過(guò)智能控制機(jī)構(gòu)進(jìn)行系統(tǒng)控制。
[0005]優(yōu)選地,所述工作站是單層結(jié)構(gòu),工件通過(guò)平行智能傳輸腔進(jìn)行傳送。
[0006]優(yōu)選地,所述工作站是多層結(jié)構(gòu),工件在同一層內(nèi)通過(guò)平行智能傳輸腔進(jìn)行傳送,工件在層與層之間的通過(guò)上下智能傳輸腔進(jìn)行上下傳送。
[0007]優(yōu)選地,人機(jī)交換腔設(shè)置在第一層。
[0008]優(yōu)選地,所述工件是IC芯片或MEMS器件的原料或半成品或成品。
[0009]優(yōu)選地,每個(gè)工藝流程腔中配備的衛(wèi)星腔的個(gè)數(shù)可以為2、3、4、5、6、7或8。
[0010]優(yōu)選地,所述工作站可應(yīng)用于IC芯片和MEMS器件的生產(chǎn)和封裝,所述衛(wèi)星腔完成的生產(chǎn)工藝是鍵合、焊接、光刻、涂布、顯影、ICP、CVD、PVD、離子注入、清洗、檢測(cè)、分析中的一種或多種。
[0011 ]優(yōu)選地,所述自動(dòng)抓取設(shè)備是機(jī)器人或者機(jī)械手。
[0012]優(yōu)選地,所述智能控制機(jī)構(gòu)設(shè)置在人機(jī)交換腔內(nèi)的,根據(jù)需要將智能傳輸腔、中心運(yùn)輸腔和衛(wèi)星腔設(shè)置為真空、惰性氣體或大氣環(huán)境。
[0013]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型存在以下技術(shù)效果:
[0014]I)采用多功能衛(wèi)星腔組成的工藝流程腔來(lái)完成IC和MEMS器件的生產(chǎn)、檢測(cè)、封裝等工藝流程,不同功能的衛(wèi)星腔可以根據(jù)需要任意組合,在各個(gè)工藝流程腔內(nèi)自由傳送,與線性生產(chǎn)線相比,可以省略完成重復(fù)工序的設(shè)備,顯著降低設(shè)備占用面積;此外,所述腔體之間密封連接,與外界環(huán)境隔離,因此在整個(gè)工作站中只需幾平米至幾十平米高無(wú)塵的人機(jī)交換腔,工作腔體則可以放置在低成本、低潔凈、低維護(hù)的普通廠區(qū),設(shè)備維護(hù)費(fèi)用將大幅降低;再者,本實(shí)用新型的全流程生產(chǎn)工作站可以實(shí)現(xiàn)行業(yè)的理想工作條件,即一片或多片空白晶圓放入工作站,等待I?10天后,完整的IC芯片或MEMS器件生產(chǎn)出來(lái),實(shí)現(xiàn)“原料到器件”全自動(dòng)化生產(chǎn),提高生產(chǎn)效率。上述多種因素將從根本上降低IC或者M(jìn)EMS器件的生產(chǎn)成本;
[0015]2)將全流程工作站設(shè)計(jì)成多層結(jié)構(gòu),各個(gè)工藝流程腔之間通過(guò)水平和豎直智能傳輸腔進(jìn)行傳輸,能夠進(jìn)一步降低設(shè)備占用面積,減少?gòu)S房占用和維護(hù)面積,從而進(jìn)一步降低成本。
【附圖說(shuō)明】
[0016]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例1的平面結(jié)構(gòu)示意圖;
[0017]圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例2的平面結(jié)構(gòu)示意圖;
[0018]圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例3的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0019]圖4是本實(shí)用新型實(shí)施例3中上下智能傳輸腔的側(cè)視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020]以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。
[0021]本實(shí)用新型實(shí)施例中所提供的圖示僅以示意方式說(shuō)明,所以僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的組件而非按照實(shí)際實(shí)施時(shí)的組件數(shù)目、形狀及尺寸繪制。
[0022]實(shí)施例1:參見圖1,是一種全流程生產(chǎn)工作站,可以應(yīng)用于IC芯片和MEMS器件的生產(chǎn)、檢測(cè)和分析,該工作站是單層、直線式的,主要包括:
[0023]無(wú)塵的人機(jī)交換腔10,用于人工取放工件和控制工作站運(yùn)行,所述工件可以是IC芯片或MEMS器件的原料、半成品或成品。
[0024]智能傳輸腔20,連接在人機(jī)交換腔與工藝流程腔之間或者連接在工藝流程腔之間,用于傳輸工件,在本實(shí)施例中,所述智能傳輸腔是水平智能傳輸腔21。
[0025]工藝流程腔30,設(shè)置在智能傳輸腔20的傳輸線路上,由中心運(yùn)輸腔31和圍繞中心運(yùn)輸腔設(shè)置的多個(gè)衛(wèi)星腔32組成,其中,中心運(yùn)輸腔31與水平智能傳輸腔21連接,其內(nèi)部設(shè)置機(jī)器人或者機(jī)械手等自動(dòng)抓取設(shè)備33,能夠在各個(gè)衛(wèi)星腔32內(nèi)取放工件,衛(wèi)星腔32能夠完成工件的生產(chǎn)工藝流程。在本實(shí)施例中,所述工藝流程腔的個(gè)數(shù)為2,其中一個(gè)工藝流程腔具有兩個(gè)衛(wèi)星腔,稱為兩星腔,另外一個(gè)是具有七個(gè)衛(wèi)星腔的七星腔,較少的工藝流程腔可以適用于工藝流程較少的MEMS封裝、檢測(cè)等過(guò)程。
[0026]智能控制機(jī)構(gòu)11,優(yōu)選地設(shè)置在人機(jī)交換腔10內(nèi),可以系統(tǒng)控制工作站運(yùn)行,例如控制智能傳輸腔、中心運(yùn)輸腔和衛(wèi)星腔內(nèi)工作次序,也可以控制這些腔體的工作環(huán)境,例如根據(jù)需要設(shè)置為真空、惰性氣體或大氣環(huán)境。
[0027]本實(shí)施例的工作流程是:I)在人機(jī)交換腔10內(nèi),人工將IC芯片或MEMS器件連托盤一起放入水平智能傳輸腔21內(nèi);2)智能傳輸腔中進(jìn)行抽真空操作并將IC芯片或MEMS器件和托盤通過(guò)傳送履帶傳送至兩星腔中機(jī)械手33能夠覆蓋的位置;3)打開中心運(yùn)輸腔腔門,機(jī)械手33將IC芯片或MEMS器件運(yùn)輸至中心運(yùn)輸腔內(nèi),并根據(jù)設(shè)定好的工藝流程依次將MEMS晶圓片放入兩個(gè)衛(wèi)星腔中進(jìn)行加工,需要注意的是,在放入每個(gè)衛(wèi)星腔中進(jìn)行加工前,需要將中心運(yùn)輸腔內(nèi)的環(huán)境改變成與要放入的衛(wèi)星腔內(nèi)環(huán)境一致,以免污染衛(wèi)星腔內(nèi)環(huán)境;4)將加工后的IC芯片或MEMS器件通過(guò)機(jī)械手33和智能傳輸腔傳遞至七星腔進(jìn)行下一輪加工,按照次序進(jìn)行加工再順著原來(lái)的路徑返回四星腔,在四星腔內(nèi)進(jìn)行一些重復(fù)的工藝流程后,將加工好的IC芯片或MEMS器件放入與人機(jī)交換腔相連接的智能傳輸腔,由人工取出。
[0028]本實(shí)用新型的全流程生產(chǎn)工作站,可以實(shí)現(xiàn)行業(yè)的理想工作條件,即一片或多片空白晶圓放入工作站,等待I?10天后,完整的IC芯片或MEMS器件生產(chǎn)出來(lái),實(shí)現(xiàn)“原料到器件”全自動(dòng)化生產(chǎn),提高生產(chǎn)效率。
[0029]實(shí)施例2:參見圖2,與實(shí)施例1的區(qū)別在于:本實(shí)施例的全流程生產(chǎn)工作站是單層、循環(huán)式的。在整個(gè)工作站中,設(shè)置了兩星腔、三星腔、四星腔、五星腔,相互之間通過(guò)水平智能傳輸腔連接起來(lái)。在人機(jī)交換腔和工藝流程腔之間的智能傳輸腔是通過(guò)傳送履帶傳送到第
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