一種硅單晶晶向偏離度測(cè)試裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于材料晶向測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種硅單晶晶向偏離度測(cè)試裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]單晶及取向性材料在半導(dǎo)體、電磁學(xué)、光學(xué)及機(jī)械等領(lǐng)域都表現(xiàn)出優(yōu)越的性能。在新型結(jié)構(gòu)和功能材料及器件的研究過程中，會(huì)遇到多晶體、一定宏觀尺寸的單晶及大量介于兩者之間的取向性材料，晶體取向測(cè)試和單晶質(zhì)量評(píng)價(jià)越來越受到研究人員的重視。
[0003]晶向偏離度是晶體的軸與晶體方向不吻合時(shí)，其偏離的角度稱為晶向偏離度。晶錠端面與被測(cè)晶向偏離，腐蝕坑對(duì)稱性就會(huì)偏離，利用這種特性就可以確定晶向偏離度。晶向檢測(cè)的常用方法有外貌觀察法、光點(diǎn)定向法和X射線衍射法，其中光點(diǎn)定向法和X射線衍射法都是工業(yè)生產(chǎn)上常用的方法。
[0004]目前國內(nèi)無普通光源，機(jī)械式帶簡單光路控制系統(tǒng)的晶向偏離度測(cè)試儀，國內(nèi)外現(xiàn)在一般采用X光衍射方式測(cè)試晶體晶向變化，國產(chǎn)X光衍射儀屬開放式X光無防護(hù)，且進(jìn)口的費(fèi)較高。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種硅單晶晶向偏離度測(cè)試裝置，該硅單晶晶向偏離度測(cè)試裝置通過利用普通光源系統(tǒng)、光路系統(tǒng)和機(jī)械角度儀實(shí)現(xiàn)硅單晶晶向偏離度測(cè)試，解決了 X光衍射儀的開放式X光無防護(hù)，且進(jìn)口的費(fèi)較高的問題。
[0006]本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)。
[0007]本實(shí)用新型提供的一種硅單晶晶向偏離度測(cè)試裝置，包括普通光源系統(tǒng)、光路系統(tǒng)、鏡面和可調(diào)角度儀；所述普通光源系統(tǒng)的光出口與光路系統(tǒng)的光入口連接，所述光路系統(tǒng)輸出平行光，且平行光穿過鏡面中央的小孔打在置于載物臺(tái)上的被測(cè)物上，所述可調(diào)角度儀測(cè)試反射回鏡面上的晶向圖的偏離程度。
[0008]所述光路系統(tǒng)中的聚光放大裝置先將普通光源聚光，然后通過光柵形成裝置形成光柵后，再通過平行光形成裝置形成平光，形成的平行光通過透鏡輸出。
[0009]所述載物臺(tái)為可調(diào)載物臺(tái)。
[0010]所述普通光源系統(tǒng)為可調(diào)燈座及安裝在可調(diào)燈座上的燈泡。
[0011]所述普通光源系統(tǒng)為可調(diào)的普通光源系統(tǒng)。
[0012]所述透鏡為形成標(biāo)準(zhǔn)平行光的組合透鏡。
[0013]所述鏡面的表面進(jìn)行漫反射處理。
[0014]本實(shí)用新型的有益效果在于:利用普通光源系統(tǒng)和光路系統(tǒng)以形成合適的平行光，并對(duì)鏡面進(jìn)行特殊的漫反射處理達(dá)到合適的漫反射效果，最終實(shí)現(xiàn)光圖像清晰、利于角度調(diào)節(jié)的目的，可調(diào)普通光源系統(tǒng)及鏡面的制作步驟簡單，本實(shí)用新型易于制作且測(cè)試方便，能滿足測(cè)試材料晶向偏離度的測(cè)試目的，測(cè)試回路簡單。
【附圖說明】
[0015]圖1是本實(shí)用新型的原理框圖；
[0016]圖2是本實(shí)用新型的光路簡圖；
[0017]圖中:1_普通光源系統(tǒng)1，2_光路系統(tǒng)2，3_鏡面3，4_載物臺(tái)4，5_可調(diào)角度儀5。
【具體實(shí)施方式】
[0018]下面進(jìn)一步描述本實(shí)用新型的技術(shù)方案，但要求保護(hù)的范圍并不局限于所述。
[0019]如圖1和圖2所示的一種硅單晶晶向偏離度測(cè)試裝置，包括普通光源系統(tǒng)1、光路系統(tǒng)2、鏡面3和可調(diào)角度儀5 ;所述普通光源系統(tǒng)I的光出口與光路系統(tǒng)2的光入口連接，所述光路系統(tǒng)2輸出平行光，且平行光穿過鏡面3中央的小孔打在置于載物臺(tái)4上的被測(cè)物上，所述可調(diào)角度儀5測(cè)試反射回鏡面3上的晶向圖的偏離程度。
[0020]所述光路系統(tǒng)2中的聚光放大裝置先將普通光源聚光，然后通過光柵形成裝置形成光柵后，再通過平行光形成裝置形成平光，形成的平行光通過透鏡輸出。
[0021]所述載物臺(tái)4為可調(diào)載物臺(tái)。
[0022]所述普通光源系統(tǒng)I為可調(diào)燈座及安裝在可調(diào)燈座上的燈泡；普通光源系統(tǒng)I為可調(diào)的普通光源系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)光源全方位的調(diào)節(jié)，實(shí)現(xiàn)最后通過小孔射出的平行光光強(qiáng)足夠滿足測(cè)試需要、使晶向圖可正常高亮在鏡面上實(shí)現(xiàn)。同時(shí)，通過合理調(diào)節(jié)普通光源系統(tǒng)的位置、光路系統(tǒng)2中有吸收聚光以通過透鏡系統(tǒng)形成一定的光路，最終保證平行光從鏡面3的小孔射到樣品表面，樣品上的晶向圖反射到鏡面上。
[0023]所述透鏡為形成標(biāo)準(zhǔn)平行光的組合透鏡。
[0024]所述鏡面3的表面進(jìn)行漫反射處理，實(shí)現(xiàn)光圖像清晰。
[0025]本實(shí)用新型普通光源系統(tǒng)I的光出口接到光路系統(tǒng)2，通過光路系統(tǒng)2形成平行光，形成的平行光通過鏡面3上的小孔將平行光打在置于載物臺(tái)4上的經(jīng)過處理的硅單晶片樣品上，利用可調(diào)角度儀調(diào)節(jié)測(cè)試出反射回鏡面的晶向圖的偏離程度；載物臺(tái)4可全方位移動(dòng)。
[0026]本實(shí)用新型的硅單晶晶向偏離度測(cè)試儀為非X光衍射方式也非氦氖激光，整機(jī)簡單體積小。
[0027]本實(shí)用新型利用普通光源和一個(gè)簡單的光路系統(tǒng)形成合適的平行光，并對(duì)鏡面進(jìn)行特殊的漫反射處理，最終實(shí)現(xiàn)光圖像清晰、利于角度調(diào)節(jié)的目的，可調(diào)普通光源系統(tǒng)及鏡面處理制作簡單，且測(cè)試方便，滿足了測(cè)試材料晶向偏離度的測(cè)試目的，測(cè)試回路簡單。
[0028]利用本實(shí)用新型的測(cè)試回路對(duì)硅單晶材料進(jìn)行晶向偏離度測(cè)試，根據(jù)實(shí)際的測(cè)試結(jié)果，材料的測(cè)試值在規(guī)定范圍內(nèi)，滿足硅單晶材料晶向偏離度的測(cè)試目的，測(cè)試回路簡單，易于制作且測(cè)試方便。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種硅單晶晶向偏離度測(cè)試裝置，包括普通光源系統(tǒng)(I)、光路系統(tǒng)(2)、鏡面(3)、載物臺(tái)(4)和可調(diào)角度儀(5)，其特征在于:所述普通光源系統(tǒng)(I)的光出口與光路系統(tǒng)(2)的光入口連接，所述光路系統(tǒng)(2)輸出平行光，且平行光穿過鏡面(3)中央的小孔打在置于載物臺(tái)(4)上的被測(cè)物上，所述可調(diào)角度儀(5)測(cè)試反射回鏡面(3)上的晶向圖的偏離程度。2.如權(quán)利要求1所述的硅單晶晶向偏離度測(cè)試裝置，其特征在于:所述光路系統(tǒng)(2)中的聚光放大裝置先將普通光源聚光，然后通過光柵形成裝置形成光柵后，再通過平行光形成裝置形成平光，形成的平行光通過透鏡輸出。3.如權(quán)利要求1所述的硅單晶晶向偏離度測(cè)試裝置，其特征在于:所述載物臺(tái)(4)為可調(diào)載物臺(tái)。4.如權(quán)利要求1所述的硅單晶晶向偏離度測(cè)試裝置，其特征在于:所述普通光源系統(tǒng)(I)為可調(diào)燈座及安裝在可調(diào)燈座上的燈泡。5.如權(quán)利要求1所述的硅單晶晶向偏離度測(cè)試裝置，其特征在于:所述普通光源系統(tǒng)(I)為可調(diào)的普通光源系統(tǒng)。6.如權(quán)利要求2所述的硅單晶晶向偏離度測(cè)試裝置，其特征在于:所述透鏡為形成標(biāo)準(zhǔn)平行光的組合透鏡。7.如權(quán)利要求1所述的硅單晶晶向偏離度測(cè)試裝置，其特征在于:所述鏡面(3)的表面進(jìn)行漫反射處理。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種硅單晶晶向偏離度測(cè)試裝置，包括普通光源系統(tǒng)、光路系統(tǒng)、鏡面和可調(diào)角度儀；所述普通光源系統(tǒng)的光出口與光路系統(tǒng)的光入口連接，所述光路系統(tǒng)輸出平行光，且平行光穿過鏡面中央的小孔打在置于載物臺(tái)上的被測(cè)物上，所述可調(diào)角度儀測(cè)試反射回鏡面上的晶向圖的偏離程度。本實(shí)用新型利用普通光源系統(tǒng)和光路系統(tǒng)以形成合適的平行光，并對(duì)鏡面進(jìn)行特殊的漫反射處理達(dá)到合適的漫反射效果，最終實(shí)現(xiàn)光圖像清晰、利于角度調(diào)節(jié)的目的，可調(diào)普通光源系統(tǒng)及鏡面的制作步驟簡單，本實(shí)用新型易于制作且測(cè)試方便，能滿足測(cè)試材料晶向偏離度的測(cè)試目的，測(cè)試回路簡單。
【IPC分類】G01N21/84
【公開號(hào)】CN204924955
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520609250
【發(fā)明人】許秀群, 楊輝, 許云奕, 張開云, 包禎美, 郭麗萍
【申請(qǐng)人】中國振華集團(tuán)永光電子有限公司（國營第八七三廠）
【公開日】2015年12月30日
【申請(qǐng)日】2015年8月13日