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二維探測器陣列刻度系統(tǒng)的制作方法

文檔序號:8838188閱讀:218來源:國知局
二維探測器陣列刻度系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及二維探測器陣列測量領(lǐng)域,特別涉及一種二維探測器陣列刻度系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]目前,國際上最先進(jìn)、精確的放療技術(shù)一一調(diào)強(qiáng)放射治療技術(shù)在我國得到了廣泛應(yīng)用,該技術(shù)是利用醫(yī)用加速器作為母體,配上多葉準(zhǔn)直器和立體定位裝置,配合治療計劃對腫瘤病灶實施照射,避免對正常組織的直接照射。為了保證患者的生命安全,真正達(dá)到精確放療效果,需要對醫(yī)用加速器及治療計劃進(jìn)行劑量測量和劑量驗證。國內(nèi)外已有很多成熟的產(chǎn)品,例如美國sun nuclear的mapcheck,德國PTW的729,我國中國測試技術(shù)研宄院的MD1600等。但是此類產(chǎn)品的測量值是否可靠及準(zhǔn)確,需要一套先進(jìn)的方法對其進(jìn)行刻度來保證。而且此類產(chǎn)品屬于面陣列測量,其探測器通道數(shù)多、面積大,其劑量測量值特別是絕對劑量測量值必須要準(zhǔn)確可靠,這就需要一種刻度方法來克服面積大可能造成的測量不均勻性導(dǎo)致的誤差。
[0003]目前常用刻度方法有三種:一種直接在大射野(射野范圍300mmX300mm)下照射歸一,該方法操作簡單,一次性完成,但是由于大射野輻射場劑量分布不均勻,導(dǎo)致測量不準(zhǔn)確;第二種方法是標(biāo)準(zhǔn)射野下(射野范圍10mmX 100mm),對每個探測器進(jìn)行單獨的刻度,該刻度方法測量值準(zhǔn)確可靠,但操作復(fù)雜,不易實施;第三種方法是采用大射野(射野范圍260mmX 260mm)下,分別在O°、90°、180°三個角度下進(jìn)行照射,能夠消除射野的不均勻性帶來的誤差,但是該方法不能消除大射野在邊緣劑量值低帶來的誤差。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]【要解決的技術(shù)問題】
[0005]本實用新型的目的是提供一種二維探測器陣列刻度系統(tǒng),以解決大射野照射下輻射場劑量分布不均勻、劑量儀存在能量響應(yīng)誤差,從而導(dǎo)致劑量儀測量不準(zhǔn)確的問題。
[0006]【技術(shù)方案】
[0007]本實用新型是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的。
[0008]本實用新型首先涉及一種二維探測器陣列刻度系統(tǒng),其包括輻射源、模體、探測器陣列、與探測器陣列連接的數(shù)據(jù)處理模塊,所述輻射源、模體、探測器陣列從上至下依次設(shè)置,所述輻射源與探測器陣列之間的距離為100cm,所述模體的厚度為5cm,所述模體的長度大于探測器陣列的長度,所述探測器陣列由其水平中軸線和垂直中軸線劃分為第一象限、第二象限、第三象限、第四象限共四個象限,所述四個象限的長度均為140mm、寬度均為140mm,所述數(shù)據(jù)處理模塊包括用于存儲探測器陣列當(dāng)前象限的測量值的第一數(shù)據(jù)存儲單元、用于存儲探測器陣列在繞當(dāng)前象限中心點水平旋轉(zhuǎn)180°后的測量值的第二數(shù)據(jù)存儲單元、用于求取第一數(shù)據(jù)存儲單元數(shù)據(jù)和第二數(shù)據(jù)存儲單元數(shù)據(jù)的平均值的取平均運算單元和用于對取平均運算單元的輸出數(shù)據(jù)進(jìn)行歸一化處理的歸一化單元,所述第一數(shù)據(jù)存儲單元和第二數(shù)據(jù)存儲單元分別與探測器陣列連接,所述取平均運算單元的輸入端分別與第一數(shù)據(jù)存儲單元和第二數(shù)據(jù)存儲單元連接,所述歸一化單元的輸入端與取平均運算單元的輸出端連接。
[0009]作為一種優(yōu)選的實施方式,所述模體的長度至少比探測器陣列的長度大2cm。
[0010]作為另一種優(yōu)選的實施方式,所述系統(tǒng)還包括鋁板和治療床,所述鋁板設(shè)置在探測器陣列與模體之間,所述治療床設(shè)置在探測器陣列的下方。
[0011]作為另一種優(yōu)選的實施方式,所述輻射源為直線加速器,所述模體為固態(tài)水。
[0012]作為另一種優(yōu)選的實施方式,所述探測器陣列的長度為28cm。
[0013]【有益效果】
[0014]本實用新型提出的技術(shù)方案具有以下有益效果:
[0015](I)本實用新型中的二維探測器陣列的探測器在不同能量下具有不同的刻度因子,消除了能量響應(yīng)帶來的誤差。
[0016](2)本實用新型將二維探測器陣列的區(qū)域劃分為4個象限,每個象限分別刻度,消除了輻射場不均勻帶來的誤差。
[0017](3)本實用新型采用300mmX 300mm的大照射野下的中間140mmX 140mm區(qū)域作為均勻輻射場,能夠消除大射野邊緣不均勻帶來的誤差。
[0018](4)本實用新型中的二維探測器陣列分別在0°和180°兩個方向測量,并采用兩個方向測量值的平均值作為最終測量值,進(jìn)一步消除了輻射場不均勻帶來的誤差。
【附圖說明】
[0019]圖1為本實用新型的實施例一提供的二維探測器陣列刻度系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]圖2為本實用新型的實施例一提供的二維探測器陣列與數(shù)據(jù)處理模塊的連接示意圖。
[0021]圖3為本實用新型的實施例二提供的二維探測器陣列刻度方法的流程圖。
[0022]圖4為本實用新型的實施例探測器陣列的象限劃分示意圖。
【具體實施方式】
[0023]為使本實用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚,下面將結(jié)合附圖,對本實用新型的【具體實施方式】進(jìn)行清楚、完整的描述,顯然,所描述的實施例是本實用新型的一部分實施例,而不是全部實施例,也不是對本實用新型的限制?;诒緦嵱眯滦偷膶嵤├?,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在不付出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型的保護(hù)范圍。
[0024]圖1為本實用新型實施例一提供的二維探測器陣列刻度系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示,該系統(tǒng)包括直線加速器1、固態(tài)水2、探測器陣列3、與探測器陣列3連接的數(shù)據(jù)處理模塊6,直線加速器1、固態(tài)水2、探測器陣列3從上至下依次設(shè)置,鋁板4設(shè)置在探測器陣列3與固態(tài)水2之間,治療床5設(shè)置在探測器陣列3的下方,直線加速器I與探測器陣列3之間的距離為100cm,固態(tài)水2的厚度為5cm,固態(tài)水2的長度比探測器陣列3的長度大2cm。需要說明,本實用新型中的探測器陣列3為二維探測器陣列。
[0025]如圖4所示,探測器陣列3由其水平中軸線和垂直中軸線劃分為第一象限、第二象限、第三象限、第四象限共四個象限,其中這四個象限中每個象限的長度均為140_、寬度均為 140mmo
[0026]數(shù)據(jù)處理模塊6包括用于存儲探測器陣列當(dāng)前象限的測量值的第一數(shù)據(jù)存儲單元、用于存儲探測器陣列在繞當(dāng)前象限中心點水平旋轉(zhuǎn)180°后的測量值的第二數(shù)據(jù)存儲單元、用于求取第一數(shù)據(jù)存儲單元數(shù)據(jù)和第二數(shù)據(jù)存儲單元數(shù)據(jù)的平均值的取平均運算單元和用于對取平均運算單元的輸出數(shù)據(jù)進(jìn)行歸一化處理的歸一化單元,具體地,第一數(shù)據(jù)存儲單元和第二數(shù)據(jù)存儲單元分別與探測器陣列連接,取平均運算單元的輸入端分別與第一數(shù)據(jù)存儲單元和第二數(shù)據(jù)存儲單元連接,歸一化單元的輸入端與取平均運算單元的輸出端連接。在實際應(yīng)用過程中,可以采用積分器作為取平均運算單元,采用乘法器作為歸一化單元。
[0027]采用實施例一提供的系統(tǒng)進(jìn)行二維探測器陣列刻度的方法可以參考下述具體方
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