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柔性拋光磨粒群動態(tài)力鏈觀測裝置的制造方法_2

文檔序號:8579115閱讀:來源:國知局
腔,所述的下滑塊28配有應力傳感器29和位移傳感器24,所述的應力傳感器29的數(shù)據(jù)輸出端和位移傳感器24的數(shù)據(jù)輸出端分別與所述的數(shù)據(jù)分析儀12相應的數(shù)據(jù)端連接。
[0022]所述的腔體包括上擋板23、下?lián)醢?6、左滑動擋板22和右滑動擋塊25,所述的上擋板23固定在上滑塊21內(nèi),所述的下?lián)醢?6固定在下滑塊內(nèi),所述的上擋板分別通過左滑動擋板和右滑動擋塊與所述的下?lián)醢褰g接,四個擋板以密封的形式約束光彈顆粒處于觀測區(qū)的中心,并且通過所述的上擋板23和所述的下?lián)醢?6之間的相對位移實現(xiàn)光彈顆粒內(nèi)部力學信息的變化,所述的上滑塊21和所述的下滑塊28分別通過上擋板23和下?lián)醢?6實現(xiàn)二者之間的相對位移。
[0023]所述的上擋板23和所述的下?lián)醢?6相互平行。
[0024]所述的光源采集器11為高分辨率相機。
[0025]所述的數(shù)據(jù)分析儀12采用彩色梯度算法獲取光彈顆粒力學信息,從而獲得相應的力鏈分布圖。
[0026]所述的光源發(fā)生器13采用AOC-193FW,并且發(fā)射的光源直徑為19英寸。
[0027]本實用新型的工作原理在于:
[0028]首先取下透明擋板15,將光彈顆粒群27放在顆??刂颇K2中,可選用AOC-193FW的19英寸光源發(fā)生器13,光源發(fā)生器13發(fā)出光線通過下偏光器14照射到,觀測區(qū)域,由于上滑塊21與下滑塊28都為透明狀態(tài),使得光可以照射到光彈顆粒27上,基于Maxwell關(guān)于應力-光學定理(其中,F(xiàn)(X)代表應力傳感器受力與x軸位移之間的函數(shù);X(t)代表位移傳感器位移與時間之間的函數(shù);k為用于應力傳感器與下滑塊之間的連接彈簧),如果光彈顆粒27不受力,光線通過光彈顆粒27后將不發(fā)生改變;如果光彈顆粒27受力,將產(chǎn)生暫時雙折射現(xiàn)象,即入射的偏振光將沿兩個主應力方向分解為兩束相互垂直的偏振光,而且分解后的這兩束偏振光射出模型時就產(chǎn)生一個相位差,然后可以米用高分辨相機11對上述現(xiàn)象進行圖像采集,并傳送至計算機12進行數(shù)字圖像分析。
[0029]進一步,將光彈顆粒27約束在觀測密閉區(qū)后,通過調(diào)節(jié)左滑動擋板22與右滑動擋板25,使得光彈顆粒27在這個過程中獲得不同的運動狀態(tài),通過位移傳感器24記錄下滑塊28的速度與位移,模擬磨粒在柔性拋光加工時候被施加的速度,通過在上滑塊21與下滑塊28設(shè)計壓力傳感器29,實時測得滑塊內(nèi)部對光彈顆粒27所施加的壓力。將這些數(shù)據(jù)傳送至計算機12,可作為對光彈顆粒27的初始施加參數(shù)。
[0030]進一步,對光彈實驗拍攝得到的數(shù)字圖像進行處理,在此基礎(chǔ)上,結(jié)合彩色梯度算法獲取光彈顆粒材料力學信息,得到力鏈分布圖,驗證磨粒群力傳遞分析理論體系,并觀測顆粒群的幾何位置信息,驗證顆粒物質(zhì)破壞性結(jié)構(gòu)的主要構(gòu)型與形成規(guī)律,并以磨粒群理想切削狀態(tài)為目標得到磨粒群理想控制參數(shù)。
[0031]本說明書實施例所述的內(nèi)容僅僅是對實用新型構(gòu)思的實現(xiàn)形式的列舉,本實用新型的保護范圍不應當被視為僅限于實施例所陳述的具體形式,本實用新型的保護范圍也包括本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)本實用新型構(gòu)思所能夠想到的等同技術(shù)手段。
【主權(quán)項】
1.柔性拋光磨粒群動態(tài)力鏈觀測裝置,其特征在于:包括圖像處理裝置和顆??刂蒲b置,所述的圖像處理裝置包括光源發(fā)生器、光源采集器、數(shù)據(jù)分析儀,所述的光源發(fā)生器位于觀測區(qū)最低端,并且光源發(fā)生器發(fā)射的光源穿過下偏振光器指向位于由下偏振光器和上偏振光器組成的觀測區(qū)之間的顆??刂蒲b置;所述的顆??刂蒲b置的上表面覆蓋透明擋板;所述的光源采集器位于上偏振光器的正上方,并且光源采集器的光源采集視野覆蓋通過上偏振光器透射出的光源;所述的數(shù)據(jù)分析儀的數(shù)據(jù)輸入端與所述的光源采集器的數(shù)據(jù)輸出端相連、所述的數(shù)據(jù)分析儀的數(shù)據(jù)信號輸出端與數(shù)據(jù)分析儀的顯示屏連接; 所述的顆??刂蒲b置包括透明的上滑塊、透明的下滑塊、用于容納光彈顆粒的容納腔,所述的下滑塊配有應力傳感器和位移傳感器,所述的應力傳感器的數(shù)據(jù)輸出端和位移傳感器的數(shù)據(jù)輸出端分別與所述的數(shù)據(jù)分析儀相應的數(shù)據(jù)端連接。
2.如權(quán)利要求1所述的柔性拋光磨粒群動態(tài)力鏈觀測裝置,其特征在于:腔體包括上擋板、下?lián)醢?、左滑動擋板和右滑動擋塊,所述的上擋板固定在上滑塊內(nèi),所述的下?lián)醢骞潭ㄔ谙禄瑝K內(nèi),所述的上擋板分別通過左滑動擋板和右滑動擋塊與所述的下?lián)醢褰g接,四個擋板以密封的形式約束光彈顆粒處于觀測區(qū)的中心,并且通過所述的上擋板和所述的下?lián)醢逯g的相對位移實現(xiàn)光彈顆粒內(nèi)部力學信息的變化,所述的上滑塊和所述的下滑塊分別通過上擋板和下?lián)醢鍖崿F(xiàn)二者之間的相對位移。
3.如權(quán)利要求2所述的柔性拋光磨粒群動態(tài)力鏈觀測裝置,其特征在于:所述的上擋板和所述的下?lián)醢逑嗷テ叫小?br>4.如權(quán)利要求1所述的柔性拋光磨粒群動態(tài)力鏈觀測裝置,其特征在于:所述的光源采集器為高分辨率相機。
5.如權(quán)利要求1所述的柔性拋光磨粒群動態(tài)力鏈觀測裝置,其特征在于:所述的數(shù)據(jù)分析儀采用彩色梯度算法獲取光彈顆粒力學信息,從而獲得相應的力鏈分布圖。
6.如權(quán)利要求1所述的柔性拋光磨粒群動態(tài)力鏈觀測裝置,其特征在于:所述的光源發(fā)生器采用A0C-193FW,并且發(fā)射的光源直徑為19英寸。
【專利摘要】柔性拋光磨粒群動態(tài)力鏈觀測裝置,包括圖像處理裝置和顆粒控制裝置,圖像處理裝置包括光源發(fā)生器、光源采集器、數(shù)據(jù)分析儀,光源發(fā)生器位于觀測區(qū)最低端,光源發(fā)生器發(fā)射的光源穿過下偏振光器指向位于由下偏振光器和上偏振光器組成的觀測區(qū)之間的顆??刂蒲b置;顆??刂蒲b置的上表面覆蓋透明擋板;光源采集器位于上偏振光器的正上方,光源采集器的光源采集視野覆蓋通過上偏振光器透射出的光源;數(shù)據(jù)分析儀的數(shù)據(jù)輸入端與光源采集器的數(shù)據(jù)輸出端相連、數(shù)據(jù)分析儀的數(shù)據(jù)信號輸出端與數(shù)據(jù)分析儀的顯示屏連接。本實用新型的有益效果在于:光彈顆粒的外部施加參數(shù)可實時被檢測,通過滑塊進行光彈顆粒運動狀態(tài)的調(diào)整,實現(xiàn)對柔性拋光加工實驗的模擬。
【IPC分類】G01L1-24
【公開號】CN204286652
【申請?zhí)枴緾N201420631443
【發(fā)明人】曾晰, 計時鳴, 潘燁, 金明生, 張利
【申請人】浙江工業(yè)大學
【公開日】2015年4月22日
【申請日】2014年10月28日
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