本發(fā)明涉及x射線衍射數(shù)據(jù)處理裝置和利用了該裝置的x射線分析裝置，該x射線衍射數(shù)據(jù)處理裝置用于對(duì)使用x射線分析裝置在多個(gè)掃描角度2θ/θ得到的衍射x射線的二維檢測(cè)數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，該x射線分析裝置通過(guò)二維x射線檢測(cè)器檢測(cè)由試樣衍射的衍射x射線。

背景技術(shù)：

1、以往，在x射線分析裝置中，為了得到所期望的分析結(jié)果，在測(cè)定開(kāi)始前預(yù)先進(jìn)行各種調(diào)整。因此，存在與測(cè)定數(shù)據(jù)的獲取相關(guān)的整體時(shí)間變長(zhǎng)的課題。

2、例如，在稱(chēng)為搖擺曲線測(cè)定的x射線分析中，如專(zhuān)利文獻(xiàn)1、非專(zhuān)利文獻(xiàn)1所公開(kāi)的那樣，需要在測(cè)定開(kāi)始前調(diào)整移位軸(軸豎立調(diào)整)，使得在入射x射線和衍射x射線所形成的散射面上存在倒格點(diǎn)。這是因?yàn)椋舻垢顸c(diǎn)從散射面偏移，則由二維x射線檢測(cè)器檢測(cè)的衍射峰的位置、寬度將與實(shí)際的值不同，因此分析精度有可能降低。

3、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

4、專(zhuān)利文獻(xiàn)

5、專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2010-249784號(hào)公報(bào)

6、非專(zhuān)利文獻(xiàn)

7、非專(zhuān)利文獻(xiàn)1：紺谷貴之“薄膜x線測(cè)定法基礎(chǔ)講座第3回高分解能x線回折法”理學(xué)雜志39(2)2008?10-17頁(yè)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的問(wèn)題

2、本發(fā)明是鑒于上述的現(xiàn)有技術(shù)的課題而完成的，其目的在于，通過(guò)改良測(cè)定數(shù)據(jù)的處理內(nèi)容，使得不需要測(cè)定開(kāi)始前的各種調(diào)整，實(shí)現(xiàn)與測(cè)定數(shù)據(jù)的獲取有關(guān)的整體時(shí)間的縮短化。

3、用于解決問(wèn)題的方案

4、本發(fā)明的x射線衍射數(shù)據(jù)處理裝置用于對(duì)二維檢測(cè)數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，所述二維檢測(cè)數(shù)據(jù)是使用x射線分析裝置對(duì)入射x射線的入射角度θ和配置所述x射線檢測(cè)器的角度方向2θ進(jìn)行掃描、在多個(gè)掃描角度2θ/θ得到的衍射x射線的二維檢測(cè)數(shù)據(jù)，所述x射線分析裝置從入射角度θ的方向?qū)υ谠嚇拥谋砻嫔显O(shè)定的測(cè)定點(diǎn)照射所述入射x射線，并且相對(duì)于所述入射角度θ的方向在2θ的角度方向上配置二維x射線檢測(cè)器，通過(guò)所述二維x射線檢測(cè)器檢測(cè)由所述試樣衍射后的衍射x射線，其中，該x射線衍射數(shù)據(jù)處理裝置的特征在于，具備：峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)提取部，從在所述多個(gè)掃描角度2θ/θ得到衍射x射線的二維檢測(cè)數(shù)據(jù)中提取x射線強(qiáng)度最大的衍射x射線的二維檢測(cè)數(shù)據(jù)即峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)；峰位置確定部，根據(jù)所述峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)確定x射線強(qiáng)度最大的位置即峰位置；以及數(shù)據(jù)處理部，利用關(guān)于所述峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)確定的所述峰位置的位置信息執(zhí)行數(shù)據(jù)處理。

5、另外，在本發(fā)明的x射線衍射數(shù)據(jù)處理裝置中，其特征在于，所述數(shù)據(jù)處理部包括：對(duì)象區(qū)域設(shè)定部，設(shè)定包圍所述峰位置的對(duì)象區(qū)域；以及輪廓生成部，對(duì)在所述多個(gè)掃描角度2θ/θ得到的衍射x射線的各二維檢測(cè)數(shù)據(jù)的每一個(gè)，累計(jì)與所述對(duì)象區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域內(nèi)的x射線強(qiáng)度，基于對(duì)這些各二維檢測(cè)數(shù)據(jù)的每一個(gè)累計(jì)得到的x射線強(qiáng)度，制作搖擺曲線輪廓。

6、另外，在本發(fā)明的x射線衍射數(shù)據(jù)處理裝置中，其特征在于，所述二維x射線檢測(cè)器具有用于檢測(cè)衍射x射線的檢測(cè)面，并且在該檢測(cè)面預(yù)先設(shè)定有基準(zhǔn)檢測(cè)點(diǎn)，被配置為在從入射角度θ的方向?qū)?duì)稱(chēng)反射的試樣的表面照射入射x射線時(shí)，從該試樣的表面在衍射角度2θ的方向上出現(xiàn)的衍射x射線的光軸向所述基準(zhǔn)檢測(cè)點(diǎn)入射，所述峰位置確定部是求出記錄于所述峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)中的所述峰位置與所述基準(zhǔn)檢測(cè)點(diǎn)之間的偏置量的結(jié)構(gòu)。

7、在此，特征在于，所述峰位置確定部是求出以下的δω和δχ來(lái)作為所述峰位置與所述基準(zhǔn)檢測(cè)點(diǎn)之間的偏置量的結(jié)構(gòu)：

8、δω：沿著伴隨2θ/θ掃描的所述基準(zhǔn)檢測(cè)點(diǎn)的軌跡ω的偏置量

9、δχ：沿著在掃描角度2θ/θ＝0°下的所述基準(zhǔn)檢測(cè)點(diǎn)為中心的圓弧軌道χ的偏置量。

10、另外，在本發(fā)明的x射線衍射數(shù)據(jù)處理裝置中，其特征在于，所述對(duì)象區(qū)域設(shè)定部具有任意地調(diào)整包圍所述峰位置的對(duì)象區(qū)域的與所述2θ的角度方向?qū)?yīng)的寬度的功能。

11、另外，在本發(fā)明的x射線衍射數(shù)據(jù)處理裝置中，其特征在于，所述數(shù)據(jù)處理部包括：峰移位量計(jì)算部，將平板狀的所述試樣作為對(duì)象，對(duì)關(guān)于在該試樣的表面設(shè)定的直線上的多個(gè)測(cè)定點(diǎn)獲取到的所述峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)的所述掃描角度2θ/θ進(jìn)行對(duì)比，求出該掃描角度2θ/θ的移位量；以及曲率半徑計(jì)算部，基于由所述峰移位量計(jì)算部求出的所述掃描角度2θ/θ的移位量，計(jì)算所述試樣的晶格面的曲率半徑。

12、接下來(lái)，本發(fā)明的x射線分析裝置從入射角度θ的方向?qū)υ谠嚇拥谋砻嫔显O(shè)定的測(cè)定點(diǎn)照射入射x射線，并且相對(duì)于所述入射角度θ的方向在2θ的角度方向上配置二維x射線檢測(cè)器，通過(guò)所述二維x射線檢測(cè)器檢測(cè)由所述試樣衍射的衍射x射線，其特征在于，具備上述結(jié)構(gòu)的x射線衍射數(shù)據(jù)處理裝置。

13、另外，在本發(fā)明的x射線分析裝置中，其特征在于，具備：用于載置所述試樣的升降自如的試樣臺(tái)；以及試樣臺(tái)控制部，至少具有控制所述試樣臺(tái)的高度的功能，所述試樣臺(tái)控制部是基于關(guān)于所述峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)的所述峰位置來(lái)調(diào)整所述試樣臺(tái)的高度的結(jié)構(gòu)。

14、另外，在本發(fā)明的x射線分析裝置中，其特征在于，所述x射線衍射數(shù)據(jù)處理裝置具備：存儲(chǔ)部，將在所述試樣的表面上設(shè)定的測(cè)定點(diǎn)被配置于所述入射x射線的照射點(diǎn)的狀態(tài)作為試樣的基準(zhǔn)高度，存儲(chǔ)關(guān)于在該基準(zhǔn)高度配置所述試樣而獲取的所述峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)的所述峰位置即基準(zhǔn)高度峰位置；以及高度偏移量計(jì)算部，對(duì)將所述試樣配置于任意的高度位置而得到的所述峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)中的所述峰位置與所述基準(zhǔn)高度峰位置進(jìn)行比較而求出相互間的位置偏移量，基于該位置偏移量計(jì)算該任意的高度位置相對(duì)于所述基準(zhǔn)高度的偏移量，所述試樣臺(tái)控制部是基于由所述高度偏移量計(jì)算部計(jì)算出的所述任意的高度位置的偏移量使配置于該任意的高度位置的所述試樣向所述基準(zhǔn)高度移動(dòng)的結(jié)構(gòu)。

15、接下來(lái)，本發(fā)明的x射線衍射數(shù)據(jù)處理方法由x射線衍射數(shù)據(jù)處理裝置執(zhí)行，該x射線衍射數(shù)據(jù)處理裝置用于對(duì)二維檢測(cè)數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，所述二維檢測(cè)數(shù)據(jù)是在x射線分析裝置中對(duì)入射x射線的入射角度θ和配置所述x射線檢測(cè)器的角度方向2θ進(jìn)行掃描、在多個(gè)掃描角度2θ/θ得到的衍射x射線的二維檢測(cè)數(shù)據(jù)，所述x射線分析裝置從入射角度θ的方向?qū)υ谠嚇拥谋砻嫔显O(shè)定的測(cè)定點(diǎn)照射所述入射x射線，并且相對(duì)于所述入射角度θ的方向在2θ的角度方向上配置二維x射線檢測(cè)器，通過(guò)所述二維x射線檢測(cè)器檢測(cè)由所述試樣衍射后的衍射x射線，其中，所述x射線衍射數(shù)據(jù)處理方法的特征在于，包括：峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)提取步驟，從在所述多個(gè)掃描角度2θ/θ得到的衍射x射線的二維檢測(cè)數(shù)據(jù)中提取x射線強(qiáng)度最大的衍射x射線的二維檢測(cè)數(shù)據(jù)即峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)；峰位置確定步驟，根據(jù)所述峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)確定x射線強(qiáng)度最大的位置即峰位置；以及數(shù)據(jù)處理步驟，利用關(guān)于所述峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)確定的所述峰位置的位置信息執(zhí)行數(shù)據(jù)處理。

16、另外，本發(fā)明的x射線衍射數(shù)據(jù)處理程序由x射線衍射數(shù)據(jù)處理裝置執(zhí)行，該x射線衍射數(shù)據(jù)處理裝置用于對(duì)二維檢測(cè)數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，所述二維檢測(cè)數(shù)據(jù)是在x射線分析裝置中對(duì)入射x射線的入射角度θ和配置所述x射線檢測(cè)器的角度方向2θ進(jìn)行掃描、在多個(gè)掃描角度2θ/θ得到的衍射x射線的二維檢測(cè)數(shù)據(jù)，所述x射線分析裝置從入射角度θ的方向?qū)υ谠嚇拥谋砻嫔显O(shè)定的測(cè)定點(diǎn)照射所述入射x射線，并且相對(duì)于所述入射角度θ的方向在2θ的角度方向上配置二維x射線檢測(cè)器，通過(guò)所述二維x射線檢測(cè)器檢測(cè)由所述試樣衍射后的衍射x射線，其中，該x射線衍射數(shù)據(jù)處理程序包括：峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)提取步驟，從在所述多個(gè)掃描角度2θ/θ得到的衍射x射線的二維檢測(cè)數(shù)據(jù)中提取x射線強(qiáng)度最大的衍射x射線的二維檢測(cè)數(shù)據(jù)即峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)；峰位置確定步驟，根據(jù)所述峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)確定x射線強(qiáng)度最大的位置即峰位置；以及數(shù)據(jù)處理步驟，利用關(guān)于所述峰二維檢測(cè)數(shù)據(jù)確定的所述峰位置的位置信息執(zhí)行數(shù)據(jù)處理。