本實用新型涉及一種支架，特別涉及在鹽霧箱內(nèi)使用的腐蝕試驗試片支架。

背景技術(shù)：

實際工程中，鋼材的腐蝕是指鋼材表面和周圍介質(zhì)發(fā)生化學(xué)作用或電化學(xué)作用，而使鋼材受到損壞的現(xiàn)象。鋼材腐蝕現(xiàn)象普遍存在于鋼結(jié)構(gòu)工程以及混凝土工程中，不僅會耗損大量鋼材，消耗了寶貴的資源和能源，造成巨大的直接經(jīng)濟損失，而且可使結(jié)構(gòu)構(gòu)件過早失效，承載力下降，影響結(jié)構(gòu)的使用性能，并可能會造成突發(fā)的災(zāi)難性事故、危及社會與人身安全。鋼材腐蝕現(xiàn)象已經(jīng)成為影響國民經(jīng)濟和社會可持續(xù)發(fā)展的一個重要因素，因此，選用耐腐蝕鋼材成為一種有效的抑制腐蝕的新方法，而金屬材料耐蝕性的評價則變得十分迫切。

鋼材的耐蝕性，取決于材料本身性質(zhì)的同時，還取決于鋼材所處的環(huán)境條件。目前，大部分的腐蝕試驗的實際任務(wù)是測定某種材料在特定條件下的耐蝕性，為材料的生產(chǎn)以及實際的使用提供合理、科學(xué)的依據(jù)，同時也為耐蝕鋼材的開發(fā)提供相對可靠的評價方法。

鹽霧試驗是常見的腐蝕試驗。在鹽霧試驗中，根據(jù)國內(nèi)規(guī)范《人造氣氛腐蝕試驗鹽霧試驗》(GB/T 10125-2012)，試件被試表面盡可能與垂直方向成15°～25°，并盡可能成 20°。試件不能接觸箱體，也不能互相接觸。但很多情況下，鹽霧箱內(nèi)沒有提供試件放置的支架或者在支架上定位、放置試件較為不方便，從而影響試驗效率。

因此，制備一種專門用于鹽霧試驗的試片支架，不但能進行多個平行試片的評價，并可保證腐蝕試驗的平穩(wěn)運行。在符合規(guī)范要求的前提下，方便試件的放置，提高試驗效率，充分利用鹽霧箱內(nèi)空間，就具有十分重大的價值和意義了。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型要解決的技術(shù)問題是，克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種在鹽霧箱內(nèi)使用的腐蝕試驗試片支架。

為了解決技術(shù)問題，本實用新型的解決方案是：

提供一種在鹽霧箱內(nèi)使用的腐蝕試驗試片支架，包括相互垂直的底板和豎板；所述底板和豎板具有相同的長度，豎板垂直安裝在底板表面上的中部位置，將底板分為兩部分；在其中一側(cè)的底板長邊與豎板上緣之間設(shè)置用于固定支承的支撐桿，在另一側(cè)的底板表面或底板側(cè)面上沿著垂直于豎板的方向設(shè)置刻度尺；

所述刻度尺以豎板表面與底板表面相接處為0刻度起點，以待測試件傾斜擱置時的斜向長度m為刻度標(biāo)記，刻度標(biāo)記取整數(shù)值均勻間隔布置；假設(shè)每一個刻度標(biāo)記與0 刻度起點之間的實際距離為n，則n/m的數(shù)值為sin20°。

作為改進，在與所述刻度標(biāo)記對應(yīng)的底板表面上，沿底板長度方向設(shè)置貫通的凹槽或均布的支撐件，用于固定支承待測試件。

作為改進，所述底板包括底板框架和覆蓋于底板框架上的底板蓋板；所述豎板包括豎板框架和覆蓋于豎板框架上的豎板蓋板。

作為改進，所述底板上均勻布置若干貫通的開孔。

作為改進，所述支撐桿有多根，且沿底板的長度方向間隔布置。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是：

1、試片支架的底板和豎板垂直連接，用于擱置傾斜的試件；支撐桿連接底板與豎板，起到支撐的效果、加固支架。

2、設(shè)置在底板表面或底板側(cè)面上的刻度尺，以待測試件傾斜擱置時的斜向長度m 為刻度標(biāo)記，在使用時可以根據(jù)待測試件的尺寸直接選擇底部擺放位置，同時保證傾斜角符合國標(biāo)要求。給使用者帶來極大方便，簡單、直觀、易操作。

3、試片支架能夠在同一區(qū)間同時重疊放置多個不同斜向尺寸的腐蝕試件，也可以在不同區(qū)間同時并列擺放相同斜向尺寸的試件。能滿足鹽霧試驗中不同尺寸試件的要求，極大地提高了工作效率。

附圖說明

圖1是支架的主視圖；

圖2是支架的右視圖；

圖3是支架的俯視圖；

圖4是底板側(cè)邊刻度；

圖5是支架框架，即底板以及豎板沒有蓋板時的主視圖；

圖6是支架框架，即底板以及豎板沒有蓋板時的右視圖；

圖7是支架框架，即底板以及豎板沒有蓋板時的俯視圖；

圖8是腐蝕支架使用狀態(tài)主視圖；

圖9是腐蝕支架使用狀態(tài)右視圖；

圖10是腐蝕支架使用狀態(tài)俯視圖。

圖中所示附圖標(biāo)記為：1底板蓋板；2豎板蓋板；3底板框架；4豎板框架；5支撐桿；6開孔；7刻度尺；8試件a；9試件b；10凹槽；11底板；12豎板。

具體實施方式

需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實施例來詳細說明本實用新型。

在鹽霧箱內(nèi)使用的腐蝕試驗試片支架，包括相互垂直的底板和豎板；底板11為長方形呈水平放置，底板上均勻布置若干貫通的開孔6。開孔6用于在試驗中防止鹽霧凝結(jié)成的鹽水過多積聚，并方便清洗。

底板11包括底板框架3和覆蓋于底板框架3上的底板蓋板1，底板框架3由縱橫交錯的木條形成。豎板12包括豎板框架4和覆蓋于豎板框架4上的豎板蓋板2，豎板框架 4由縱橫交錯的木條形成。

底板11為長方形，與豎板12具有相同的長度，豎板12垂直安裝在底板11表面上的中部位置，將底板11分為兩部分；在其中一側(cè)的底板11長邊與豎板12上緣之間設(shè)置用于固定支承的支撐桿5，支撐桿5有多根，且沿底板11的長度方向間隔布置。在另一側(cè)的底板11表面或底板11側(cè)面(如圖4所示)上沿著垂直于豎板12的方向設(shè)置刻度尺7。底板11與豎板12形成的直角區(qū)域用于擱置試件，能滿足不同尺寸試件放置以及多個試件同時放置的要求。支撐桿5由木條組成，沿支架長度方向間隔布置。

刻度尺7以豎板12表面與底板11表面相接處為0刻度起點，以待測試件傾斜擱置時的斜向長度m為刻度標(biāo)記，刻度標(biāo)記取整數(shù)值均勻間隔布置；假設(shè)每一個刻度標(biāo)記與 0刻度起點之間的實際距離為n，則n/m的數(shù)值為sin20°。

設(shè)置在底板表面或底板側(cè)面上的刻度尺，以待測試件傾斜擱置時的斜向長度m為刻度標(biāo)記，在使用時可以根據(jù)待測試件的尺寸直接選擇底部擺放位置，同時保證傾斜角符合國標(biāo)要求。例如，圖4中刻度上的1、2、3和4分別代表傾斜擱置100mm、200mm、 300mm和400mm的長度的試件時，試件底部應(yīng)擱置在底板的位置?？潭壬厦總€大格間距為100mm×sin20°≈17mm，即刻度尺7上每17mm代表著試件斜向尺寸100mm。

在與刻度標(biāo)記對應(yīng)的底板11表面上，沿底板11長度方向設(shè)置貫通的凹槽10或均布的支撐件，用于固定支承待測試件，也方便試件放置。

由于支架放置在鹽霧環(huán)境中，所以對用于木條制作的底板11、豎板12和支撐5的表面均涂上兩層清漆，提高防腐蝕性。

使用方法說明：

將支架置于鹽霧箱內(nèi)，根據(jù)試件a 8或試件b 9的高度尺寸，先將試件底邊擱置在刻度尺7對應(yīng)的底板11位置，然后試件上部倚靠在豎板12上，這樣就能使試件以接近與垂直方向呈20°傾斜擱置。放置好試件后即可進行腐蝕試驗。

以上所述，僅為本實用新型的具體實施例，不能以其限定實用新型實施的范圍，所以其等同組件的置換，或依本實用新型專利保護范圍所作的等同變化與修飾，都應(yīng)仍屬于本專利涵蓋的范疇。另外，本實用新型中的技術(shù)特征與技術(shù)特征之間、技術(shù)特征與技術(shù)方案之間、技術(shù)方案與技術(shù)方案之間均可以自由組合使用。