用于定位梯度線圈的系統(tǒng)和方法
【專利摘要】一種磁共振成像(MRI)系統(tǒng)包括MRI磁體(100)和梯度線圈(400)，該MRI磁體包括孔(101)并且具有磁場，該梯度線圈設(shè)置在孔內(nèi)并且具有等中心。MRI磁體內(nèi)的第一位置相對于MRI磁體的第一預(yù)定基準(zhǔn)表面而被確定，該第一位置表示磁場的中心(104)。梯度線圈內(nèi)的第二位置相對于梯度線圈的第二基準(zhǔn)表面而被確定，該第二位置表示等中心。當(dāng)梯度線圈被安裝在孔內(nèi)的時候，第二預(yù)定基準(zhǔn)表面鄰接第一預(yù)定基準(zhǔn)表面。第一預(yù)定基準(zhǔn)表面被調(diào)整到調(diào)整位置，該調(diào)整位置根據(jù)第一位置和第二位置而被確定，以及對應(yīng)于第一預(yù)定基準(zhǔn)表面的、當(dāng)梯度線圈被安裝到孔內(nèi)的時候第一位置與第二位置相重合的位置。
【專利說明】用于定位梯度線圈的系統(tǒng)和方法發(fā)明領(lǐng)域
[0001]本公開基本上涉及一種磁共振成像(MRI)，以及特別涉及一種用于將MRI系統(tǒng)的梯度線圈的等中心定位成與MRI磁體的磁性中心相重合的系統(tǒng)、設(shè)備、裝置、和方法。

【背景技術(shù)】
[0002]有兩種常用方法將鐵板施加到MRI磁體的磁場內(nèi)部，從而獲得期望的均勻性(通常以PPM-百萬分之一-規(guī)定)。根據(jù)一種方法，鐵板能夠被直接地附接到磁體的內(nèi)部核心并且圍繞著磁體的機械中心放置。這個方法能夠提供鐵板的固定位置，但是這個方法具有多種不利之處。例如，鐵板的放置通常遠(yuǎn)離磁性等中心的位置，這需要使用更多的鐵板被用于獲得需要的均勻性。此外，如果需要更多的鐵板來獲得期望的均勻性，那么在鐵板上支承磁性負(fù)載的外部結(jié)構(gòu)則會犧牲患者的空間。
[0003]或者，鐵板能夠被放置在梯度線圈的結(jié)構(gòu)內(nèi)部，這通常將鐵板定位在磁場更加中心和有效的位置。然而，這些鐵板的軸向定位會被梯度線圈的軸向位置所影響。因此，如果梯度線圈的等中心以及由此鐵板的軸向位置沒能圍繞著MRI的磁性中心定位，那么:(I)磁場均勻性會發(fā)生改變并且不會滿足設(shè)計規(guī)定；和/或(2)鐵板當(dāng)前固定軸向位置在磁體的懸掛式主線圈結(jié)構(gòu)上施加的軸向力會導(dǎo)致主磁性線圈結(jié)構(gòu)發(fā)生移位，導(dǎo)致磁體內(nèi)部的熱漲間隙關(guān)閉以及可能觸動。此外，這種由鐵板錯位的軸向位置所導(dǎo)致的軸向力將有可能在支承主線圈結(jié)構(gòu)的懸掛系統(tǒng)上施加額外的負(fù)載。這些懸掛系統(tǒng)上的額外負(fù)載會超出支承元件的強度，導(dǎo)致它們失效。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本公開的示例性實施例能夠提供例如一種系統(tǒng)、設(shè)備、裝置和方法，用于精確地定位MRI機器的磁性中心以及使梯度線圈的等中心定位成與MRI機器的磁性中心相重合。本公開的方面能夠為MRI提供更均勻的磁場以及能夠減小施加到線圈懸掛系統(tǒng)上的作用力。
[0005]本發(fā)明的示例性實施例能夠提供一種方法，用于根據(jù)梯度線圈的等中心來定位MRI磁體的磁性中心。這個方法包括以下步驟:(a)確定磁共振成像(MRI)磁體內(nèi)相對于MRI磁體的第一預(yù)定基準(zhǔn)表面的第一位置，該第一位置表不MRI磁體的磁場中心；(b)確定梯度線圈內(nèi)相對于梯度線圈的第二預(yù)定基準(zhǔn)表面的第二位置，該第二位置表示梯度線圈的等中心，其中當(dāng)梯度線圈被安裝在MRI磁體的孔內(nèi)時，該第二預(yù)定基準(zhǔn)表面鄰接第一預(yù)定基準(zhǔn)表面；以及(C)根據(jù)第一位置和第二位置確定對于第一預(yù)定基準(zhǔn)表面的調(diào)整位置，該調(diào)整位置對應(yīng)于第一預(yù)定基準(zhǔn)表面的、當(dāng)梯度線圈被安裝在MRI磁體的孔內(nèi)時第一位置與第二位置相重合的位置。
[0006]本發(fā)明的另一個示例性實施例能夠提供一種MRI系統(tǒng)。該MRI系統(tǒng)能夠包括MRI磁體，該MRI磁體包括孔并且具有磁場；以及設(shè)置在孔內(nèi)并且具有等中心的梯度線圈。MRI磁體內(nèi)的第一位置被相對于MRI磁體的第一預(yù)定基準(zhǔn)表面確定,該第一位置表不磁場的中心。梯度線圈內(nèi)的第二位置被相對于梯度線圈的第二預(yù)定基準(zhǔn)表面確定，該第二位置表示等中心。當(dāng)梯度線圈被安裝到孔內(nèi)時，第二預(yù)定基準(zhǔn)表面鄰接第一預(yù)定基準(zhǔn)表面。第一預(yù)定基準(zhǔn)表面被調(diào)整到調(diào)整位置，該調(diào)整位置根據(jù)第一位置和第二位置而被確定并且對應(yīng)于第一預(yù)定基準(zhǔn)表面的、當(dāng)梯度線圈被安裝到孔內(nèi)時第一位置與第二位置相重合的位置。
[0007]本發(fā)明的另一個示例性實施例能夠提供一種計算系統(tǒng)，用于根據(jù)梯度線圈的等中心來定位MRI磁體的磁性中心。計算系統(tǒng)包括處理器和存儲器裝置。處理器確定MRI磁體內(nèi)相對于MRI磁體的第一預(yù)定基準(zhǔn)表面的第一位置，該第一位置表示MRI磁體的磁場的中心。處理器確定梯度線圈內(nèi)相對于梯度線圈的第二預(yù)定基準(zhǔn)表面的第二位置，該第二位置表示梯度線圈的等中心。當(dāng)梯度線圈被安裝到MRI磁體的孔內(nèi)時，第二預(yù)定基準(zhǔn)表面鄰接第一預(yù)定基準(zhǔn)表面。處理器根據(jù)第一位置和第二位置確定第一預(yù)定基準(zhǔn)表面的調(diào)整位置，該調(diào)整位置對應(yīng)于第一基準(zhǔn)表面的、當(dāng)梯度線圈被安裝到孔內(nèi)時第一位置與第二位置相重合的位置。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]在接下來的示例性實施例中以及參考附圖，本發(fā)明被進(jìn)一步詳細(xì)解釋，其中相同或類似的元件部分地被相同的附圖標(biāo)記所表示，以及各個示例性實施例的特征可以組合。在附圖中:
[0009]圖1A顯示了根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的示例性MRI磁體的簡圖。
[0010]圖1B顯示了根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的、圖1A中示例性MRI磁體沿著剖面A_A’截取的橫截面視圖。
[0011]圖2A顯示了根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的示例性MRI磁體的服務(wù)端的分解視圖。
[0012]圖2B顯示了根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的示例性MRI磁體的服務(wù)端的組裝視圖。
[0013]圖3A顯示了根據(jù)本發(fā)明示例性實施例、在示例性映射程序中使用的游標(biāo)手輪組件的示例性實施例。
[0014]圖3B顯示了根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的映射臺架的示例性實施例。
[0015]圖3C顯示了根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的映射臺架的示例性簡圖。
[0016]圖4A顯示了根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的示例性梯度線圈的示例性簡圖。
[0017]圖4B顯示了根據(jù)本發(fā)明示例性實施例、圖4A的示例性梯度線圈沿著剖面B-B’截取的橫截面視圖。
[0018]圖5顯示了根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的方法，該方法用于將梯度線圈的等中心定位成與MRI磁體的磁性中心相重合。
[0019]圖6顯示了在根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的方法中使用的映射臺架的另一個示例性實施例。
[0020]圖7顯示了根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的示例性方法，該方法用于修正角度。

【具體實施方式】
[0021]參考接下來的描述以及附圖，示例性實施例將會被進(jìn)一步理解，其中類似的元件用相同的附圖標(biāo)記表示。示例性實施例涉及到用于將梯度線圈的等中心定位成于MRI磁體的磁性中心相重合的方法和系統(tǒng)。盡管示例性實施例針對MRI成像裝置進(jìn)行描述，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，本發(fā)明示例性實施例的系統(tǒng)和方法可被用于任意醫(yī)療設(shè)備，例如CT、PET、CAT成像裝置，等等中。
[0022]圖1A顯示了根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的示例性MRI磁體100的基礎(chǔ)簡圖。MRI磁體100包括縱向地延伸穿過MRI磁體100的長度的中心孔101。MRI磁體100還包括兩個端部:服務(wù)端102和患者端103。服務(wù)端102作為醫(yī)生或者M(jìn)RI專家控制MRI程序的區(qū)域?；蛘?，服務(wù)端102可包括與遠(yuǎn)程地點的遠(yuǎn)程服務(wù)站相通信的連接部?；颊叨?03是一端部，患者通過該端部而移動到中心孔101中。MRI磁體100還包括磁性中心104。磁性中心104是由MRI磁體100所產(chǎn)生的磁場的中心。圖1B顯示了圖1A中的MRI磁體在剖面A-Al的橫截面視圖。此外，MRI磁體100可包括病床(未示出)，在MRI程序進(jìn)行的同時患者躺在該病床上。病床通?？梢苿拥剡B接到MRI磁體，用于使病床伸出到MRI磁體100的中心孔101之外以及回縮到中心孔101之中。
[0023]圖2A顯示了根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的MRI磁體100的服務(wù)端102的分解視圖。根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例，擋板組件200被可移除地附接到服務(wù)端102。例如，擋板組件200可通過兩個螺釘210 (如圖2A中所示)而被可移除地附接到服務(wù)端102?；蛘?，可移除地附接可以通過粘結(jié)劑(未示出)進(jìn)行。應(yīng)當(dāng)認(rèn)識的是，這些示例僅僅是解釋性的并且示例性實施例并非受限于這種附接。擋板組件200包括擋板201和預(yù)定數(shù)目的薄墊片202。例如，擋板200可包括24個薄墊片，其中12個薄墊片被預(yù)先安裝?；蛘撸瑧?yīng)當(dāng)理解的是，擋板組件200可包括任意數(shù)目的薄墊片202。擋板201包括面向MRI磁體100的中心孔101的基準(zhǔn)表面203。每個薄墊片202都具有預(yù)定的厚度。例如，每個薄墊片都具有0.5mm的厚度。然而，應(yīng)當(dāng)理解的是，薄墊片202可以大于或者小于0.5mm并且這個示例僅僅用于解釋性目的。薄墊片202被預(yù)先安裝到擋板201和MRI磁體100的服務(wù)端102之間。由此，在上述示例中，如果12個薄墊片被預(yù)先安裝到擋板201與服務(wù)端102之間的話，那么基準(zhǔn)表面203將會與MRI磁體100的服務(wù)端102相隔6mm。更多的薄墊片202能夠被添加或者移除，從而將基準(zhǔn)表面203定位成與MRI磁體100的服務(wù)端102相距期望距離。應(yīng)當(dāng)認(rèn)識的是，具有相同寬度的薄墊片202僅僅是示例性的。根據(jù)另一個示例性實施例，薄墊片202可具有不同的寬度來適應(yīng)更多的整體寬度尺寸。
[0024]圖2B顯示了在MRI磁體100服務(wù)端102的擋板組件200的組裝視圖。在這個視圖中，薄墊片202是不可見的，原因是它們位于擋板201與服務(wù)端102之間。如圖2B中所示，當(dāng)聯(lián)接時，擋板201向著中心孔101的中心延伸，從而使得擋板201的上部部分與中心孔101在服務(wù)端102的開口相重疊，其中基準(zhǔn)表面203面向著孔。
[0025]圖3A和3B顯示了用于確定MRI磁體100的磁性中心104的映射臺架300的示例。映射臺架300包括游標(biāo)手輪301，該手輪能夠被轉(zhuǎn)動而使攝像頭302 (圖3B中顯示)向著MRI磁體100的患者端103或者服務(wù)端102移動。用于確定磁性中心104的過程將會在下面詳細(xì)介紹。
[0026]圖3B顯示了被用于確定MRI磁體100的磁性中心104的攝像頭302以及映射臺架300所附接的臺架支撐件305。在用于確定磁性中心104的映射程序期間，臺架支撐件305取代擋板組件200并且被附接到服務(wù)端102。臺架支撐件305可以使用基本上類似與上面參考擋板組件200所介紹的方式而被聯(lián)接到服務(wù)端102。臺架支撐件305包括臺架基準(zhǔn)表面303，其類似于擋板201的基準(zhǔn)表面203。映射臺架300被用于獲得MRI磁體100的映射,從而確定磁性中心104的位置。這種映射能夠以例如具有指示器的MRI磁體100的簡圖的形式顯示給使用者，該指示器顯示出磁性中心104的位置。然而，應(yīng)當(dāng)認(rèn)識的是，映射可通過任意其它方法包括例如一列尺寸而被顯示給使用者。
[0027]如圖3C中所示，攝像頭302被最初定位成與臺架基準(zhǔn)表面303相距距離LI。這個距離LI可以是例如845mm。然而，應(yīng)當(dāng)理解的是，距離LI可以是任意距離。在映射程序期間，游標(biāo)手輪301被轉(zhuǎn)動從而將攝像頭302向著MRI磁體100的患者端103或服務(wù)端102移動。攝像頭302由于游標(biāo)手輪301的致動而走過的距離將會指示出定位在擋板201的基準(zhǔn)表面203與MRI磁體100的服務(wù)端102之間的薄墊片202的數(shù)目。
[0028]圖4A和4B顯示了根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的梯度線圈400。梯度線圈400被設(shè)計和成形成使得它可以被放置在MRI磁體100的中心孔101的內(nèi)部。梯度線圈400具有與MRI磁體100的服務(wù)端102和患者端103相對應(yīng)的服務(wù)端402和患者端403。梯度線圈400具有與位于梯度線圈400的服務(wù)端402的基準(zhǔn)表面401相距已知距離L2(例如851mm)的等中心404。服務(wù)端402包括裝置405，其用于將梯度線圈400聯(lián)接到擋板201。本發(fā)明的示例性實施例能夠提供一種系統(tǒng)、設(shè)備、裝置和方法，在梯度線圈400被安裝到MRI磁體100的中心孔101內(nèi)的時候使得等中心404與磁性中心104對準(zhǔn)。這可以通過在擋板201與服務(wù)端102之間安裝預(yù)定數(shù)目的薄墊片202來實現(xiàn)。
[0029]圖5顯示了根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例、用于使等中心404與磁性中心104相對準(zhǔn)的方法500。在步驟501，MRI磁體100的磁性中心104使用映射臺架300而被確定。在這個步驟期間，擋板組件200被移除以及用映射臺架支撐件305來代替安裝。最初，攝像頭302被定位成與臺架基準(zhǔn)表面303相距距離L3。優(yōu)選地，攝像頭302被初始地定位在MRI磁體100的幾何中心。隨后執(zhí)行映射程序并且MRI磁體100的磁性中心104被確定。
[0030]在步驟502，基準(zhǔn)表面203的調(diào)整位置被確定。具體地，游標(biāo)手輪301被轉(zhuǎn)動(順時針或者逆時針)來移動攝像頭302從而將它放置在所確定的磁性中心104。例如，如果磁性中心104向著患者端103而遠(yuǎn)離幾何中心移位了 3.5mm，那么將游標(biāo)手輪301順時針轉(zhuǎn)動3V2圈能夠使得攝像頭302向著患者端103前進(jìn)3.5mm?；蛘?逆時針轉(zhuǎn)動游標(biāo)手輪301能夠使攝像頭302向著服務(wù)端102移動。在這個位置，能夠進(jìn)行最終的映射。在將攝像頭302放置在磁性中心104時攝像頭302所走過的最終距離(即偏移)隨后在擋板201的基準(zhǔn)表面203上記錄下來。例如，這個偏移可被蝕刻或者雕刻到基準(zhǔn)表面203上。然而，應(yīng)當(dāng)認(rèn)識的是，將指示放置在表面上的任意常規(guī)方式都可被用于標(biāo)識這個偏移。
[0031]在步驟503，映射臺架300和映射臺架支撐件305被移除以及擋板201被重新安裝預(yù)定數(shù)目的薄墊片202。薄墊片202的預(yù)定數(shù)目通過步驟502中確定的偏移所指示出來。由此，在上述不例中，如果每個薄墊片為0.5mm以及向著患者端103的偏移為3.5mm,那么12個預(yù)安裝薄墊片中的7個都應(yīng)當(dāng)被移除從而使得基準(zhǔn)表面203向著患者端103前進(jìn)
3.5mm。應(yīng)當(dāng)認(rèn)識的是，這些尺寸僅僅用于解釋目的并且這些尺寸將會基于所用的具體MRI磁體100以及薄墊片202的厚度而發(fā)生改變。
[0032]最后，在步驟504，梯度線圈400被放置在MRI磁體100的中心孔101內(nèi)部，從而使得梯度線圈400的基準(zhǔn)表面403與擋板200的基準(zhǔn)表面203齊平。在這個位置，梯度線圈400的等中心404與MRI磁體100的磁性中心104重合。
[0033]圖6顯示了根據(jù)本發(fā)明另一個示例性實施例的示例性系統(tǒng)。如圖6中所示,映射臺架600可包括指示器610，該指示器能夠接觸基準(zhǔn)表面603并且與其配準(zhǔn)。例如，指示器610的末端601能夠被以距離LI定位到攝像頭602的中心，如圖6中所示。例如，這個距離能夠是844_。根據(jù)特定的示例性實施例,這種定位能夠是永久的。指示器610還能夠可以移動從而使得臺架能夠被用在安裝了梯度線圈400的MRI磁體100上。優(yōu)選地存在刻度尺604，其附接到映射臺架600定位在游標(biāo)手輪606的附近。
[0034]圖7顯示了另一個示例性實施例方法，用于修正圖6中的映射臺架600的角度。方法700能夠在梯度線圈400被安裝在MRI磁體100的中心孔101中的時候被執(zhí)行。然而，應(yīng)當(dāng)認(rèn)識的是，這個方法還能夠在空的MRI磁體100 (即沒有梯度線圈400)上執(zhí)行。例如，該方法700包括以下步驟。在步驟701，在將臺架支撐件305安裝到MRI磁體100的服務(wù)端102上之前，攝像頭602能夠遠(yuǎn)離基準(zhǔn)表面603而前進(jìn)距離L4。這樣能夠確保當(dāng)臺架600被緊固的時候，在指示器610和基準(zhǔn)表面603之間不會有干涉。在步驟702，擋板201和薄墊片202如果被安裝的話那么可以被移除。在步驟703，臺架600能夠被安裝以及緊固到MRI磁體100的服務(wù)端102。在步驟704，攝像頭602的位置能夠被調(diào)整，從而使得指示器601的末端剛好接觸到基準(zhǔn)表面603。這樣最好將攝像頭602放置在MRI磁體100的理論幾何中心。在步驟705，刻度尺604上的讀數(shù)能夠被注意到和記錄下來。在角度已被修正之后，磁性中心104能夠根據(jù)上面所述的示例性方法500而被定位。
[0035]盡管本發(fā)明已經(jīng)參考具體示例性實施例而進(jìn)行了顯示和描述，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解的是，本發(fā)明沒有局限于此，而是可以在形式和細(xì)節(jié)上進(jìn)行多種改變，包括各種特征和實施例的組合，而不會脫離發(fā)明的精神和范圍。
[0036]本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解到，上面所述的示例性實施例可以以多種方式實施，包括，以單獨的軟件模塊、以硬件和軟件的組合，等等。例如，映射方法500可以是包含多行代碼的程序，該程序在編譯之后能夠在處理器上執(zhí)行。程序可以嵌入到永久的計算機可讀存儲介質(zhì)上。
[0037]認(rèn)識到，權(quán)利要求可包括根據(jù)PCT細(xì)則6.2(b)的參考標(biāo)記/標(biāo)號。然而本權(quán)利要求書不應(yīng)當(dāng)被理解為限定為與參考標(biāo)記/標(biāo)號所對應(yīng)的示例性實施例。
[0038]本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯而易見的是，可以對公開的示例性實施例和方法和替換性方案進(jìn)行各種變型，而不會脫離公開的精神和范圍。由此，本公開的目的是覆蓋這些變型和改變，只要它們落入到附加權(quán)利要求及其等同物的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種方法，包括: 確定磁共振成像(MRI)磁體內(nèi)相對于所述MRI磁體的第一預(yù)定基準(zhǔn)表面的第一位置，所述第一位置表不所述MRI磁體的磁場中心； 確定梯度線圈內(nèi)相對于所述梯度線圈的第二預(yù)定基準(zhǔn)表面的第二位置，所述第二位置表示所述梯度線圈的等中心，其中當(dāng)所述梯度線圈被安裝在所述MRI磁體的孔內(nèi)時，所述第二預(yù)定基準(zhǔn)表面鄰接所述第一預(yù)定基準(zhǔn)表面；以及 根據(jù)所述第一位置和所述第二位置確定對于所述第一預(yù)定基準(zhǔn)表面的調(diào)整位置，所述調(diào)整位置對應(yīng)于所述第一預(yù)定參考表面的、當(dāng)所述梯度線圈被安裝在所述MRI磁體的孔內(nèi)的時候所述第一位置與所述第二位置相重合的位置。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法進(jìn)一步包括: 將所述梯度線圈安裝在所述MRI磁體的孔內(nèi)；以及 將所述梯度線圈經(jīng)由所述第一預(yù)定基準(zhǔn)表面和所述第二預(yù)定基準(zhǔn)表面而聯(lián)接到所述MRI磁體。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中確定所述第一位置包括: 將映射臺架安裝在所述MRI磁體的一個端部，其中所述映射臺架的攝像頭延伸到所述MRI磁體的孔內(nèi)， 將所述攝像頭定位在所述MRI磁體的幾何中心，以及 確定從所述攝像頭的位置到所述磁場中心的偏移距離。
4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法進(jìn)一步包括: 將所述攝像頭重新定位在所述第一位置；以及 獲得所述MRI磁體的磁場的最終映射。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，確定所述調(diào)整位置進(jìn)一步包括記錄下所述調(diào)整位置。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述調(diào)整位置被標(biāo)記在所述第一預(yù)定基準(zhǔn)表面上。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，確定所述調(diào)整位置進(jìn)一步包括確定修正角度。
8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述調(diào)整位置和所述修正角度被標(biāo)記在所述第一預(yù)定基準(zhǔn)表面上。
9.一種磁共振成像(MRI)系統(tǒng)，包括: MRI磁體，其包括孔并且具有磁場；以及 設(shè)置在所述孔內(nèi)并且具有等中心的梯度線圈， 其中所述MRI磁體內(nèi)的第一位置被相對于所述MRI磁體的第一預(yù)定基準(zhǔn)表面確定，所述第一位置表不所述磁場的中心， 其中所述梯度線圈內(nèi)的第二位置被相對于所述梯度線圈的第二預(yù)定基準(zhǔn)表面確定，所述第二位置表示所述等中心， 其中當(dāng)所述梯度線圈被安裝在所述孔內(nèi)時，所述第二預(yù)定基準(zhǔn)表面鄰接所述第一預(yù)定基準(zhǔn)表面；以及 其中所述第一預(yù)定基準(zhǔn)表面被調(diào)整到調(diào)整位置，所述調(diào)整位置根據(jù)所述第一位置和所述第二位置而被確定并且對應(yīng)于所述第一預(yù)定參考表面的、當(dāng)所述梯度線圈被安裝在所述孔內(nèi)時所述第一位置與所述第二位置相重合的位置。
10.如權(quán)利要求9所述的MRI系統(tǒng)，其特征在于，所述梯度線圈經(jīng)由所述第一預(yù)定基準(zhǔn)表面和所述第二預(yù)定基準(zhǔn)表面而聯(lián)接到所述MRI磁體。
11.如權(quán)利要求9所述的MRI系統(tǒng)，其特征在于，所述第一位置通過以下方式被確定: 將映射臺架安裝在所述MRI磁體的一個端部，其中所述映射臺架的攝像頭延伸到所述MRI磁體的孔內(nèi)， 將所述攝像頭定位在所述MRI磁體的幾何中心，以及 確定從所述攝像頭的位置到所述磁場的中心的偏移距離。
12.如權(quán)利要求11所述的MRI系統(tǒng)，其特征在于，所述第一位置通過以下方式被進(jìn)一步確定: 將所述攝像頭重新定位在所述第一位置；以及 執(zhí)行所述MRI磁體的磁場的最終映射。
13.如權(quán)利要求9所述的MRI系統(tǒng)，其特征在于，所述第一預(yù)定基準(zhǔn)表面包括指示所述調(diào)整位置的第一標(biāo)記。
14.如權(quán)利要求13所述的MRI系統(tǒng)，其特征在于，所述第一預(yù)定基準(zhǔn)表面包括指示修正角度的第二標(biāo)記。
15.一種計算系統(tǒng)，包括: 處理器；以及 存儲器裝置， 其中所述處理器確定MRI磁體內(nèi)相對于所述MRI磁體的第一預(yù)定基準(zhǔn)表面的第一位置，所述第一位置表不所述MRI磁體的磁場中心， 其中所述處理器確定梯度線圈內(nèi)相對于所述梯度線圈的第二預(yù)定基準(zhǔn)表面的第二位置，所述第二位置表示所述梯度線圈的等中心， 其中當(dāng)所述梯度線圈被安裝在所述MRI磁體的孔內(nèi)時，所述第二預(yù)定基準(zhǔn)表面鄰接所述第一預(yù)定基準(zhǔn)表面；以及 其中所述處理器根據(jù)所述第一位置和所述第二位置而確定所述第一預(yù)定基準(zhǔn)表面的調(diào)整位置，所述調(diào)整位置對應(yīng)于所述第一預(yù)定基準(zhǔn)表面的、當(dāng)所述梯度線圈被安裝在所述MRI磁體的孔內(nèi)時所述第一位置與所述第二位置相重合的位置。
16.如權(quán)利要求15所述的計算系統(tǒng)，其特征在于，確定所述調(diào)整位置進(jìn)一步包括所述處理器將所述調(diào)整位置記錄在存儲器裝置中。
17.如權(quán)利要求15所述的計算系統(tǒng)，其特征在于，確定所述調(diào)整位置進(jìn)一步包括所述處理器確定修正角度。
【文檔編號】G01R33/24GK104246527SQ201380021095
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2013年4月9日 優(yōu)先權(quán)日:2012年4月25日
【發(fā)明者】J·H·克拉利奇, F·巴蒂斯塔, J·E·利奇, D·A·貝克爾 申請人:皇家飛利浦有限公司