加速度計(jì)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種加速度計(jì)，包括基板、檢測(cè)質(zhì)量塊及支撐基座，支撐基座固定在基板上，檢測(cè)質(zhì)量塊通過(guò)一相對(duì)設(shè)置的彈片以非對(duì)稱的方式懸置在支撐基座的表面，當(dāng)加速度計(jì)存在一與基板表面垂直方向的加速度時(shí)，檢測(cè)質(zhì)量塊以彈片所在直線為軸轉(zhuǎn)動(dòng)，基板包括凹腔及第一限位塊，凹腔設(shè)置于檢測(cè)質(zhì)量塊質(zhì)量較大的一側(cè)，用于防止檢測(cè)質(zhì)量塊在轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中觸碰基板，第一限位塊位于支撐基座與凹腔之間，用于限制檢測(cè)質(zhì)量塊可以轉(zhuǎn)至的最大位置。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于，將第一限位塊靠近支撐基座設(shè)置，能夠顯著增大檢測(cè)質(zhì)量塊的恢復(fù)力，在基板上設(shè)置凹腔，避免由于第一限位塊靠近支撐基座設(shè)置導(dǎo)致的檢測(cè)質(zhì)量塊與基板上的凸起觸碰或者檢測(cè)質(zhì)量塊的邊緣與所述基板觸碰。
【專利說(shuō)明】加速度計(jì)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及加速度計(jì)【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種高恢復(fù)力的加速度計(jì)。

【背景技術(shù)】
[0002]電容式加速度計(jì)內(nèi)部存在一個(gè)質(zhì)量塊，從單個(gè)單元來(lái)看，它是標(biāo)準(zhǔn)的平板電容器。加速度的變化帶動(dòng)活動(dòng)質(zhì)量塊的移動(dòng)從而改變平板電容兩極的間距和正對(duì)面積，通過(guò)測(cè)量電容變化量來(lái)計(jì)算加速度。電容式加速度計(jì)具有靈敏度高、功耗低、溫度特性好、能工作在力平衡閉環(huán)模式下等優(yōu)點(diǎn)，因而得到了廣泛的研究和應(yīng)用。但是目前的電容式加速度計(jì)的恢復(fù)力還不能滿足需求。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是，提供一種加速度計(jì)，能夠具有較高的恢復(fù)力。
[0004]為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種加速度計(jì)，包括基板、檢測(cè)質(zhì)量塊及支撐基座，所述支撐基座固定在所述基板上，所述檢測(cè)質(zhì)量塊通過(guò)一相對(duì)設(shè)置的彈片以非對(duì)稱的方式懸置在所述支撐基座的表面，當(dāng)所述加速度計(jì)存在一與基板表面垂直方向的加速度時(shí)，所述檢測(cè)質(zhì)量塊以彈片所在直線為軸轉(zhuǎn)動(dòng)，所述基板包括凹腔及第一限位塊，所述凹腔設(shè)置于所述檢測(cè)質(zhì)量塊質(zhì)量較大的一側(cè)，用于防止所述檢測(cè)質(zhì)量塊在轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中觸碰所述基板，所述第一限位塊位于所述支撐基座與所述凹腔之間，用于限制所述檢測(cè)質(zhì)量塊可以轉(zhuǎn)至的最大位置。
[0005]進(jìn)一步，所述加速度計(jì)包括一絕緣層，所述絕緣層填充滿所述凹腔。
[0006]進(jìn)一步，所述加速度計(jì)包括至少一個(gè)第一梳齒狀電容組，所述第一梳齒狀電容組包括固定設(shè)置在所述基板上的第一感測(cè)電容板，設(shè)置在所述檢測(cè)質(zhì)量塊上與所述第一感測(cè)電容板相應(yīng)位置的第二感測(cè)電容板，當(dāng)所述加速度計(jì)存在一與基板表面平行的第一方向的加速度時(shí)，所述第一梳齒狀電容組的電容發(fā)生變化。
[0007]進(jìn)一步，所述第一梳齒狀電容組還包括設(shè)置在支撐基座上與所述第一感測(cè)電容板相應(yīng)位置的第三感測(cè)電容板。
[0008]進(jìn)一步，所述加速度計(jì)包括兩個(gè)第一梳齒狀電容組，所述第一梳齒狀電容組沿與基板表面平行的第一方向兩兩相對(duì)設(shè)置。
[0009]進(jìn)一步，所述加速度計(jì)包括至少一個(gè)第二梳齒狀電容組，所述第二梳齒狀電容組包括固定設(shè)置在所述基板上的第一感測(cè)電容板，設(shè)置在所述檢測(cè)質(zhì)量塊上與所述第一感測(cè)電容板相應(yīng)位置的第二感測(cè)電容板，當(dāng)所述加速度計(jì)存在一與基板表面平行的第二方向的加速度時(shí)，所述第二梳齒狀電容組的電容發(fā)生變化，所述第一方向與所述第二方向垂直。
[0010]進(jìn)一步，所述加速度計(jì)包括兩個(gè)第二梳齒狀電容組，所述第二梳齒狀電容組沿與基板表面平行的第二方向兩兩相對(duì)設(shè)置。
[0011]進(jìn)一步，所述基板還包括第二限位塊，所述第二限位塊對(duì)應(yīng)于所述檢測(cè)質(zhì)量塊質(zhì)量較小的一側(cè)設(shè)置，用于限制所述檢測(cè)質(zhì)量塊可以轉(zhuǎn)至的最大位置。
[0012]進(jìn)一步，還包括至少兩個(gè)電極，所述兩個(gè)電極相對(duì)設(shè)置在基板上并分別對(duì)應(yīng)于所述檢測(cè)質(zhì)量塊質(zhì)量較大的一側(cè)和質(zhì)量較小的一側(cè)，用于與所述檢測(cè)質(zhì)量塊形成電容。
[0013]進(jìn)一步，所述支撐基座采用多點(diǎn)固定的方式固定在所述基板上。
[0014]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于，將第一限位塊靠近支撐基座設(shè)置，能夠顯著增大檢測(cè)質(zhì)量塊的恢復(fù)力，在基板上設(shè)置凹腔，避免由于第一限位塊靠近支撐基座設(shè)置導(dǎo)致的檢測(cè)質(zhì)量塊與所述基板上的凸起觸碰或者檢測(cè)質(zhì)量塊的邊緣與所述基板觸碰。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1所示為本發(fā)明加速度計(jì)第一【具體實(shí)施方式】的俯視圖；
圖2所示為圖1中的A-A向截面示意圖；
圖3所示為本發(fā)明加速度計(jì)另一【具體實(shí)施方式】的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖4A所示為第一限位塊內(nèi)移前的示意圖；
圖4B所示為第一限位塊內(nèi)移后的示意圖；
圖5所示為本發(fā)明加速度計(jì)第二【具體實(shí)施方式】的俯視圖；
附圖6所示為在基板上設(shè)置絕緣層的加速度計(jì)的示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明提供的加速度計(jì)的【具體實(shí)施方式】做詳細(xì)說(shuō)明。
[0017]圖1所示是本發(fā)明加速度計(jì)第一【具體實(shí)施方式】的俯視圖。圖2所示為圖1中的A-A截面示意圖。參見(jiàn)圖1及圖2所示,所述加速度計(jì)100包括基板1、檢測(cè)質(zhì)量塊2及支撐基座3。
[0018]所述支撐基座3固定在所述基板I上，在本【具體實(shí)施方式】中，所述支撐基座3采用一點(diǎn)固定的方式固定在基板I上，在本發(fā)明另一【具體實(shí)施方式】中，所述支撐基座3采用多點(diǎn)固定的方式固定在基板I上。
[0019]所述檢測(cè)質(zhì)量塊2通過(guò)一相對(duì)設(shè)置的彈片21以非對(duì)稱的方式懸置在所述支撐基座3的表面。所述彈片21可以利用懸臂式、螺旋形、支梁型等結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)。所述非對(duì)稱的方式指的是，以彈片21所在直線為分界線，檢測(cè)質(zhì)量塊2位于彈片21兩側(cè)的質(zhì)量不相等，檢測(cè)質(zhì)量塊2位于彈片21 —側(cè)的質(zhì)量大于檢測(cè)質(zhì)量塊2位于彈片21另一側(cè)的質(zhì)量。在此，定義所述檢測(cè)質(zhì)量塊2質(zhì)量較大的一側(cè)為第一質(zhì)量塊23，檢測(cè)質(zhì)量塊2質(zhì)量較小的一側(cè)為第二質(zhì)量塊24。當(dāng)所述加速度計(jì)100存在一與基板I表面垂直方向的加速度時(shí)，例如，加速度計(jì)100存在一 Z軸方向的加速度，所述檢測(cè)質(zhì)量塊2以彈片21所在直線為軸轉(zhuǎn)動(dòng)。由于檢測(cè)質(zhì)量塊2以非對(duì)稱的方式通過(guò)相對(duì)設(shè)置彈片21懸置在支撐基座3的表面，所以，所述檢測(cè)質(zhì)量塊2以彈片21所在直線為軸向第一質(zhì)量塊23 —側(cè)傾斜旋轉(zhuǎn)。
[0020]所述基板I包括第一限位塊11，用于限制所述檢測(cè)質(zhì)量塊2可以轉(zhuǎn)至的最大位置。在所述檢測(cè)質(zhì)量塊2向所述基板I運(yùn)動(dòng)的情況下，當(dāng)?shù)谝毁|(zhì)量塊23接近基板I至一定距離，所述第一限位塊11觸碰所述檢測(cè)質(zhì)量塊2的第一質(zhì)量塊23，使得檢測(cè)質(zhì)量塊2受到一個(gè)力的作用，檢測(cè)質(zhì)量塊2停止向基板I運(yùn)動(dòng)并復(fù)位，從而限制所述檢測(cè)質(zhì)量塊2在第一質(zhì)量塊23側(cè)可以轉(zhuǎn)至的最大位置，防止檢測(cè)質(zhì)量塊2觸碰所述基板I。在本發(fā)明中，該力定義為檢測(cè)質(zhì)量塊2的恢復(fù)力F。所述第一限位塊11的數(shù)目不限，可以根據(jù)具體加速度計(jì)的設(shè)計(jì)需要而設(shè)置。在本【具體實(shí)施方式】中，所述第一限位塊11為兩個(gè)，對(duì)應(yīng)于所述第一質(zhì)量塊23設(shè)置，以防止所述檢測(cè)質(zhì)量塊2觸碰到所述基板I。如圖1中所示，采用虛線表示出第一限位塊11。
[0021]進(jìn)一步，為了限制所述檢測(cè)質(zhì)量塊2的第二質(zhì)量塊24可以轉(zhuǎn)動(dòng)的最大位置，確保所述檢測(cè)質(zhì)量塊2在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不觸碰所述基板I，所述基板I還包括第二限位塊22，所述第二限位塊22對(duì)應(yīng)于檢測(cè)質(zhì)量塊2質(zhì)量較小的一側(cè)設(shè)置，即對(duì)應(yīng)于第二質(zhì)量塊24設(shè)置。在所述檢測(cè)質(zhì)量塊2向所述基板I運(yùn)動(dòng)的情況下，當(dāng)檢測(cè)質(zhì)量塊2的第二質(zhì)量塊24接近基板I至一定距離，所述第二限位塊22觸碰所述第二質(zhì)量塊24，使得檢測(cè)質(zhì)量塊2受到一個(gè)力的作用，第二質(zhì)量塊24停止向基板I運(yùn)動(dòng)并復(fù)位，從而限制所述檢測(cè)質(zhì)量塊2在第二質(zhì)量塊24側(cè)可以轉(zhuǎn)至的最大位置，防止檢測(cè)質(zhì)量塊2觸碰所述基板I。所述第二限位塊22的數(shù)目不限，可以根據(jù)具體加速度計(jì)的設(shè)計(jì)需要而設(shè)置。在本【具體實(shí)施方式】中，所述第二限位塊22為兩個(gè)，并與所述第一限位塊11對(duì)應(yīng)設(shè)置。在本發(fā)明其他【具體實(shí)施方式】中，所述第一限位塊11及第二限位塊22均為一個(gè)，如圖3所示，第一限位塊11及第二限位塊22分別設(shè)置在第一質(zhì)量塊23及第二質(zhì)量塊24的中間。
[0022]檢測(cè)質(zhì)量塊2的恢復(fù)力F與位于第一質(zhì)量塊23下方的第一限位塊11至彈片21所在直線的距離L具有一函數(shù)關(guān)系:
F=K/L2
其中K為檢測(cè)質(zhì)量塊2的轉(zhuǎn)動(dòng)剛度，位于第一質(zhì)量塊23下方的第一限位塊11至彈片21所在直線的距離L標(biāo)示于圖1中。
[0023]在檢測(cè)質(zhì)量塊2不變的情況下，檢測(cè)質(zhì)量塊2的轉(zhuǎn)動(dòng)剛度K不變。在轉(zhuǎn)動(dòng)剛度K不變的情況下，所述恢復(fù)力F與位于第一質(zhì)量塊23下方的第一限位塊11至彈片21所在直線的距離L的平方成反比，即第一限位塊11至彈片21所在直線的距離L越小，恢復(fù)力F越大。
[0024]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，將第一限位塊11內(nèi)移，縮短位于第一質(zhì)量塊23下方的第一限位塊11至彈片21所在直線的距離L，從而增大檢測(cè)質(zhì)量塊2的恢復(fù)力。但是，第一限位塊11內(nèi)移存在兩個(gè)阻礙:一、如果第一限位塊11內(nèi)移的距離過(guò)大，則會(huì)導(dǎo)致第一質(zhì)量塊23的邊緣觸碰基板1，造成檢測(cè)質(zhì)量塊2與所述基板I的粘附；二、基板I在制造的過(guò)程中表面可能不光滑，存在小的凸起，將第一限位塊11內(nèi)移后，該凸起位置沒(méi)有改變，可能會(huì)觸碰到所述檢測(cè)質(zhì)量塊2，造成檢測(cè)質(zhì)量塊2與所述基板I的粘附。
[0025]圖4A所示為第一限位塊11內(nèi)移前的示意圖，圖4B所示為第一限位塊11內(nèi)移后的示意圖。參見(jiàn)圖4A所示,在基板I上具有一凸起12,所述凸起12可能是基板I在制造過(guò)程中表面不光滑帶來(lái)的。所述凸起12位于第一限位塊11與所述支撐基座3之間，在這種情況下，第一質(zhì)量塊23下移會(huì)首先觸碰到第一限位塊11，而不會(huì)觸碰到凸起12。參見(jiàn)圖4B所示，第一限位塊11內(nèi)移，所述第一限位塊11位于所述凸起12與所述支撐基座3之間，在這種情況下，第一質(zhì)量塊23下移會(huì)首先觸碰凸起12，這是不希望得到的結(jié)果。
[0026]繼續(xù)參見(jiàn)圖1及圖2，對(duì)于上述問(wèn)題，本發(fā)明加速度計(jì)100在基板I上對(duì)應(yīng)于第一質(zhì)量塊23的位置設(shè)置有一凹腔13。在基板I上設(shè)置凹腔13后，在圖4A及圖4B中所示的凸起12位于凹腔13中，在這種情況下，檢測(cè)質(zhì)量塊2向基板I轉(zhuǎn)動(dòng)，首先觸碰到第一限位塊11，而不會(huì)觸碰到凸起12。優(yōu)選地，所述凹腔13的外側(cè)邊緣突出于第一質(zhì)量塊23的邊緣，從而，在檢測(cè)質(zhì)量塊2向基板I轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，第一質(zhì)量塊23的邊緣不觸碰所述基板I。
[0027]本發(fā)明加速度計(jì)100將凹腔13與第一限位塊11配合，當(dāng)檢測(cè)質(zhì)量塊2向基板I轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，在所述檢測(cè)質(zhì)量塊2觸碰所述第一限位塊11的情況下，所述檢測(cè)質(zhì)量塊2不觸碰所述基板I。本發(fā)明既能提高檢測(cè)質(zhì)量塊2的恢復(fù)力，又能保證檢測(cè)質(zhì)量塊2不觸碰基板1，不會(huì)發(fā)生檢測(cè)質(zhì)量塊2與所述基板I粘附的情況。
[0028]所述加速度計(jì)100還包括至少兩個(gè)電極4，所述所述兩個(gè)電極4相對(duì)設(shè)置在基板I上并分別對(duì)應(yīng)于所述檢測(cè)質(zhì)量塊2質(zhì)量較大的一側(cè)和質(zhì)量較小的一側(cè)，用于與所述檢測(cè)質(zhì)量塊形成電容，即分別于所述第一質(zhì)量塊23及第二質(zhì)量塊24形成電容。在本【具體實(shí)施方式】中，加速度計(jì)100包括四個(gè)電極4，所述四個(gè)電極4兩兩相對(duì)分別對(duì)應(yīng)于所述檢測(cè)質(zhì)量塊的第一質(zhì)量塊23及第二質(zhì)量塊24，如圖1中虛線所示。當(dāng)所述加速度計(jì)100存在一與基板I表面垂直方向的加速度時(shí)，所述檢測(cè)質(zhì)量塊2以所述彈片21所在直線為軸轉(zhuǎn)動(dòng)，由于第一質(zhì)量塊23質(zhì)量大于第二質(zhì)量塊24的質(zhì)量，則第一質(zhì)量塊23向基板I傾斜，第二質(zhì)量塊24遠(yuǎn)離基板I，在這種情況下，第一質(zhì)量塊23、第二質(zhì)量塊24與電極4之間的電容發(fā)生變化，通過(guò)測(cè)量該差分電容，可以測(cè)量加速度計(jì)100在Z軸方向的加速度，從而檢測(cè)安放有該加速度計(jì)100的物體在Z軸方向的加速度。
[0029]進(jìn)一步，在本發(fā)明第二【具體實(shí)施方式】中，為了檢測(cè)X軸方向的加速度及Y軸方向的加速度，所述加速度計(jì)100還設(shè)置有梳齒狀電容組。
[0030]圖5所示為本發(fā)明加速度計(jì)第二【具體實(shí)施方式】的俯視圖。參見(jiàn)圖5所示，所述加速度計(jì)100包括至少一個(gè)第一梳齒狀電容組5,在本【具體實(shí)施方式】中,包括兩個(gè)第一梳齒狀電容組5。所述兩個(gè)第一梳齒狀電容組5沿與基板I表面平行的第一方向兩兩相對(duì)設(shè)置。在本【具體實(shí)施方式】中，所述第一方向?yàn)閄軸方向。所述第一梳齒狀電容組5包括固定設(shè)置在所述基板I上的第一感測(cè)電容板51，設(shè)置在所述檢測(cè)質(zhì)量塊2上與所述第一感測(cè)電容板51相應(yīng)位置的第二感測(cè)電容板52，還可以包括設(shè)置在支撐基座3上與所述第一感測(cè)電容板51相應(yīng)位置的第三感測(cè)電容板53。
[0031]當(dāng)所述加速度計(jì)100存在一第一方向的加速度時(shí)，所述檢測(cè)質(zhì)量塊2沿第一方向平移，導(dǎo)致第一感測(cè)電容板51與第二感測(cè)電容板52及第一感測(cè)電容板51與第三感測(cè)電容板53之間的重疊面積發(fā)生變化，從而導(dǎo)致第一梳齒狀電容組5的電容發(fā)生變化，藉此測(cè)量加速度計(jì)100在第一方向的加速度,從而檢測(cè)安放有該加速度計(jì)100的物體在第一方向的加速度。
[0032]進(jìn)一步，所述加速度計(jì)100還包括至少一個(gè)第二梳齒狀電容組6，在本【具體實(shí)施方式】中，所述加速度計(jì)100包括兩個(gè)第二梳齒狀電容組6，所述兩個(gè)第二梳齒狀電容組6沿與基板I表面平行的第二方向兩兩相對(duì)設(shè)置，所述第二方向與所述第一方向垂直，在本【具體實(shí)施方式】中，所述第二方向?yàn)閅軸方向。所述第二梳齒狀電容組6包括固定設(shè)置在所述基板I上的第一感測(cè)電容板61，設(shè)置在所述檢測(cè)質(zhì)量塊2上與所述第一感測(cè)電容板61相應(yīng)位置的第二感測(cè)電容板62。
[0033]當(dāng)所述加速度計(jì)100存在一第二方向的加速度時(shí)，所述檢測(cè)質(zhì)量塊2沿第二方向平移，導(dǎo)致第一感測(cè)電容板61與第二感測(cè)電容板62之間的距離發(fā)生變化，從而導(dǎo)致第二梳齒狀電容組6的電容發(fā)生變化，藉此測(cè)量加速度計(jì)100在第二方向的加速度，從而檢測(cè)安放有該加速度計(jì)100的物體在第二方向的加速度。
[0034]進(jìn)一步，在本發(fā)明的其他實(shí)施方式中，所述加速度計(jì)100還包括絕緣層14，附圖6所示為在基板I上設(shè)置絕緣層14的加速度計(jì)100的示意圖。參見(jiàn)附圖6所示，所述絕緣層14填滿所述凹腔13。所述絕緣層14可以為氧化層。由于絕緣層14填滿所述凹腔13，可以使得基板I上的凸起12被覆蓋，基板I面向檢測(cè)質(zhì)量塊2的一面光滑，當(dāng)檢測(cè)質(zhì)量塊2向基板I運(yùn)動(dòng)時(shí)，不會(huì)有檢測(cè)質(zhì)量塊2觸碰凸起12的情況發(fā)生。
[0035]以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種加速度計(jì)，包括基板、檢測(cè)質(zhì)量塊及支撐基座，所述支撐基座固定在所述基板上，所述檢測(cè)質(zhì)量塊通過(guò)一相對(duì)設(shè)置的彈片以非對(duì)稱的方式懸置在所述支撐基座的表面，當(dāng)所述加速度計(jì)存在一與基板表面垂直方向的加速度時(shí)，所述檢測(cè)質(zhì)量塊以彈片所在直線為軸轉(zhuǎn)動(dòng)，其特征在于，所述基板包括凹腔及第一限位塊，所述凹腔設(shè)置于所述檢測(cè)質(zhì)量塊質(zhì)量較大的一側(cè)，用于防止所述檢測(cè)質(zhì)量塊在轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中觸碰所述基板，所述第一限位塊位于所述支撐基座與所述凹腔之間，用于限制所述檢測(cè)質(zhì)量塊可以轉(zhuǎn)至的最大位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速度計(jì)，其特征在于，所述加速度計(jì)進(jìn)一步包括一絕緣層，所述絕緣層填充滿所述凹腔。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速度計(jì)，其特征在于，所述加速度計(jì)進(jìn)一步包括至少一個(gè)第一梳齒狀電容組，所述第一梳齒狀電容組包括固定設(shè)置在所述基板上的第一感測(cè)電容板，設(shè)置在所述檢測(cè)質(zhì)量塊上與所述第一感測(cè)電容板相應(yīng)位置的第二感測(cè)電容板，當(dāng)所述加速度計(jì)存在一與基板表面平行的第一方向的加速度時(shí)，所述第一梳齒狀電容組的電容發(fā)生變化。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的加速度計(jì)，其特征在于，所述第一梳齒狀電容組還包括設(shè)置在支撐基座上與所述第一感測(cè)電容板相應(yīng)位置的第三感測(cè)電容板。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的加速度計(jì)，其特征在于，所示加速度計(jì)包括兩個(gè)第一梳齒狀電容組，所述第一梳齒狀電容組沿與基板表面平行的第一方向兩兩相對(duì)設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的加速度計(jì)，其特征在于，所述加速度計(jì)進(jìn)一步包括至少一個(gè)第二梳齒狀電容組，所述第二梳齒狀電容組包括固定設(shè)置在所述基板上的第一感測(cè)電容板，設(shè)置在所述檢測(cè)質(zhì)量塊上與所述第一感測(cè)電容板相應(yīng)位置的第二感測(cè)電容板，當(dāng)所述加速度計(jì)存在一與基板表面平行的第二方向的加速度時(shí)，所述第二梳齒狀電容組的電容發(fā)生變化，所述第一方向與所述第二方向垂直。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的加速度計(jì)，其特征在于，所述加速度計(jì)包括兩個(gè)第二梳齒狀電容組，所述第二梳齒狀電容組沿與基板表面平行的第二方向兩兩相對(duì)設(shè)置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速度計(jì)，其特征在于，所述基板還包括第二限位塊，所述第二限位塊對(duì)應(yīng)于所述檢測(cè)質(zhì)量塊質(zhì)量較小的一側(cè)設(shè)置，用于限制所述檢測(cè)質(zhì)量塊可以轉(zhuǎn)至的最大位置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速度計(jì)，其特征在于，還包括至少兩個(gè)電極，所述兩個(gè)電極相對(duì)設(shè)置在基板上并分別對(duì)應(yīng)于所述檢測(cè)質(zhì)量塊質(zhì)量較大的一側(cè)和質(zhì)量較小的一側(cè)，用于與所述檢測(cè)質(zhì)量塊形成電容。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加速度計(jì)，其特征在于，所述支撐基座采用多點(diǎn)固定的方式固定在所述基板上。
【文檔編號(hào)】G01P15/125GK104459201SQ201310426729
【公開(kāi)日】2015年3月25日 申請(qǐng)日期:2013年9月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月18日
【發(fā)明者】裘進(jìn) 申請(qǐng)人:上海矽?？萍加邢薰?br>