專利名稱：用于檢查涂覆表面的放氣方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及儲存生物活性化合物或血液的涂覆容器的制造的技術(shù)領(lǐng)域。特別地， 本發(fā)明涉及一種用于容器的涂覆的容器處理系統(tǒng)，用于容器的涂覆和檢查的容器處理系統(tǒng)，涉及一種用于容器處理系統(tǒng)的便攜式容器支架，涉及一種用于涂覆容器的內(nèi)部表面的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置，涉及一種用于涂覆容器的內(nèi)部表面的方法，涉及一種用于檢查容器涂層的方法，涉及一種處理容器的方法，涉及一種容器處理系統(tǒng)的用途，涉及一種計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)并且涉及一種程序元件。在此提供了用于檢查涂覆工藝的產(chǎn)品的一種方法。其中，測量了至少一種揮發(fā)性物種從該涂覆表面到與該涂覆表面鄰近的氣體空間中的釋放并且將該結(jié)果與對于在相同試驗(yàn)條件下測量的至少一個參考對象的結(jié)果進(jìn)行比較。從而可以確定該涂層的存在或缺乏、和/或該涂層的物理和/或化學(xué)特性。該方法對于檢查任何涂覆的物品(例如容器) 是有用的。還披露了它的在由有機(jī)硅前體制成的PECVD涂層尤其是阻擋涂層的檢查方面的應(yīng)用。本披露還涉及改進(jìn)的用于處理容器的方法，這些容器例如是用于靜脈穿刺和其它醫(yī)學(xué)采樣、藥物制劑儲存和遞送、以及其它目的的多個相同的容器。這樣的容器被大量地應(yīng)用于這些目的，并且對于制造而言必須是相對經(jīng)濟(jì)的并且在儲存和使用中仍然是高度可靠的。
背景技術(shù)：
例如，真空采血管用于從病人抽取用于醫(yī)學(xué)分析的血液。這些管被抽真空而出售。 通過將一個兩端皮下針頭的一端插入到病人的血管中并且在該兩端針頭的另一端刺穿該真空采血管的閉合件，病人的血液被連通到一個管的內(nèi)部。真空采血管內(nèi)的真空通過針頭把血液抽取(或準(zhǔn)確地說，病人的血壓推動了血液)進(jìn)入該真空采血管中，增大了該管內(nèi)的壓力并且因此減小了引起血液流動的壓差。典型地血液流動繼續(xù)直到該管從針頭移開或者該壓差太小而不能支持流動。真空采血管應(yīng)該具有一個實(shí)質(zhì)性的保質(zhì)期以有助于這些管在使用之前的有效且方便的分配和儲存。例如，一年的保質(zhì)期是令人希望的，并且在一些情況下漸進(jìn)更長的保質(zhì)期，如18個月，M個月，或36個月也是所希望的。該管令人希望地保持基本上完全真空，至少達(dá)到抽取足夠的用于分析的血液所必需的程度(一個共同標(biāo)準(zhǔn)是該管要保持至少原始抽取體積的90% )，對于整個保質(zhì)期，很少(最佳地是沒有)提供有缺陷的管?！獋€有缺陷的管有可能造成抽血者不能使用該管來抽取足夠的血液。于是抽血者可能需要獲得并且使用一個或多個另外的管以獲得一個足夠的血樣。再例如，預(yù)充式注射器通常是被準(zhǔn)備好而出售的，因此這種注射器不需要在使用前進(jìn)行填充。在一些實(shí)例中，可以用鹽溶液、一種用于注射的染料、或一種藥物活性制劑預(yù)填充注射器。通常地，預(yù)充式注射器在遠(yuǎn)端是加帽的(正如帶有一個帽)，并且在近端通過它的拉動柱塞是封閉的。在使用之前可以將預(yù)充式注射器包裝在一種無菌包裝中。為了使用該預(yù)充式注射器，移開包裝和帽，任選地將一個皮下針頭或另一個遞送導(dǎo)管附接到注射器筒的遠(yuǎn)端，將該遞送導(dǎo)管或注射器移動到一個使用位置(如通過將皮下針頭插入到病人的血管中或進(jìn)入有待用該注射器的內(nèi)容物進(jìn)行沖洗的裝置中)，并且該柱塞在該筒中前進(jìn)以注射該筒的內(nèi)容物。在制造預(yù)充式注射器過程中，一個重要的考慮是該注射器的內(nèi)容物令人希望地將具有一個實(shí)質(zhì)性的保質(zhì)期，在此期間使填充該注射器的材料與含有該材料的筒壁隔離是重要的，以避免來自該筒的浸出材料進(jìn)入這些預(yù)填充的內(nèi)容物中或者反之亦然。因?yàn)樵S多的這些容器是價(jià)廉的并且已被大量使用，對于某些應(yīng)用將有用的是，在沒有將制造成本增加到一個高不可及的水平的情況下可靠地獲得必要的保質(zhì)期。并且，對于某些應(yīng)用而言令人希望的是避開玻璃容器(玻璃容器可能破損并且對于制造而言是昂貴的)而偏愛于在正常使用中很少破損的塑料容器(并且如果破損也不形成來自容器的殘留物的尖銳的碎片，而像玻璃管會形成這樣的碎片)。玻璃容器已經(jīng)被偏愛是因?yàn)榕c未處理的塑料相比較對于預(yù)充填的內(nèi)容物而言玻璃是更氣密性的以及惰性的。并且，由于它的傳統(tǒng)使用，玻璃是普遍接受的，因?yàn)橐阎?dāng)玻璃與醫(yī)學(xué)樣品或藥物制劑等相接觸時是相對無害的。關(guān)于注射器的一個進(jìn)一步的考慮是當(dāng)把柱塞壓進(jìn)筒時確保它能以恒定的速度和恒定的力進(jìn)行移動。為此目的，在筒和柱塞之一或兩者上的一個潤滑涂層是令人希望的。一個非詳盡無遺的可能相關(guān)的專利清單包括美國專利6，068，884和4，844，986以及美國公開申請20060046006和2004(^67194。發(fā)明概述本發(fā)明的一個目標(biāo)是提供一種改進(jìn)的涂覆容器的制造。下面描述了多種方法以及根據(jù)這些方法制造的器件，其中這些方法可以通過下面進(jìn)一步描述的容器處理系統(tǒng)來進(jìn)行并且這些器件可以通過這個系統(tǒng)來制造。本發(fā)明提供了用涂層(通過PECVD由有機(jī)硅前體來制造)來涂覆表面(例如容器的內(nèi)部表面)的一種方法。此外，本發(fā)明提供了產(chǎn)生的涂層、涂覆有這樣的涂層的容器、以及該涂層的用途(例如，作為潤滑涂層、疏水涂層、或阻擋涂層)。而且，提供了用于進(jìn)行本發(fā)明的裝置以及數(shù)種設(shè)備。本發(fā)明還提供了用于該涂層的檢查方法，特別是將通過涂覆表面的揮發(fā)性物種(volatile species)的放氣用于所述檢查的一種方法。PECVD涂覆方法本發(fā)明涉及一種通過等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積處理(PECVD)來制備涂層的方法，以及例如一種涂覆容器的內(nèi)部表面的方法。提供了一個表面(例如一個內(nèi)部容器表面)，如同是一種反應(yīng)混合物，該混合物包括一種有機(jī)硅化合物氣體，任選地一種氧化氣體，以及任選地一種烴氣體。該表面與該反應(yīng)混合物相接觸。等離子體在反應(yīng)混合物中形成。優(yōu)選地，所述等離子體是非空心陰極等離子體，或?qū)τ谙嗤闆r的另一種表述中，所述等離子體基本上不含空心陰極等離子體。該涂層被沉積在該表面的至少一個部分(例如該容器內(nèi)壁的一個部分)上。該方法是如下實(shí)現(xiàn)的。提供了一種前體。優(yōu)選地，所述前體是一種有機(jī)硅化合物(在下面也指定為“有機(jī)硅前體”)，更優(yōu)選地是選自下組的一種有機(jī)硅化合物，該組由以下各項(xiàng)組成線性硅氧烷、 單環(huán)硅氧烷、多環(huán)硅氧烷、聚倍半硅氧烷、烷基三甲氧基硅烷、任何這些前體的氮雜類似物 (即，線性硅氮烷、單環(huán)硅氮烷、多環(huán)硅氮烷、聚倍半硅氮烷)、以及這些前體的任何兩種或更多種的組合。在通過PECVD有效形成一種涂層的條件下將該前體施加到一種基底上。于是該前體被聚合、交聯(lián)、部分地或完全地氧化、或這些之中的任何組合。在本發(fā)明的一個方面，該涂層是一個潤滑涂層，即它形成具有比未涂覆的基底更低的摩擦阻力的一個表面。在本發(fā)明的另一個方面，該涂層是一種鈍化涂層，例如一種導(dǎo)致例如與該涂覆表面相接觸的組合物的組分的更少的沉淀的疏水涂層。這樣的疏水涂層的特征在于比未涂覆的對應(yīng)物更低的濕潤張力。本發(fā)明的潤滑涂層還可以是一種鈍化涂層，并且反之亦然。在本發(fā)明的一個進(jìn)一步的方面，該涂層是一種阻擋涂層，例如一種SiOx涂層。典型地，該阻擋層是防氣體或液體的，優(yōu)選地是防水蒸氣、氧氣和/或空氣的。還可以使用該阻擋層來建立和/或維持涂覆有該阻擋涂層的容器內(nèi)部(例如一個采血管內(nèi)部)的真空。此外，本發(fā)明的方法可以包括通過PECVD從一種有機(jī)硅前體制造的一個或多個另外的涂層的施加。一個任選的另外的步驟是用基本上由氧氣組成的并且基本上不含揮發(fā)性硅化合物的一種工藝氣體對該SiOx涂層進(jìn)行后處理。潤滑涂層在一個具體的方面，本發(fā)明提供了一種潤滑涂層。這種涂層是通過PECVD方法并且使用如上所述的前體而有利地制造的。例如，本發(fā)明提供了用于設(shè)置在基底表面上的一種涂層的潤滑特性的一種方法， 該方法包括以下步驟(a)在該基底表面附近提供一種氣態(tài)反應(yīng)物，該氣態(tài)反應(yīng)物包含一種有機(jī)硅前體以及任選地O2;并且(b)從該氣態(tài)反應(yīng)物產(chǎn)生一種等離子體，因此通過等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積 (PECVD)在該基底表面上形成一個涂層，其中該涂層的潤滑特性是通過設(shè)置該氣態(tài)反應(yīng)物中化與有機(jī)硅前體的比率、和/或通過設(shè)置用于產(chǎn)生該等離子體所使用的電功率進(jìn)行設(shè)置的。用于該潤滑涂層的一個優(yōu)選的前體是單環(huán)硅氧烷，例如八甲基環(huán)四硅氧烷 (OMCTS)。與未處理的基底相比，所產(chǎn)生的涂覆表面具有更低的摩擦阻力。例如，當(dāng)該涂覆表面是注射器筒和/或注射器柱塞的內(nèi)部時，該潤滑涂層有效地提供了小于在該潤滑涂層缺乏時所需要的相應(yīng)的力的起動力(breakout force)或柱塞滑動力或兩者。涂覆有潤滑涂層的物品可以是在壁上(優(yōu)選地在內(nèi)壁上)具有潤滑涂層的一種容器，例如一種注射器筒、或在容器接觸表面上具有所述涂層的一種容器部件或容器帽，例如一種注射器柱塞或一種容器帽。在一個方面，該潤滑涂層可以具有式SiwOxCyHz，例如其中w是1，χ是1，χ是從大約0. 5至大約2. 4，y是從大約0. 6至大約3，并且ζ是從大約2至大約9，優(yōu)選地其中w是 1，χ是從大約0. 5至1，y是從大約2至大約3，并且ζ是從6至大約9。
鈍化，例如疏水涂層根據(jù)本發(fā)明的鈍化涂層是例如一種疏水涂層。用于鈍化(例如疏水涂層)的一種優(yōu)選的前體是一種線性硅氧烷，例如六甲基二硅氧烷(HMDSO)。根據(jù)本發(fā)明的一種鈍化涂層防止或減少了未涂覆的表面對包含在該容器中的化合物或組合物的機(jī)械和/或化學(xué)作用。例如，防止或減少了與該表面相接觸的組合物的一種化合物或組分的沉淀和/或凝固或血小板激活，例如防止了血液凝固或血小板激活或胰島素沉淀、或未涂覆表面被水性流體潤濕。本發(fā)明的一個具體方面是具有一個疏水涂層的表面，該涂層具有式SiwOxCyHz，例如其中w是1，χ是從大約0. 5至大約2. 4，y是從大約0. 6至大約3，并且ζ是從大約2至大約9，優(yōu)選地其中w是1，χ是從大約0. 5至1，y是從大約2至大約3，并且ζ是從6至大約9。涂覆有鈍化涂層的物品可以是在壁上(優(yōu)選地在內(nèi)壁上)具有這種涂層的一種容器，例如一種管、或在容器接觸表面上具有所述涂層的一種容器部件或容器帽，例如一種容器巾冒。容器的涂覆當(dāng)使用PECVD通過上述涂覆方法來涂覆容器時，該涂覆方法包括數(shù)個步驟。提供了一種容器，該容器具有一個開口端、一個閉合端、以及一個內(nèi)部表面。將至少一種氣態(tài)反應(yīng)物引入該容器中。在有效形成該反應(yīng)物的反應(yīng)產(chǎn)物(即該容器的內(nèi)部表面上的一個涂層)的條件下在該容器之內(nèi)形成等離子體。優(yōu)選地，該方法是通過使該容器的開口端落座于如在此所述的一個容器支架上、 在該容器支架與該容器的內(nèi)部之間建立一個密封連通來進(jìn)行的。在這個優(yōu)選的方面，該氣態(tài)反應(yīng)物是通過該容器支架而引入該容器中的。在本發(fā)明的一個特別優(yōu)選的方面，將包括一個容器支架、一個內(nèi)部電極、一個外部電極、以及一個電源的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD)裝置用于根據(jù)本發(fā)明的涂覆方法。該容器支架具有一個端口，以將容器接收在一個落座的位置用于處理。該內(nèi)部電極被定位從而有待被接收在落座于在一個容器支架上的容器之內(nèi)。該外部電極具有一個內(nèi)部部分，該內(nèi)部部分被定位以接收落座于該容器支架上的一個容器。該電源將交流電輸入到這些內(nèi)部和/或外部電極上從而在落座于該容器支架上的容器中形成一種等離子體。典型地，該電源將交流電輸入到該外部電極上而該內(nèi)部電極是接地的。在這個實(shí)施方案中，該容器限定了該等離子體反應(yīng)室。在本發(fā)明的一個具體方面，如前面段落中所述的PECVD裝置包括一個并不必需包括真空源的放氣管，用于將氣體傳遞至落座在該端口上的容器的內(nèi)部或者傳遞來自該容器的內(nèi)部的氣體，以限定一個閉合室。在本發(fā)明的一個進(jìn)一步的具體的方面，該P(yáng)ECVD裝置包括一個容器支架、一個第一夾鉗、在該容器支架上的一個座、一個反應(yīng)物供應(yīng)裝置、一個等離子體發(fā)生器、以及一個容器釋放裝置。該容器支架被配置用于落座于一個容器的開口端上。該第一夾鉗被配置用于選擇性地保持以及釋放容器的閉合端并且同時夾住該容器的閉合端，將該容器運(yùn)送至該容器支架附近。該容器支架具有一個座，該座被配置用于在該容器支架與該第一容器的內(nèi)部空間之間建立密封的連通。該反應(yīng)物供應(yīng)裝置被可操作地連接用于通過該容器支架將至少一種氣態(tài)反應(yīng)物引入到該第一容器內(nèi)。該等離子體發(fā)生器被配置用于在該第一容器的內(nèi)部表面上有效形成反應(yīng)物的反應(yīng)產(chǎn)物的條件下在該第一容器內(nèi)形成等離子體。提供了該容器釋放裝置用于從該容器支架將該第一容器移開。一個夾鉗(該夾鉗是第一夾鉗或另一個夾鉗)被配置用于軸向地運(yùn)送該第一容器離開該容器支架進(jìn)而釋放該第一容器。在本發(fā)明的一個具體方面，該方法是用于通過PECVD來涂覆容器的一個限制的開口的內(nèi)表面，例如一個大致管狀的容器。該容器包括一個外部表面、限定了一個內(nèi)腔的一個內(nèi)表面、具有內(nèi)徑的一個較大的開口、以及一個限制的開口，該限制的開口被一個內(nèi)表面所限定并且相比于該較大開口的內(nèi)徑具有較小的內(nèi)徑。提供了一種處理容器，該處理容器具有一個內(nèi)腔以及一個處理容器開口。該處理容器開口與該容器的限制的開口相連接從而經(jīng)由該限制的開口在有待處理的容器的內(nèi)腔與處理容器內(nèi)腔之間建立連通。將有待處理的容器的內(nèi)腔以及處理容器內(nèi)腔之內(nèi)抽成至少部分真空。PECVD反應(yīng)物被流動通過該第一開口， 然后通過有待處理的容器的內(nèi)腔，然后通過該限制的開口，然后進(jìn)入該處理容器的內(nèi)腔。在將一個PECVD反應(yīng)產(chǎn)物的涂層有效沉積在限制的開口的內(nèi)表面上的條件下在該限制的開口的附近產(chǎn)生等離子體。涂覆的容器以及容器部件本發(fā)明進(jìn)一步提供了從如上所述的方法產(chǎn)生的涂層、涂覆有所述涂層的表面、以及例如涂覆有所述涂層的容器。涂覆有這種涂層的表面(例如容器壁或它的一部分)可以是玻璃或一種聚合物， 優(yōu)選地一種熱塑性聚合物，更優(yōu)選地選自下組的一種聚合物，該組由以下各項(xiàng)組成一種聚碳酸酯、一種烯烴聚合物、一種環(huán)烯烴共聚物以及一種聚酯。例如，它是一種環(huán)烯烴共聚物、
一種聚對苯二甲酸乙二酯或一種聚丙烯。在本發(fā)明的一個具體方面，該容器壁具有被至少一個外部聚合物層圍繞的一個內(nèi)部聚合物層。這些聚合物可以是相同的或不同的。例如，環(huán)烯烴共聚物(COC)樹脂的這些聚合物層之一(例如，限定了一個水蒸氣阻擋層)，另一個聚合物層是聚酯樹脂的一個層。 這樣的容器是由包括通過同心的注射噴嘴將COC以及聚酯樹脂層引入一個注塑模具中的一種方法來制造的。本發(fā)明的涂覆容器可以是空的、抽空的或(預(yù))填充有一種化合物或組合物的。本發(fā)明的一個具體的方面是具有一種鈍化涂層(例如如上所定義的一種疏水涂層)的容器。本發(fā)明的一個進(jìn)一步的具體方面是具有如上所定義的一個潤滑涂層的表面。它可以是在壁上(優(yōu)選地在內(nèi)壁上)具有潤滑涂層的一種容器，例如一種注射器筒、或在容器接觸表面上具有所述涂層的一種容器部件或容器帽，例如一種注射器柱塞或一種容器帽。本發(fā)明的一個具體的方面是一種注射器，該注射器包括一個柱塞、一個注射器筒、 以及在這些注射器部件之一或兩者上(優(yōu)選地在該注射器筒的內(nèi)壁上)的如上所定義的一個潤滑涂層。該注射器筒包括一個筒，該筒具有一個可滑動地接收一個柱塞的內(nèi)部表面。該潤滑涂層可以被布置在該注射器筒的內(nèi)部表面上、或接觸該筒的柱塞表面上、或在所述表面兩者上。該潤滑涂層有效減少了對于在筒內(nèi)移動柱塞所必需的起動力或柱塞滑動力。本發(fā)明的一個進(jìn)一步具體的方面是涂覆有如前面段落中所定義的潤滑涂層的注射器筒。在所述涂覆的注射器筒的一個具體的方面，該注射器筒包含一個筒，該筒定義了一個內(nèi)腔并且具有一個可滑動地接收一個柱塞的內(nèi)部表面。該注射器筒有利地是由熱塑性材料制成的。通過等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積(PECVD)將一個潤滑涂層施加到該筒內(nèi)部表面、該柱塞、或兩者上。例如以有效減少該潤滑涂層、該熱塑性材料、或兩者浸出進(jìn)入該內(nèi)腔中的一個量將一種溶質(zhì)阻擋物(solute retainer)通過表面處理施加到該潤滑涂層上。 該潤滑涂層和溶質(zhì)阻擋物是以有效提供比在缺乏該潤滑涂層以及溶質(zhì)阻擋物的情況下所需要的相應(yīng)的力更小的一個起動力、柱塞滑動力、或兩者的相對量來組成和存在的。本發(fā)明的又另一個方面是一種注射器，該注射器包括一個柱塞、注射器筒、以及內(nèi)部以及外部涂層。該筒具有可滑動地接收該柱塞的一個內(nèi)部表面以及一個外部表面。一個潤滑涂層位于內(nèi)部表面上，并且可以將SiOx (其中X是從大約1. 5至大約2. 9)的一個另外的阻擋涂層提供在該筒的內(nèi)部表面上。例如一種樹脂的或一種另外的SiOx涂層的一個阻擋涂層被提供在該筒的外部表面上。本發(fā)明的另一個方面是一種注射器，該注射器包括一個柱塞、一個注射器筒、以及一個魯爾接頭(Luer fitting)。該注射器筒具有可滑動地接收該柱塞的一個內(nèi)部表面。 該魯爾接頭包括一個魯爾錐(Luer taper)，該魯爾錐具有由一個內(nèi)表面限定的一個內(nèi)部通道。該魯爾接頭以與該注射器筒分離的一個分離件的形式而形成并且通過一個連接器連接到該注射器筒上。魯爾錐的內(nèi)部通道具有SiOx(其中χ是從約1.5至大大約2. 9)的阻擋涂層。本發(fā)明的另一個方面是用于注射器的一種柱塞，該柱塞包括一個活塞以及一個推桿。該活塞具有一個前面、一個大致圓柱形的側(cè)面、以及一個后部分，該側(cè)面被配置為可移動地落座于注射器筒之內(nèi)。該柱塞在它的側(cè)面上具有一個根據(jù)本發(fā)明的潤滑涂層。該推桿接合該柱塞的后部分并且被配置為使活塞在注射器筒中前進(jìn)。該柱塞可以另外地包括一個 SiOx涂層。本發(fā)明的一個進(jìn)一步的方面是僅具有一個開口的容器，即用于收集或儲存一種化合物或組合物的一種容器。在一個具體的方面，這樣的容器是一種管，例如一種采樣管，例如一種采血管。所述管可以用一個閉合件(例如一個帽或塞子)來閉合。這樣的蓋或塞子在它的與管相接觸的表面上可以包括一個根據(jù)本發(fā)明的潤滑涂層，和/或在它的面向該管的內(nèi)腔的表面上它可以包含一個根據(jù)本發(fā)明的鈍化涂層。在一個具體的方面，這樣的塞子或它的一部分可以由一種彈性體材料制成。這樣的一種塞子可以如下制造將塞子置于在一個基本上抽空的室中。提供一種反應(yīng)混合物，該反應(yīng)混合物包括一種有機(jī)硅化合物氣體，任選地一種氧化氣體、以及任選地一種烴氣體。在與該塞子相接觸的反應(yīng)混合物中形成等離子體。將一個涂層沉積在該塞子的至少一部分上。本發(fā)明的一個進(jìn)一步的方面是一種具有根據(jù)本發(fā)明的阻擋涂層的容器。該容器是大致管狀的并且可以由熱塑性材料制成。該容器具有一個開口和至少部分被一個壁限定的一個內(nèi)腔。該壁具有與該內(nèi)腔分界的一個內(nèi)表面。在一個優(yōu)選的方面，由如上所定義的SiOx 制成的一個至少基本上連續(xù)的阻擋涂層被施加到該壁的內(nèi)表面上。該阻擋涂層有效保持該容器內(nèi)至少90%的它的初始真空水平，任選地95%的它的初始真空水平，持續(xù)至少M(fèi)小時的保質(zhì)期。提供了一個閉合件，該閉合件覆蓋該容器的開口并且使該容器的內(nèi)腔與環(huán)境空氣相隔離。使用如本說明書中所述的有機(jī)硅前體的PECVD制造的涂層以及PECVD涂覆方法對于涂覆導(dǎo)管或小杯以形成一個阻擋涂層、一個疏水涂層、一個潤滑涂層、或這些之中的一項(xiàng)以上也是有用的。小杯是一種具有圓形或方形截面、一端密封的、由聚合物、玻璃、或熔融石英(用于UV光)制造的并且被設(shè)計(jì)用于容納樣品用于光譜實(shí)驗(yàn)的小型管。最好的小杯是盡可能透明的，沒有可能影響光譜讀數(shù)的雜質(zhì)。如同一種試管，小杯可以是向大氣開放的或具有一個帽從而將它密封關(guān)閉。本發(fā)明的施加PECVD的涂層可以是非常薄的、透明的、并且光學(xué)平坦的、因此不干擾該小杯或它的內(nèi)容物的光學(xué)測試。(預(yù))填充的涂覆容器本發(fā)明的一個具體方面是如上所述的一種涂覆容器，該容器在它的內(nèi)腔中被預(yù)填充有一種化合物或組合物或用于用一種化合物或組合物進(jìn)行填充。所述化合物或組合物可以是(i) 一種生物活性化合物或組合物，優(yōu)選一種藥劑，更優(yōu)選胰島素或包含胰島素的一種組合物；或(ii) 一種生物流體，優(yōu)選一種體液，更優(yōu)選血液或一種血液成分(例如，血細(xì)胞)； 或(iii)在該容器中用于與另一種化合物或組合物相直接組合的一種化合物或組合物，例如在采血管中用于防止血液凝固、或血小板激活的一種化合物，像檸檬酸鹽或含有檸檬酸鹽的組合物。通常，本發(fā)明的涂覆容器對于收集或儲存對未涂覆容器材料的表面的機(jī)械和/或化學(xué)作用敏感的一種化合物或組合物是特別有用的，優(yōu)選地針對防止或減少與該容器的內(nèi)部表面相接觸的組合物的一種化合物或一種組分的沉淀和/或凝固或血小板激活。例如，具有配備有本發(fā)明的一種疏水涂層的壁的并且容納有一種含水檸檬酸鈉試劑的細(xì)胞制備管是適合用于收集血液并且防止或減少血液凝固的。該含水檸檬酸鈉試劑以有效抑制引入該管中的血液凝固的一個量而被布置在該管的內(nèi)腔中。本發(fā)明的一個具體的方面是用于收集/接收血液的一種容器或一種容納血液的容器。該容器具有一個壁；該壁具有定義了一個內(nèi)腔的內(nèi)表面。該壁的內(nèi)表面具有一個本發(fā)明的一個至少部分疏水涂層。該涂層可以是薄如單分子厚度或厚如大約lOOOnm。被收集或儲存在該容器中的血液優(yōu)選地是以能活的方式返回到病人的血管系統(tǒng)中而被布置在與涂層相接觸的內(nèi)腔中。與相同類型的未涂覆的壁相比較，該涂層有效減少了暴露于該內(nèi)表面的血液的凝固或血小板激活。本發(fā)明的另一個方面是一種容納胰島素的容器，該容器包括具有定義了一個內(nèi)腔的內(nèi)表面的一個壁。該內(nèi)表面具有本發(fā)明的一個至少部分疏水涂層。在內(nèi)表面上該涂層可以是從單分子厚度至大約IOOOnm厚。胰島素或包含胰島素的一種組合物被布置在與該涂層相接觸的該內(nèi)腔中。任選地，與缺乏該涂層的相同表面相比較，該涂層有效減少了從接觸內(nèi)表面的胰島素形成沉淀。因此關(guān)于涂覆方法、涂覆產(chǎn)品以及所述產(chǎn)品的用途，本發(fā)明提供了以下實(shí)例(1) 一種用于設(shè)置在基底表面上的涂層的潤滑特性的方法，該方法包括以下步驟(a)在該基底表面附近提供包括一種有機(jī)硅前體或任選地&的一種氣態(tài)反應(yīng)物； 以及(b)從該氣態(tài)反應(yīng)物產(chǎn)生一種等離子體，由此通過等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積 (PECVD)在該基底表面上形成一個涂層，其中該涂層的潤滑特性是通過設(shè)置氣態(tài)反應(yīng)物中&與有機(jī)硅前體的比率，和/或通過設(shè)置用于產(chǎn)生該等離子體所使用的電功率來設(shè)置的。(2) 一種用于在一種基底上制備疏水涂層的方法，該方法包括以下步驟(a)在該基底表面附近提供包括一種有機(jī)硅前體以及任選地&的氣態(tài)反應(yīng)物；以及(b)從該氣態(tài)反應(yīng)物產(chǎn)生一種等離子體，由此通過等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積 (PECVD)在該基底表面上形成一種涂層，其中該涂層的疏水特性是通過設(shè)置氣態(tài)反應(yīng)物中&與該有機(jī)硅前體的比率，和/ 或通過設(shè)置用于產(chǎn)生該等離子體所使用的電功率來設(shè)置的。(3)如(1)或( 所述的方法，這導(dǎo)致了一種涂層，該涂層被表征為一個總式，其中與有機(jī)硅前體的總式相比較，原子比C 0是增加的和/或原子比Si 0是降低的。(4)根據(jù)(1)至(3)中的任一項(xiàng)所述的方法，其中O2以相對于氣態(tài)反應(yīng)物的以下體積-體積比率而存在從0 1至5 1，任選地從0 1至1 1，任選地從0 1至 0.5 1，任選地從0 1至0. 1 1，優(yōu)選地其中在該氣態(tài)反應(yīng)物中至少實(shí)質(zhì)上不存在氧氣。(5)根據(jù)(1)至(4)中的任一項(xiàng)所述的方法，其中該氣態(tài)反應(yīng)物包括小于1體積％ 的O2，，更具體地小于0. 5體積％的02，并且最優(yōu)選地是不含02。(6)根據(jù)(1)至(5)中的任一項(xiàng)所述的方法，其中該等離子體是非空心陰極等離子體。(7)根據(jù)(1)至(6)中的任一項(xiàng)所述的方法，其中該基底是具有一個內(nèi)腔的容器的內(nèi)壁，該內(nèi)腔具有以下空體積從0. 5至50ml，優(yōu)選從1至10ml，更優(yōu)選從0. 5至5ml，最優(yōu)選從1至:3ml。(8)根據(jù)(1)至(7)中的任一項(xiàng)所述的方法(i)其中該等離子體是用電極產(chǎn)生的，這些電極用足夠的功率供能從而在基底表面上形成一個涂層，優(yōu)選地使用提供有以下電功率的電極從0. 1至25W，優(yōu)選地從1至 22W,更優(yōu)選地從3至17W，甚至更優(yōu)選地從5至14W，最優(yōu)選地從7至11W，特別地是8W ；和 /或(ii)其中該電極功率與等離子體體積的比率是小于10W/ml，優(yōu)選地是從5W/ml至 0. lW/ml，更優(yōu)選地是從4W/ml至0. lW/ml，最優(yōu)選地是從2W/ml至0. 2ff/mL·(9) 一種用于在基底表面上制備一種涂層的方法，該方法包括以下步驟(a)在該基底表面附近提供包括一種有機(jī)硅前體以及任選地O2的一種氣態(tài)反應(yīng)物；以及(b)在減壓下從該氣態(tài)反應(yīng)物產(chǎn)生一種非空心陰極等離子體，由此通過等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積(PECVD)在該基底表面上形成一個涂層，其中通過設(shè)置該氣態(tài)反應(yīng)物中A與該有機(jī)硅前體的比率，和/或通過設(shè)置用于產(chǎn)生該等離子體所使用的電功率來設(shè)置該涂層的物理和化學(xué)特性。(10) 一種用于在基底上制備一個阻擋涂層的方法，該方法包括以下步驟(a)在該基底表面附近提供包含一種有機(jī)硅前體以及&的一種氣態(tài)反應(yīng)物；以及(b)在減壓下從該氣態(tài)反應(yīng)物產(chǎn)生一種非空心陰極等離子體，由此通過等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積(PECVD)在該基底表面上形成一個涂層，其中通過設(shè)置該氣態(tài)反應(yīng)物中A與該有機(jī)硅前體的比率，和/或通過設(shè)置用于產(chǎn)生等離子體所使用的電功率來設(shè)置該涂層的阻擋特性。(11)根據(jù)(10)的方法(i)其中該等離子體是用電極來產(chǎn)生的，這些電極用足夠的功率來供能從而在該基底表面上形成一個涂層，優(yōu)選地使用提供有以下電功率的電極從8至500W，優(yōu)選地從20 至400W，更優(yōu)選地從35至350W，甚至更優(yōu)選地從44至300W，最優(yōu)選地從44至70W ；和/或(ii)電極功率與等離子體體積的比率是等于或大于5W/ml，優(yōu)選地是從6W/ml至 150W/ml，更優(yōu)選地是從7W/ml至100W/ml，最優(yōu)選地是從7W/ml至20W/ml。(12)根據(jù)(10)或(11)的方法，其中&是以相對于該氣態(tài)反應(yīng)物的以下體積體積比率而存在的相對于含硅前體從1 1至100 1，優(yōu)選地以從5 1至30 1的比率，更優(yōu)選地以從10 1至20 1的比率，甚至更優(yōu)選地地以15 1的比率。(13)如(1)至(1 中的任一項(xiàng)所述的方法，其中該有機(jī)硅前體是選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成線性硅氧烷、單環(huán)硅氧烷、多環(huán)硅氧烷、聚倍半硅氧烷、線性硅氮烷、單環(huán)硅氮烷、多環(huán)硅氮烷、聚倍半硅氮烷、烷基三甲氧基硅氧烷、以及這些化合物的任何兩種或更多種的組合，優(yōu)選是線性或單環(huán)硅氧烷。(14)如⑴或⑵所述的方法，其中該有機(jī)硅前體是一種單環(huán)硅氧烷，優(yōu)選 OMCTS。(15)如⑵或(10)所述的方法，其中該有機(jī)硅前體是一種線性硅氧烷，優(yōu)選 HMDSO0(16)根據(jù)(1)至(15)中的任一項(xiàng)所述的方法，其中該P(yáng)ECVD是在以下有機(jī)硅前體的流率下進(jìn)行的等于或小于6sCCm( “標(biāo)準(zhǔn)立方厘米/每分鐘”)、優(yōu)選地等于或小于 2. kccm、更優(yōu)選地等于或小于1. kccm、最優(yōu)選地等于或小于1. 25sccm。(17)根據(jù)(1)至(16)中的任一項(xiàng)所述的方法，其中該基底是選自下組的一種聚合物，該組由以下各項(xiàng)組成聚碳酸酯、烯烴聚合物、環(huán)烯烴共聚物以及聚酯，并且優(yōu)選是環(huán)烯烴共聚物、聚對苯二甲酸乙二酯或聚丙烯。(18)根據(jù)(1)至(17)中的任一項(xiàng)所述的方法，其中該基底表面是具有至少一個開口以及一個內(nèi)表面的一個容器的內(nèi)表面的部分或全部，并且其中該氣態(tài)反應(yīng)物填充該容器的內(nèi)部內(nèi)腔，并且在該容器的內(nèi)部內(nèi)腔的一部分或全部中產(chǎn)生該等離子體。(19)根據(jù)(1)至(18)中的任一項(xiàng)所述的方法，其中該等離子體是用在以下射頻下供能的電極來產(chǎn)生的優(yōu)選地在從IOkHz至小于300MHz的頻率下，更優(yōu)選地從1至50MHz，甚至更優(yōu)選地從10至15MHz，最優(yōu)選地在13. 56MHz。(20)根據(jù)(1)至(19)中的任一項(xiàng)所述的方法，其中該等離子體是在減壓下產(chǎn)生的并且該減壓是小于300mTorr、優(yōu)選地小于200mTorr、甚至更優(yōu)選地小于lOOmTorr。(21)根據(jù)⑴至00)的任一項(xiàng)所述的方法，其中該P(yáng)ECVD沉積時間是從1至30 秒，優(yōu)選地從2至10秒，更優(yōu)選地從3至9秒。(22)根據(jù)(1)至的任一項(xiàng)所述的方法，其中所產(chǎn)生的涂層具有從1至IOOnm 的范圍內(nèi)的厚度，優(yōu)選地在從20至50nm的范圍內(nèi)。(23) 一種涂層，該涂層可以通過根據(jù)以上權(quán)利要求的任一項(xiàng)所述的方法得到。(24)如所述的涂層，它是一種潤滑涂層和/或疏水涂層。(25)如04)所述的涂層，與有機(jī)硅前體相比較，其中碳與氧的原子比率是增加的，和/或與有機(jī)硅前體相比較，其中氧與硅的原子比率是降低的。(26)如至0 的任一項(xiàng)所述的涂層，其中該前體是八甲基環(huán)四硅氧烷，并且其中該涂層具有一個密度，該密度高于在相同的PECVD反應(yīng)條件下從HMDSO制造的涂層的
也/又。(27)根據(jù)04)至06)的任一項(xiàng)所述的涂層，其中涂層(i)具有比未涂覆表面更低的摩擦阻力，與未涂覆的表面相比較，其中該摩擦阻力優(yōu)選地減少至少25%，更優(yōu)選地減少至少45 %，甚至更優(yōu)選地減少至少60 %。(28)根據(jù)04)至07)的任一項(xiàng)所述的涂層，該涂層(i)具有比未涂覆的表面更低的濕潤張力，優(yōu)選地從20至72達(dá)因/cm的濕潤張力、更優(yōu)選地從30至60達(dá)因/cm的濕潤張力、更優(yōu)選地從30至40達(dá)因/cm的濕潤張力、 優(yōu)選34達(dá)因/cm ；和/或(iv)是比未涂覆表面更疏水的。(29)在它的內(nèi)部表面的至少一部分上用根據(jù)03)至08)的任一項(xiàng)所述的涂層進(jìn)行涂覆的一種容器，優(yōu)選地一種容器是(i) 一種樣品收集管，具體地是一種采血管；或(ii) 一種小瓶；或(iii) 一種注射器或一種注射器部件，具體地是一種注射器筒或一種注射器柱塞； 或(iv) 一種管子；或(ν) 一種小杯。(30)根據(jù)09)所述的涂覆的容器，另外地包括至少一個SiOx層，其中χ是從1.5 至2. 9，其中(i)該涂層是位于該SiOx層與該基底表面之間，或反之亦然，或其中(ii)該涂層是位于兩個SiOx層之間或反之亦然，或其中(iii)這些SiOx層以及該涂層是SiwOxCyHz至SiOx的梯度復(fù)合材料，或反之亦然。(31)根據(jù)09)至(30)的任一項(xiàng)所述的涂覆容器，該容器在它的外部表面上含有至少一個另外的層，優(yōu)選地一個另外的由塑料或S i Ox構(gòu)成的阻擋層，其中χ是從1.5至
(32)根據(jù)09)至(31)的任一項(xiàng)所述的涂覆容器，該容器在它的內(nèi)腔中容納一種化合物或組合物，優(yōu)選地一種生物活性化合物或組合物或一種生物流體，更優(yōu)選地(i)檸檬酸鹽或一種含有檸檬酸鹽的組合物，(ii) 一種藥劑，具體地是胰島素或一種含有胰島素的組合物，或(iii)血液或血細(xì)胞。(33)根據(jù)09)至(3 的任一項(xiàng)所述的涂覆容器，該涂覆容器是根據(jù)權(quán)利要求1 所述的方法制造的一種注射器筒，其中該前體是一種硅氧烷，更優(yōu)選地是一種單環(huán)硅氧烷， 甚至更優(yōu)選地是八甲基環(huán)四硅氧烷，并且其中在步驟(a)中基本上沒有O2氣體被提供于該氣態(tài)反應(yīng)物中，其中與未涂覆的注射器筒相比較，用于移動柱塞通過所述涂覆的筒的力減少了至少25 %，更優(yōu)選地減少了至少45 %，甚至更優(yōu)選地減少了至少60 %。(34)具有總式SiwOxCyHz的涂層，其中w是1，χ是0. 5至2. 4，y是0. 6至3，并且 ζ是從2至9，作為以下各項(xiàng)的用途(i)具有比未涂覆表面更低的摩擦阻力的一種潤滑涂層；和/或(ii)比未涂覆表面更疏水的一種疏水涂層。(35)如(34)所述的用途，其中該涂層是如在04)至Q8)的任一項(xiàng)中所定義的一種涂層。(36)如(34)或(35)所述的用途，其中與未涂覆的表面和/或與根據(jù)(1)所述的使用HMDSO作為前體的方法所涂覆的表面相比較，該涂層防止或減少了與該涂層相接觸的一種組合物中的一種化合物或組分的沉淀，具體地防止或減少了胰島素沉淀或血液凝固。(37)根據(jù)09)至(33)的任一項(xiàng)所述的涂覆容器的用途，用于保護(hù)被容納或接收在所述涂覆容器中的一種化合物或組合物免受該未涂覆容器材料的表面的機(jī)械和/或化學(xué)作用，優(yōu)選地用于防止或減少與該容器的內(nèi)部表面相接觸的組合物的一種化合物或一種組分的沉淀和/或凝固。(38)如(37)所述的用途，其中該化合物或組合物是(i) 一種生物活性化合物或組合物，優(yōu)選地一種藥劑，更優(yōu)選地胰島素或包含胰島素的一種組合物，其中胰島素沉淀被減少或防止；或(ii) 一種生物流體，優(yōu)選地一種體液，更優(yōu)選地血液或一種血液成分，其中血液凝固和/或血小板激活被減少或防止。(39)包括根據(jù)本發(fā)明所述的涂覆容器的一種醫(yī)學(xué)或診斷試劑盒，該試劑盒可以另外地包括一種藥劑或診斷劑，該藥物或診斷劑被容納在所述涂覆容器中；和/或一種皮下注射針、兩端針頭、或其他遞送導(dǎo)管；和/或一個說明單。本發(fā)明進(jìn)一步提供了以下實(shí)施方案I.具有多個處理站以及多個容器支架的容器處理系統(tǒng)根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了用于容器涂覆的一種容器處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括一個第一處理站、一個第二處理站、一個容器支架以及一個輸送機(jī)布置。該第一處理站被配置用于進(jìn)行一個第一處理，例如對該容器的內(nèi)部表面進(jìn)行檢查或涂覆。該第二處理站是以該第一處理站為基礎(chǔ)，并且被配置用于進(jìn)行一個第二處理，例如對該容器的內(nèi)部表面進(jìn)行檢查或涂覆。該容器支架包括一個容器端口，該端口被配置為接收一個容器的開口并且使其落座用于經(jīng)由位于該第一處理站以及位于該第二處理站的容器端口對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行處理(檢查和/或涂覆和/或檢查)。該輸送機(jī)布置被適配用于在該第一處理之后將該容器支架以及該落座的容器從該第一處理站運(yùn)送至該第二處理站之后用于在該第二處理站對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行第二處理。在本說明書中這些容器被寬泛地定義為包括任何類型的容器，包括但不限于用于收集或儲存血液、尿液、或其他樣品的樣品管，用于儲存或遞送一種生物活性化合物或組合物的注射器，用于儲存生物材料或生物活性化合物或組合物的小瓶，用于運(yùn)送生物材料或生物活性化合物或組合物的導(dǎo)管，以及用于容納生物材料或生物活性化合物或組合物的小杯。以下定義的這些容器都是用下面描述的處理系統(tǒng)或裝置之一來處理的。換言之， 就一種裝置或處理系統(tǒng)而言，下面描述的這些特征也可以作為方法步驟來實(shí)施并且可以影響如此處理的容器。小杯是具有圓形或方形截面的、一端密封的、由塑料、玻璃、或熔融石英(用于UV 光)制成的、并且被設(shè)計(jì)用于容納樣品用于光譜實(shí)驗(yàn)的的一種小管。最好的小杯是盡可能透明的，沒有可能影響光譜讀數(shù)的雜質(zhì)。如同一個試管，小管可以是頂部向大氣開放的，或用一個帽將它密封關(guān)閉。術(shù)語“容器的內(nèi)部”是指可以用于儲存血液或根據(jù)另一個示例性實(shí)施方案的一種生物活性化合物或組合物的在容器內(nèi)部的空心空間(hollow space)。術(shù)語處理可以包括一個涂覆步驟和/或一個檢查步驟或一系列涂覆以及檢查步驟，例如一個初始檢查步驟，緊接著一個涂覆步驟，然后緊接著一個第二或甚至第三或第四檢查。該第二、第三以及第四檢查可以同時進(jìn)行。根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實(shí)施方案，該容器支架包括用于從該落座的容器的內(nèi)部空間中抽出氣體的一個真空管道，其中該容器支架被適配用于保持該落座的容器的內(nèi)部的真空，這樣使得不需要另外的真空室來處理該容器。換言之，該容器支架與該落座的容器一起形成了一個真空室，該真空室被適配用于在該容器的內(nèi)部空間中提供一個真空。這個真空對于某些處理步驟(如等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積(PECVD)或其他化學(xué)氣相沉積步驟)是重要的。此外，該容器內(nèi)部的真空對于進(jìn)行該容器的某一檢查可能是重要的，具體地說例如通過測量該壁的放氣速率或該壁的電導(dǎo)率來對該容器壁的內(nèi)部表面進(jìn)行涂覆。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，在30秒或更少的時間期間進(jìn)行該第一處理。并且在30秒或更少的時間期間進(jìn)行該第二處理。因此，提供了用于容器涂覆的一種容器處理系統(tǒng)，該容器處理系統(tǒng)允許這些容器的快速制造。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該第一處理和/或第二處理包括對該容器的內(nèi)部表面進(jìn)行一個檢查，然后對該內(nèi)部表面進(jìn)行涂覆。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該容器支架包括用于將氣體遞送到該容器的內(nèi)部中的一個氣體輸入端口。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該系統(tǒng)被適配用于在檢測出涂層缺陷的情況下，自動地對該容器進(jìn)行再處理。例如，該容器處理系統(tǒng)并且具體地該容器支架可以包含不同檢測器(例如光學(xué)檢測器、壓力探頭、氣體檢測器、用于電測量的電極等)的一個布置。此外，根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該容器處理系統(tǒng)，例如一個或多個處理站，包括用于將容器運(yùn)送至該容器支架和/或用于從該容器支架移開該容器的一個或多個夾鉗。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該容器支架包括用于將氣體輸送到該容器的內(nèi)部中的一個氣體輸入端口。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該容器處理系統(tǒng)被適配用于在檢測出涂層缺陷的情況下自動地對容器進(jìn)行再處理?？梢允褂帽贿f送至該容器的內(nèi)部空間中的氣體來PECVD涂覆該容器的內(nèi)部表面。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該第一處理和/或該第二處理包括對該容器的內(nèi)部表面進(jìn)行涂覆。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該第一處理站和/或第二處理站包括用于對該容器的內(nèi)部表面進(jìn)行涂覆的一個PECVD裝置。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該系統(tǒng)進(jìn)一步包括在該落座的容器的至少上部分周圍的一個外部電極。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該容器支架包括用于在該容器中提供一個反電極的一個導(dǎo)電探頭。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該第一處理和/或第二處理包括針對缺陷對該容器的內(nèi)部表面進(jìn)行檢查根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該系統(tǒng)進(jìn)一步包括一個第一檢測器，該第一檢測器被適配為經(jīng)由該第一處理站和/或該第二處理站的容器端口被插入到該容器中用于針對缺陷對該容器的內(nèi)部表面進(jìn)行檢查根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該容器處理系統(tǒng)進(jìn)一步包括位于該容器外面的一個第二檢測器，該第二檢測器用于針對缺陷對該容器的內(nèi)部表面進(jìn)行檢查。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該第一檢測器和/或該第二檢測器被安裝到該容器支架上。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該容器支架包括用于形成該容器的一個模具。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，陳述了以上以及以下描述的容器處理系統(tǒng)的用途，用于制造用于儲存血液的一種采血管、用于儲存一種生物活性化合物或組合物的一種注射器、用于儲存一種生物活性化合物或組合物的一種小瓶、用于運(yùn)送多種生物活性化合物或組合物的一種導(dǎo)管、或用于移取一種生物活性化合物或組合物的一種移液管。該容器處理系統(tǒng)還可以被適配用于對容器進(jìn)行檢查并且具體地可以被適配用于針對缺陷進(jìn)行對該容器的一個第一檢查，對該容器的內(nèi)部表面施加一個第一涂層，然后針對缺陷對該涂覆容器的內(nèi)部表面進(jìn)行第二檢查。此外，該系統(tǒng)可以被適配用于對在不同檢查期間所獲取的數(shù)據(jù)進(jìn)行評估，其中該第二檢查以及數(shù)據(jù)評估耗時小于30秒。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供了用于對容器進(jìn)行涂覆以及檢查的一種容器處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括一個處理站布置，該處理站布置被配置用于進(jìn)行針對缺陷對該容器進(jìn)行一個第一檢查，對該容器的內(nèi)部表面施加一個第一涂層，針對缺陷對該涂覆的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行一個第二檢查并且對在檢查過程中獲取的數(shù)據(jù)進(jìn)行評估，其中該第二檢查以及數(shù)據(jù)評估耗時小于30秒。該第一涂層的施加還可以被稱為第一或第二處理并且對該涂覆容器的內(nèi)部表面進(jìn)行第二檢查可以被稱為第二處理。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該處理站布置包括用于進(jìn)行該第一檢查、 對該落座的容器的內(nèi)部表面施加該第一涂層以及進(jìn)行第二檢查的一個第一處理站此外，該處理站布置包括一個容器支架，該容器支架包括一個容器端口，該容器端口被配置用于接收該容器的一個開口并使其落座用于經(jīng)由位于該第一處理站的容器端口對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行檢查并且施加第一涂層。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該處理站布置進(jìn)一步包括一個第二處理站，該第二處理站與該第一處理站間隔開并且被配置用于進(jìn)行第二檢查、施加一個第二涂層以及在施加該第二涂層之后進(jìn)行一個第三檢查。此外，該容器處理系統(tǒng)包括一個輸送機(jī)布置，該輸送機(jī)布置用于在施加該第一涂層之后將該容器支架以及該落座的容器從該第一處理站運(yùn)送至該第二處理站用于在該第二處理站將第二涂層施加到該落座的容器的內(nèi)部表面上。該容器支架的容器端口被配置用于接收該容器的開口并且使其落座從而經(jīng)由位于該第一處理站以及位于該第二處理站的容器端口對落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行涂覆和檢查。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該容器支架包括用于從該落座的容器的內(nèi)部抽出氣體的一個真空管道，其中該容器支架被適配用于維持該落座的容器的內(nèi)部的真空，這樣使得不需要另外的真空室來對該容器進(jìn)行涂覆和檢查。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，每個檢查都是在30秒或更少的時間期間內(nèi)進(jìn)行的。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該容器處理系統(tǒng)被適配用于在檢測出涂層缺陷的情況下自動地對該容器進(jìn)行再處理。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該第一處理站和/或該第二處理站包括用于對該容器的內(nèi)部表面施加涂層的一個PECVD裝置。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該第一涂層是一個阻擋涂層，其中該系統(tǒng)被適配用于證實(shí)一個阻擋層是存在還是缺乏。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該第二涂層是一個潤滑涂層，其中該系統(tǒng)被適配用于證實(shí)該潤滑涂層(即該潤滑層)是存在還是缺乏。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該第一涂層是一個阻擋涂層，其中該第二涂層是一個潤滑涂層，并且其中該系統(tǒng)被適配用于證實(shí)該阻擋層或該潤滑層是存在還是缺乏。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該系統(tǒng)被適配用于證實(shí)該阻擋層或該潤滑層是存在還是缺乏(達(dá)到至少六σ水平的確定性)。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該第一檢查和/或該第二檢查包括以下各項(xiàng)中的至少一項(xiàng)測量來自該涂覆容器的氣體的放氣速率，進(jìn)行涂層施加的光學(xué)監(jiān)測，測量該涂覆容器的內(nèi)部表面的光學(xué)參數(shù)，以及測量該涂覆容器的電特性。然后可以通過處理器對相應(yīng)的測量數(shù)據(jù)進(jìn)行分析。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該處理系統(tǒng)進(jìn)一步包括用于測量放氣速率的一個第一檢測器和/或用于測量擴(kuò)散速率的一個第二檢測器和/或用于測量光學(xué)參數(shù)的一個第三檢測器和/或用于測量電參數(shù)的一個第四檢測器。
根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該第一涂層和/或該第二涂層是小于 IOOnm 厚。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該容器處理系統(tǒng)進(jìn)一步包括用于對檢查期間所獲取的數(shù)據(jù)進(jìn)行評估的一個處理器。本發(fā)明的一個方面是一種容器處理系統(tǒng)，該容器處理系統(tǒng)包括一個第一處理站、 一個第二處理站、多個容器支架、以及一個輸送機(jī)。該第一處理站被配置為用于處理具有一個開口以及限定一個內(nèi)部表面的壁的容器。該第二處理站與該第一處理站隔開并且被配置為用于處理具有一個開口以及限定一個內(nèi)部表面的壁的容器。至少一些、任選地所有的容器支架包括一個容器端口，該端口被配置為接收一個容器的開口并且使其落座用于經(jīng)由在該第一處理站處的容器端口處理一個落座的容器的內(nèi)部表面。該輸送機(jī)被配置為用于將一系列的容器支架和落座的容器從該第一處理站運(yùn)送到第二處理站用于經(jīng)由在該第二處理站處的容器端口而處理一個落座的容器的內(nèi)部表面。II容器支架II. A.非引證的特異性密封布置的容器支架該容器處理系統(tǒng)的便攜式容器支架可以被適配用于容納一個容器同時該容器的內(nèi)部表面被涂覆并且針對缺陷進(jìn)行檢查并且同時將該容器被從一個第一處理站運(yùn)送到該容器處理系統(tǒng)的一個第二處理站，該容器支架包括一個容器端口，該容器端口被配置用于使該容器的一個開口落座并且用于經(jīng)由位于給第一處理站以及位于該第二處理站的容器端口對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行處理。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該便攜式容器支架進(jìn)一步包括用于接收一個外部氣體供應(yīng)的一個第二端口或通氣口以及用于使一種氣體在一個落座在該容器端口上的容器開口與該第二端口之間通過的管道。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該便攜式容器支架重量小于2. 25kg。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該便攜式容器支架進(jìn)一步包括一個真空管道以及用于經(jīng)由該容器端口從該落座的容器的內(nèi)部抽出氣體的一個外部真空端口，其中該容器支架被適配用于維持該落座的容器的內(nèi)部的真空，這樣使得不需要另外的真空室來對該容器進(jìn)行處理。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該便攜式容器支架進(jìn)一步包括一個真空管道以及用于經(jīng)由該容器端口從該落座的容器的內(nèi)部抽出氣體的一個外部真空端口，其中該容器支架被適配用于維持該落座的容器的內(nèi)部的真空，這樣使得不需要另外的真空室來對該容器進(jìn)行處理根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該外部真空端口還結(jié)合了一個氣體輸入端口，該氣體輸入端口被容納在該真空端口內(nèi)用于將氣體輸送至該落座的容器的內(nèi)部中。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，對該容器的處理包括對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行涂覆。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該容器支架是實(shí)質(zhì)上由熱塑性材料制成的。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該便攜式容器支架進(jìn)一步包括用于接收該容器的一個圓柱形壁的一個圓柱形內(nèi)表面、位于該圓柱形內(nèi)表面中并且與之同軸的一個第一環(huán)形凹槽、以及被布置在該第一環(huán)形凹槽中用于在該落座的容器與該容器支架之間提供一個密封的一個第一 0形圈。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該便攜式容器支架進(jìn)一步包括一個鄰近于該圓柱形內(nèi)表面(該落座的容器的開口端可以對接在其上)的一個徑向延伸支座 (radially extending abutment)。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該便攜式容器支架進(jìn)一步包括位于該圓柱形內(nèi)表面中并且與之同軸的并且與該第一環(huán)形凹槽軸向間隔開的的一個第二環(huán)形凹槽。此夕卜，該容器支架包括一個第二 0型圈，該第二 0型圈被布置在該第二環(huán)形凹槽中用于提供該落座的容器與該容器支架之間的一個密封。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該便攜式容器支架進(jìn)一步包括用于經(jīng)由容器端口來探詢該容器的內(nèi)部空間的一個第一檢測器從而針對缺陷對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行檢查。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該便攜式容器支架包括用于形成該容器的一個模具。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，用于容器涂覆的容器處理系統(tǒng)包括以上以及以下所述的容器支架。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，該便攜式容器支架包括一個容器端口、一個第二端口、 一個管道、以及一個可輸送殼體。該容器端口被配置為使一個容器開口落座于一個相互連通的關(guān)系中。該第二端口被配置為接收一個外部氣體供應(yīng)或通氣口。該管道被配置為用于使一種或多種氣體在一個落座在該容器端口上的容器開口與該第二端口之間通過。該容器端口、第二端口以及管道是以實(shí)質(zhì)上剛性的關(guān)系附接到該可輸送殼體上的。任選地，該便攜式容器支架的重量小于五磅。本發(fā)明的另一個方面是一種便攜式容器支架，該便攜式容器支架包括一個容器端口、一個真空管道、一個真空端口、以及一個可輸送殼體。該容器端口被配置為以一個密封的、相互連通的關(guān)系來接收一個容器開口。該真空管道被配置為用于從落座在容器端口上的容器經(jīng)由該容器端口抽出氣體。該真空端口被配置為用于在真空管道與外真空源之間進(jìn)行連通。該真空源可以是具有比該真空管道更低壓力的一個泵或儲器或壓載箱。該容器端口、真空管道以及真空端口是以實(shí)質(zhì)上剛性的關(guān)系附接到該可輸送殼體上的。任選地，該便攜式容器支架的重量小于五磅。II. B.包括密封布置的容器支架本發(fā)明的又另一個方面是用于接收一種容器的開口端的一種容器支架，該容器在它的開放端附近具有一個基本上圓柱形的壁。該容器支架可以具有一個大致圓柱形內(nèi)表面 (例如一個圓柱形內(nèi)表面)、一個環(huán)形凹槽、以及一個0型圈。貫穿本說明書應(yīng)當(dāng)理解的是， 被指明為具有圓形或環(huán)形開口或截面的容器僅僅是示例性的，并且不限制本披露或權(quán)利要求書的范圍。如果該容器具有非圓形開口或截面(例如常見的是當(dāng)該容器是小杯時)，該容器支架的“圓形”圓柱體表面可以是非圓形的，并且可以使用非圓形密封件來密封，例如一種墊圈或被制成一定形狀用于密封到該非圓形截面上的一種密封件(除了另外特別地要求之外)。此外，“圓柱形”不要求圓形截面的柱體，并且包括其他截面形狀，例如具有圓角的方形。
大致圓柱形的內(nèi)表面被制成一定大小用于接收該容器的圓柱形的壁。該環(huán)形凹槽被布置在該大致圓形內(nèi)表面中并且與之同軸。該第一環(huán)形凹槽具有一個在該大致圓柱形內(nèi)表面上的開口以及與該大致圓柱形內(nèi)表面徑向間隔開的一個底壁。該0型圈被布置在該第一環(huán)形凹槽中。相對于該第一環(huán)形凹槽，該0型圈被制成一定大小用于正常地延伸徑向通過該開口并且被由該大致圓柱形的內(nèi)表面所接收的容器徑向地向外壓。這種布置在該容器與該第一環(huán)形凹槽之間形成一個密封。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供了用于對容器進(jìn)行涂覆以及檢查的一種方法，其中針對缺陷對該容器的內(nèi)部表面進(jìn)行一個第一檢查，之后對該容器的內(nèi)部表面施加一個涂層。然后，針對缺陷對該涂覆的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行一個第二檢查，緊接著對該第一以及第二檢查期間所獲取的數(shù)據(jù)進(jìn)行評估，其中該第二檢查和該數(shù)據(jù)評估耗時小于30秒。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供了用于處理容器的方法，其中該容器的一個開口落座于一個容器支架的容器端口上，此后經(jīng)由該容器端口來涂覆該容器的內(nèi)部表面。然后， 經(jīng)由該容器端口針對缺陷對該涂層進(jìn)行檢查。在此之后，將該容器從該第一處理站運(yùn)送到一個第二處理站，其中該落座的容器在涂覆、檢查以及運(yùn)送期間是由該容器支架容納的。III用于運(yùn)送容器的方法-對落座于容器支架上的容器進(jìn)行處理III. A.將容器支架運(yùn)送到處理站本發(fā)明的另一個方面是用于處理容器的一種方法。提供了一個第一處理站以及與該第一處理站間隔開的一個第二處理站，用于處理容器。提供了一種具有一個開口以及限定了一個內(nèi)部表面的一個壁的容器。提供了一種包括容器端口的容器支架。該容器的開口落座于該容器端口上。經(jīng)由位于該第一處理站的容器端口對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行處理。將該容器支架以及落座的容器從該第一處理站運(yùn)送到該第二處理站。然后，經(jīng)由位于該第二處理站的容器端口對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行處理。III. B.將處理設(shè)備運(yùn)送至容器支架或反之亦然本發(fā)明的另一個方面是用于對包括數(shù)個部件的容器進(jìn)行處理的一種方法。提供了一個第一處理設(shè)備以及一個第二處理設(shè)備來，用于處理容器。提供了一種具有一個開口以及限定了一個內(nèi)部表面的一個壁的一種容器。提供了一種包括容器端口的容器支架該容器的開口落座于該容器端口上。使該第一處理設(shè)備移動進(jìn)入與該容器支架的操作性接合中，或反之亦然。經(jīng)由該容器端口使用該第一處理設(shè)備對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行處理然后使該第二處理設(shè)備移動進(jìn)入與該容器支架的操作性接合中，或反之亦然。經(jīng)由該容器端口使用該第二處理設(shè)備對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行處理。III. C.使用夾鉗將管運(yùn)送進(jìn)入以及離開處理站本發(fā)明的又另一個方面是對一個第一容器進(jìn)行等離子體增強(qiáng)的化學(xué)氣相沉積 (PECVD)處理的一種方法，包括以下幾個步驟。提供了具有一個開口端、一個閉合端、以及一個內(nèi)部表面的一個第一容器至少一個第一夾鉗被配置用于選擇性地保持以及釋放該第一容器的閉合端。用該第一夾鉗將該第一容器的閉合端夾住，并且使用該第一夾鉗將其運(yùn)送到一個容器支架的附近，該容器支架被配置為使該第一容器的開口端落座。然后使用該第一夾鉗軸向地推進(jìn)該第一容器并且使它的開口端落座于該容器支架上，在該容器支架與該第一容器的內(nèi)部之間建立起密封的連通。
至少一種氣態(tài)反應(yīng)物通過該容器支架被弓丨入到該第一容器之內(nèi)。在有效形成該反應(yīng)物的反應(yīng)產(chǎn)物的條件下在該第一容器的內(nèi)部表面上形成等離子體。然后使該第一容器從該容器支架離座，并且使用該第一夾鉗或另一個夾鉗，將該第一容器軸向地運(yùn)送離開該容器支架。然后將該第一容器從所使用的夾鉗中釋放從而軸向地將它運(yùn)送離開該容器支架。IV用于制造容器的PECVD裝置IV. A.包括容器支架、內(nèi)部電極、作為反應(yīng)室的容器的PECVD裝置根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供了用于對容器的內(nèi)部表面進(jìn)行涂覆的一種等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)裝置。該P(yáng)ECVD裝置可以是該容器處理系統(tǒng)的一部分并且包括一個容器支架，如在以上以及以下所述的支架，該支架包括一個容器端口，該容器端口被配置用于接收該容器的一個第一開口并且使其落座，用于經(jīng)由該容器端口對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行處理。此外，該P(yáng)ECVD裝置包括用于被布置在該落座的容器的內(nèi)部空間之內(nèi)的一個內(nèi)部電極以及具有用于接收該落座的容器的一個外部部分的一個外部電極。此夕卜，提供了一個電源用于在該容器內(nèi)產(chǎn)生等離子體，其中該落座的容器以及該容器支架被適配用于限定一個等離子體反應(yīng)室。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該P(yáng)ECVD裝置進(jìn)一步包括用于將該落座的容器的內(nèi)部空間抽空的一個真空源，其中該容器端口以及該落座的容器被適配用于限定一
個真空室。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該P(yáng)ECVD裝置進(jìn)一步包括用于將反應(yīng)物氣體從一個反應(yīng)物氣體源喂入該容器的內(nèi)部空間中的一個氣體進(jìn)料裝置。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該氣體進(jìn)料裝置被定位在該內(nèi)部電極的遠(yuǎn)端部分。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該內(nèi)部電極是一個探頭，該探頭具有被定位以同心地延伸進(jìn)入該落座的容器中的一個遠(yuǎn)端部分。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該外部電極具有一個圓柱形截面并且圍繞該落座的容器同心地延伸。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該P(yáng)ECVD裝置進(jìn)一步包括一個夾鉗，該夾鉗用于選擇性保持以及釋放該容器的一個閉合端，并且同時夾住該容器的閉合端，用于將該容器運(yùn)送到該容器支架的附近。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該P(yáng)ECVD裝置被適配用于在該容器的內(nèi)部空間中形成一種等離子體，基本上不含有空心陰極等離子體。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該P(yáng)ECVD裝置進(jìn)一步包括用于經(jīng)由該容器端口探詢該容器的內(nèi)部空間的一個檢測器用于針對缺陷對該固定容器的內(nèi)部表面進(jìn)行檢查。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該P(yáng)ECVD裝置進(jìn)一步包括具有一個處理容器開口的處理容器，該處理容器開口用于與該容器的一個第二限制的開口相連接以允許反應(yīng)物氣體從該容器的內(nèi)部空間流動進(jìn)入該處理容器中。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該內(nèi)部電極的一個遠(yuǎn)端以小于一半的從該落座的容器的第一較大開口到該第二限制的開口的距離而定位。
根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，該內(nèi)部電極的遠(yuǎn)端被定位在該落座的容器的第一較大開口的外面。此外，提供了用于對容器的內(nèi)部表面進(jìn)行涂覆的一種方法，其中該容器的一個開口被接收并且落座于容器支架的一個容器端口上用于對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行處理。然后，將一個內(nèi)部電極布置在該落座的容器的內(nèi)部空間中，在此之后將一個氣體進(jìn)料裝置定位在該內(nèi)部電極的遠(yuǎn)端部分處。此外，該落座的容器被接收在外部電極的一個內(nèi)部部分中。在該容器支架中的落座的容器被適配用于限定一個等離子體反應(yīng)室。具體地說，可以通過該容器端口以及該落座的容器來限定一個真空室并且將氣體從該落座的容器的內(nèi)部空間中抽出，這樣使得不需要外部真空室用于涂覆。在一個進(jìn)一步的步驟中，在該容器的內(nèi)部空間中形成一種等離子體并且一種涂覆材料被沉積在該落座的容器的內(nèi)部表面上。根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案，將一個處理容器開口與該容器的一個限制的開口連接以允許反應(yīng)物氣體從該容器的內(nèi)部空間流動進(jìn)入該處理容器中。根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，以上以及以下描述的PECVD裝置的用途是，用于制造用于儲存血液的一種采血管、用于儲存一種生物活性化合物或組合物的一種注射器、用于儲存一種生物活性化合物或組合物的一種小瓶、用于運(yùn)送多種生物活性化合物或組合物的一種導(dǎo)管、或用于容納一種生物活性化合物或組合物的一種小杯。本發(fā)明的另一個方面是包括一個容器支架、一個內(nèi)部電極、一個外部電極、以及一個電源的一種PECVD裝置。該容器支架具有將一個容器接收在落座的位置中以進(jìn)行處理的一個端口。該內(nèi)部電極被定位以被接收在落座于一個容器支架上的容器之內(nèi)該外部電極具有一個內(nèi)部部分， 該內(nèi)部部分被定位以接收被落座于該容器支架上的一個容器該電源將交流電輸入到內(nèi)部和/或外部電極上從而在落座于該容器支架上的容器之內(nèi)形成等離子體該容器限定了一個等離子體反應(yīng)室。本發(fā)明的甚至另一個方面是如前面段落中所述的一種PECVD裝置，其中提供了一個并不必需包括真空源的放氣管，用于將氣體傳遞至落座在該端口上的容器的內(nèi)部或者傳遞來自該容器的內(nèi)部的氣體，以限定一個閉合室。IV. B.使用將管運(yùn)送進(jìn)入以及離開涂覆站的夾鉗的PECVD裝置本發(fā)明的另一個方面是用于對一個第一容器進(jìn)行PECVD處理的裝置，該第一容器具有一個開口端、一個閉合端、以及一個內(nèi)部空間。該裝置包括一個容器支架、一個第一夾鉗、在該容器支架上的一個座、一個反應(yīng)物供應(yīng)裝置、一個等離子體發(fā)生器、以及一個容器釋放裝置。該容器支架被配置用于使一個容器的開口端落座。該第一夾鉗被配置用于選擇性地保持以及釋放容器的閉合端并且同時夾住該容器的閉合端，將該容器運(yùn)送到該容器支架的附近該容器支架具有一個座，該座被配置為用于在該容器支架與該第一容器的內(nèi)部空間之間建立密封的連通。該反應(yīng)物供應(yīng)裝置被可操作地連接用于通過該容器支架將至少一種氣態(tài)反應(yīng)物弓丨入到該第一容器之內(nèi)。該等離子體發(fā)生器被配置為用于在該第一容器的內(nèi)部表面上有效形成反應(yīng)物的反應(yīng)產(chǎn)物的條件下在該第一容器內(nèi)形成等離子體。
該容器釋放裝置被提供為用于使該第一容器從該容器支架離座。一個夾鉗(該夾鉗是第一夾鉗或另一個夾鉗)被配置用于軸向地運(yùn)送該第一容器離開該容器支架并且然后釋放該第一容器。V. PECVD 方法根據(jù)本發(fā)明的另一個方面提供了用于對容器的內(nèi)部表面進(jìn)行涂覆(和/或檢查) 的一種方法，其中該容器的一個開口被接收并且落座于一個容器支架上用于對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行處理應(yīng)當(dāng)注意的是，術(shù)語處理可以是指一個涂覆步驟或數(shù)個涂覆步驟或甚至是指一系列的涂覆和檢查步驟。此外，對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行一個第一處理是經(jīng)由位于一個第一處理站的容器支架的一個容器端口來進(jìn)行的。然后，在該第一處理站處進(jìn)行第一處理之后，該容器支架以及該落座的容器被運(yùn)送至一個第二處理站然后，在該第二處理站處，經(jīng)由該容器支架的容器端口對該落座的容器的內(nèi)部表面進(jìn)行一個第二處理。V. A.使用等離子體施加SiOx阻擋涂層的PECVD，該等離子體基本上不含空心陰極等離子體本發(fā)明的另一個方面是將一種SiOx阻擋涂層施加到一個表面上(優(yōu)選地一個容器的內(nèi)部上)的一種方法，其中在這個式中χ是從大約1. 5至大約2. 9，可替代地從大約1. 5 至大約2. 6，可替代地大約2。該方法包括幾個步驟。提供了一個表面(如一個容器壁)，如同是一種反應(yīng)混合物，該混合物包括一種有機(jī)硅化合物氣體，任選地一種氧化氣體，以及任選地一種烴氣體。等離子體在反應(yīng)混合物中形成，基本上不含空心陰極等離子體。使該容器壁與該反應(yīng)混合物接觸，并且將SiOx涂層沉積到該容器壁的至少一個部分上。V. B. PECVD涂覆限制的容器開口(毛細(xì)管注射器)本發(fā)明的另一個方面是用于對有待用PECVD進(jìn)行處理的大致管狀的容器的限制的開口的內(nèi)表面進(jìn)行涂覆的一種方法。該方法包括這些步驟。提供有待處理的一個大致管狀的容器。該容器包括一個外表面、限定了一個內(nèi)腔的一個內(nèi)表面、具有內(nèi)徑的一個較大的開口、以及一個限制的開口，該限制的開口由一個內(nèi)表面限定并且具有的內(nèi)徑小于該較大的開口的內(nèi)徑。提供了一種處理容器，該處理容器具有一個內(nèi)腔以及一個處理容器開口。該處理容器開口與該容器的限制的開口相連，以建立該有待處理的容器的內(nèi)腔與該處理容器內(nèi)腔之間經(jīng)由該限制的開口的連通。將該有待處理的容器的內(nèi)腔與該處理容器的內(nèi)腔內(nèi)抽成至少部分真空。使一種 PECVD反應(yīng)物流動通過該第一開口，然后通過有待處理的容器的內(nèi)腔，然后通過該限制的開口，然后進(jìn)入該處理容器的內(nèi)腔。在有效地將PECVD反應(yīng)產(chǎn)物沉積到該限制的開口的內(nèi)表面上的條件下在該限制的開口附近產(chǎn)生等離子體。V. C.施加潤滑涂層的方法本發(fā)明的又另一個方面是將一種潤滑涂層施加到一種基底上的方法。該方法是如下實(shí)現(xiàn)的。提供了一種前體。該前體優(yōu)選地是一種有機(jī)硅化合物，更優(yōu)選線性硅氧烷、單環(huán)硅氧烷、多環(huán)硅氧烷、聚倍半硅氧烷、或這些前體之中的任何兩種或更多種的一種組合。還考慮了其他前體，例如含有周期系的第III族以及第IV族的金屬的有機(jī)金屬前體。在有效形成一種涂層的條件下將該前體施加到一種基底上。將該涂層聚合或交聯(lián)(或兩者)，從而形成一種潤滑的表面，相比于未處理的基底該潤滑的表面具有較低的如本說明書中所定義的 “柱塞滑動力”或“起動力”。VI容器檢查VI. A.包括預(yù)涂覆和后涂覆檢查的容器處理甚至本發(fā)明的另一個方面是一種用于處理一個塑料容器的容器處理方法，該塑料容器具有一個開口和一個限定內(nèi)部表面的壁。該方法是通過以下步驟來進(jìn)行的針對缺陷對如所提供的該容器的內(nèi)部表面進(jìn)行檢查；在對如所提供的該容器進(jìn)行檢查之后對該容器的內(nèi)部表面施加一個涂層；并且針對缺陷對該涂層進(jìn)行檢查。本發(fā)明的另一個方面是一種容器處理方法，其中對如所成型的容器進(jìn)行檢查之后將一個阻擋涂層施加到該容器上，并且在施加該阻擋涂層之后針對缺陷該容器的內(nèi)部表面進(jìn)行檢查。VI. B.依據(jù)檢測例如通過阻擋層的容器壁的放氣的容器檢查本發(fā)明的另一個方面是通過測量由涂覆物品放出的揮發(fā)性物種用于對涂層進(jìn)行檢查的一種方法(“放氣法”)?？梢允褂盟龇椒▉韺ν扛补に嚨漠a(chǎn)品進(jìn)行檢查，其中一種涂層已經(jīng)施加到基底的表面以形成一種涂覆表面。具體地說，該方法被用作對于一個涂覆工藝的在線過程控制以便鑒定和排除不滿足一個預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的涂覆產(chǎn)品或損壞的涂覆產(chǎn)品。通常，“揮發(fā)性物種”在試驗(yàn)條件下是一種氣體或蒸氣，并且優(yōu)選地選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成空氣、氮?dú)?、氧氣、水蒸氣、揮發(fā)性涂層組分、揮發(fā)性基底組分、以及它們的一種組合，更優(yōu)選地是空氣、氮?dú)狻⒀鯕?、水蒸氣、或它們的一種組合。該方法可以用來測量僅僅一種或幾種揮發(fā)性物種，但是優(yōu)選地在步驟(C)中測量了多種不同的揮發(fā)性物種，并且優(yōu)選地在步驟(c)中基本上測量了所有的從檢查對象釋放的揮發(fā)性物種。這種放氣方法包括以下步驟(a)提供該產(chǎn)品作為檢查對象；(c)測量至少一種揮發(fā)性物種從該檢查對象到與該涂覆表面鄰近的氣體空間內(nèi)的釋放；以及(d)將步驟(C)的結(jié)果與對于在相同試驗(yàn)條件下測量的至少一個參考對象的步驟 (C)的結(jié)果進(jìn)行比較，從而確定該涂層的存在或缺乏、和/或該涂層的物理和/或化學(xué)特性。在所述放氣方法中，有待確定的涂層的物理和/或化學(xué)特性可以選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成它的阻擋作用、它的濕潤張力、以及它的構(gòu)成、以及優(yōu)選地是它的阻擋作用。有利的是，步驟(C)是通過測量與該涂覆表面鄰近的氣體空間中的至少一種揮發(fā)性物種的質(zhì)量流率或體積流率來進(jìn)行的。優(yōu)選地，參考對象是一種(i)未涂覆的基底；或者(ii)是一種用參考涂層涂覆的基底。這取決于，例如，該放氣方法是否被用來確定一個涂層的存在或缺乏(那么該參考對象可以是一種未涂覆的基底)或被用來確定該涂層的特性(例如與一種具有已知特性的涂層進(jìn)行比較)。為了確定該涂層與一種特定涂層的一致性，一種參考涂層也將是典型的選擇。
該放氣方法還可以包括步驟(b)作為在步驟(a)與(C)之間的一個另外的步驟， 該步驟(b)改變與涂覆表面鄰近的氣體空間內(nèi)的氣壓，這樣提供了一個穿過涂覆表面的壓差并且可以實(shí)現(xiàn)該揮發(fā)性物種的相比于在沒有壓差的情況下的更高的質(zhì)量流率或體積流率。在這種情況下，該揮發(fā)性物種將在較低壓差側(cè)的方向上遷移。如果該涂覆對象是一個容器，則確定在該容器內(nèi)腔與其外部之間的壓差以便測量來自該涂覆容器壁的該揮發(fā)性物種的放氣。該壓差可以例如通過至少部分抽空在容器中的氣體空間而提供。在這種情況下， 可以測量被放出進(jìn)入該容器內(nèi)腔的揮發(fā)性物種。如果施用真空來產(chǎn)生一個壓差，可以通過使用一個插入在基底的涂覆表面與一個真空源之間的測量池來進(jìn)行該測量。一方面，優(yōu)選地為了允許所述揮發(fā)性物種吸收到該檢查對象的材料上或吸收進(jìn)入該檢查對象的材料，在步驟(a)中可以使該檢查對象與一種揮發(fā)性物種接觸，優(yōu)選地該揮發(fā)性物種是選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成空氣、氮?dú)?、氧氣、水蒸氣、以及一種它們的組合。然后，在步驟(c)中測量了揮發(fā)性物種從該檢查對象的后續(xù)釋放。因?yàn)椴煌牟牧?像， 例如，該涂層和該基底)具有不同的吸附和吸附特性，這可以簡化一個涂層的存在和特性的確定。該基底可以是一種聚合化合物，任選地是一種聚酯、一種聚烯烴、一種環(huán)烯烴共聚物、一種聚碳酸酯、或這些化合物的一種組合。在本發(fā)明的背景下，由該放氣方法表征的涂層典型地是一種從例如如在此所述的一種有機(jī)硅前體通過PECVD制備的一種涂層。在本發(fā)明的具體的方面，(i)該涂層是一種阻擋涂層，優(yōu)選地是一種SiOx層，其中χ是從大約1. 5至大約2. 9 ；和/或(ii)該涂層是改變該涂覆基底的潤滑性和/或表面張力的一種涂層，優(yōu)選地是一種SiwOxCyHz的層，其中w 是1，χ是從大約0. 5至2. 4，y是從大約0. 6至大約3，并且ζ是從2至大約9。當(dāng)通過該放氣方法檢查其產(chǎn)品的涂覆工藝是一種在真空條件下進(jìn)行的PECVD涂覆時，其隨后的放氣測量甚至可以在沒有破壞用于PECVD的真空的情況下進(jìn)行。測量的揮發(fā)性物種可以是一種從該涂層釋放的揮發(fā)性物種、一種從該基底釋放的揮發(fā)性物種、或者一種兩者的組合。一方面，該揮發(fā)性物種是一種從該涂層釋放的揮發(fā)性物種、優(yōu)選地是一種揮發(fā)性涂層組分，并且進(jìn)行該檢查以確定該涂層的存在、特性和/或構(gòu)成。另一方面，該揮發(fā)性物種是從該基底釋放的一種揮發(fā)性物種并且進(jìn)行該檢查以確定該涂層的存在和/或該涂層的阻擋作用。本發(fā)明的放氣方法特別適合于確定在容器壁上的一個涂層的存在和特性。因此， 該涂覆基底可以是一種容器，該容器具有一個在涂覆工藝期間在其內(nèi)表面或外表面上的至少部分被涂覆的壁。例如，該涂層被置于該容器壁的內(nèi)表面上。有效區(qū)分該涂層的存在或缺乏、和/或確定該涂層的物理和/或化學(xué)特性的條件包括小于一小時、或小于一分鐘、或小于50秒、或小于40秒、或小于30秒、或小于20秒、或小于15秒、或小于10秒、或小于8秒、或小于6秒、或小于4秒、或小于3秒、或小于2秒、 或小于1秒的測試持續(xù)時間(test duration)。為了增加在一個參考對象與該檢查對象之間的關(guān)于釋放速率和/或所測量的揮發(fā)性物種的種類的差異，可以通過改變環(huán)境壓力和/或溫度、和/或濕度來改變該揮發(fā)性物種的釋放速率。
在一個具體的方面，使用一種微懸壁梁測量技術(shù)測量了放氣。例如，該測量可以通過以下步驟來進(jìn)行(i) (a)提供至少一個微懸壁梁，當(dāng)一種放出的材料存在時該微懸壁梁具有移動或改變到一個不同形狀的特性；(b)在有效引起該微懸壁梁移動或改變到一個不同形狀的條件下將該微懸壁梁暴露于該放出的材料；并且(C)檢測該移動或不同的形狀，優(yōu)選地通過反射一種來自在將該微懸臂梁暴露于放氣之前和之后改變形狀的該微懸壁梁的一部分的高能入射束例如一種激光束，并且測量在與該懸臂梁間隔的一個點(diǎn)處產(chǎn)生的反射束的偏轉(zhuǎn)；或者通過(ii) (a)提供至少一個微懸臂梁，當(dāng)一種放出的材料存在時該微懸臂梁以一個不同的頻率共振；(b)在有效引起該微懸臂梁以一個不同的頻率共振的條件下將該微懸臂梁暴露于該放出的材料中；并且(C)檢測該不同的共振頻率，例如使用一個諧振傳感器。還考慮了用于進(jìn)行該放氣方法的一種裝置，例如一種包括如上述的微懸臂梁的裝置。使用本發(fā)明的放氣方法，例如可以檢查在一種放出蒸氣的材料上的一個阻擋層， 其中該檢查方法具有幾個步驟。提供了放出一種氣體的并且具有至少部分阻擋層的材料的樣品。在本發(fā)明的一個具體的方面，提供了一個跨越該阻擋層的壓差，這樣至少一些放氣的材料是在該阻擋層的高壓側(cè)。測量了穿過該阻擋層的放出的氣體。如果存在一個壓差，則該測量任選地是在該阻擋層的低壓側(cè)上進(jìn)行的。VII PECVD處理的容器VII.A. l.a. i.從有機(jī)硅前體沉積的疏水涂層本發(fā)明的另一個方面是從一種有機(jī)硅前體沉積的一種疏水涂層，例如在內(nèi)側(cè)壁上具有疏水性涂層的容器中。該涂層是通過以下步驟制造的類型。提供了一種前體，該前體是一種有機(jī)金屬化合物，優(yōu)選地一種有機(jī)硅化合物，更優(yōu)選地選自下組的一種化合物，該組由以下各項(xiàng)組成線性硅氧烷、單環(huán)硅氧烷、多環(huán)硅氧烷、 聚倍半硅氧烷、烷基三甲氧基硅烷、線性硅氮烷、單環(huán)硅氮烷、多環(huán)硅氮烷、聚倍半硅氮烷、 或這些前體之中的任何兩種或更多種的一種組合。可替代地，可以將含有第III族或第IV 族金屬的有機(jī)金屬化合物考慮為前體。在有效形成一種涂層的條件下將該前體施加到一種基底上。該涂層被聚合或交聯(lián) (或兩者)，從而形成具有比未處理基底更高的接觸角的一個疏水表面。生成的涂層可以具有總式=SiwOxCyHz，其中w是l，x是從大約0. 5至大約2. 4，y是從大約0. 6至大約3，并且ζ是從大約2至大約9，優(yōu)選地其中w是l，x是從大約0. 5至1， y是從大約2至大約3，并且ζ是從大約6至大約9。貫穿本說明書所使用的W、X、y和ζ的這些值應(yīng)當(dāng)理解為在一個經(jīng)驗(yàn)式中的比率(例如，對于一個涂層)，而不是對一個分子中的原子的數(shù)目的限制。例如，具有分子式 Si4O4Qft4的八甲基環(huán)四硅氧烷可以通過以下經(jīng)驗(yàn)式(用語被我們改變)進(jìn)行說明，通過將該分子式中的《、X、y、以及ζ各自除以4 (最大公因數(shù))而得到Si1O1C2H6.并且W、χ、y以及ζ的值也不限于整數(shù)。例如，(非環(huán)狀)八甲基三硅氧烷，分子式Si3O2C8H24，被約簡為
SilO0. 67^2.67 0
VII. Α. 1. b具有涂覆有從有機(jī)硅前體沉積的疏水涂層的壁的檸檬酸鹽采血管本發(fā)明的另一個方面是一種細(xì)胞制備管，該管具有配備有一個疏水涂層的一個壁并且容納有一種含水檸檬酸鈉試劑。該壁是由熱塑性材料制成的，具有限定了一個內(nèi)腔的一個內(nèi)表面。該疏水涂層被提供在該管的內(nèi)表面上。該疏水涂層是通過提供一種有機(jī)金屬化合物來制造的，該有機(jī)金屬化合物優(yōu)選地是一種有機(jī)硅化合物，更優(yōu)選地是選自下組的一種化合物，該組由以下各項(xiàng)組成線性硅氧烷、單環(huán)硅氧烷、多環(huán)硅氧烷、聚倍半硅氧烷、烷基三甲氧基硅烷、線性硅氮烷、單環(huán)硅氮烷、多環(huán)硅氮烷、聚倍半硅氮烷、或這些前體之中的任何兩種或更多種的一種組合。使用PECVD以在內(nèi)表面上形成一個涂層。生成的涂層可以具有以下結(jié)構(gòu)=SiwOxCyHz，其中w是l，x是從大約0. 5至大約2. 4，y是從大約0. 6至大約3，并且ζ是從大約2至大約9，優(yōu)選地其中w是1，χ是從大約0. 5至1，y是從大約2至大約3， 并且ζ是從6至大約9。將含水檸檬酸鈉試劑以有效抑制被引入到該管內(nèi)的血液的凝固的一個量置于該管的內(nèi)腔中。VII. A. 1. c. SiOx阻擋層涂覆的雙壁塑料容器_C0C、PET、SiOx層本發(fā)明的另一個方面是具有至少部分圍繞一個內(nèi)腔的壁的一種容器。該壁具有被一個外部聚合物層圍繞的一個內(nèi)部聚合物層。這些聚合物層之一是限定了一個水蒸氣阻擋層的至少0. Imm厚的環(huán)烯烴共聚物(COC)樹脂的一個層。這些聚合物層中的另一種是至少 0. Imm厚的聚酯樹脂的一個層。該壁包括一個SiOx的氧氣阻擋層，其中在這個式中χ是從大約1. 5至大約2. 9，可替代地從大約1. 5至大約2. 6，可替代地大約2，該阻擋層具有從大約10至大約500埃的厚度。VII. A. Ld.制造雙壁塑料容器的方法_C0C、PET、SiOx層本發(fā)明的另一個方面是制造具有使一個內(nèi)部聚合物側(cè)被一個外部聚合物層圍繞的一個壁、由COC制造的一個層以及由聚酯制造的其他部分的容器的一種方法。該容器是通過包括下面各項(xiàng)的一種工藝來制造的將COC以及聚酯樹脂層通過同心注射噴嘴引入到一個注塑模具中。一個任選的另外的步驟是通過PECVD將一種無定形碳涂層施加于該容器，作為一個內(nèi)部涂層、一個外部涂層、或作為位于這些層之間的一個夾層或夾層涂層。一個任選的另外的步驟是將一個SiOJ且擋層施加于該容器壁的內(nèi)部，其中510!￡是如前定義的。另一個任選的另外的步驟是用一種工藝氣體(主要包括氧氣并且基本上不含揮發(fā)性硅化合物)對該SiOx層進(jìn)行后處理。任選地，可以至少部分地由硅氮烷進(jìn)料氣體來形成該SiOx涂層。VII.A. I.e.由玻璃制成的阻擋涂層本發(fā)明的另一個方面是包括一個容器壁、一個阻擋涂層、以及一個閉合件的容器。 該容器大致是管狀的并且由熱塑性材料制成。該容器具有一個開口和至少部分被一個壁限定的一個內(nèi)腔，該壁具有與該內(nèi)腔分界的一個內(nèi)表面。在該壁的內(nèi)表面上存在由玻璃制成的一個至少基本上連續(xù)的阻擋涂層。一個閉合件覆蓋該開口并且將該容器的內(nèi)腔從環(huán)境空氣隔離。
本發(fā)明的一個相關(guān)方面是如前面段落中所述的一種容器，其中該阻擋涂層是由鈉鈣玻璃、硼硅玻璃、或另一種類型的玻璃制成的。VII. A. 2 塞子VII. A. 2. a.在真空室中將潤滑涂層施加到塞子上的方法本發(fā)明的另一個方面是將一種涂層例如如以上定義的一種潤滑涂層施加到一種彈性體塞子上的一種方法例如，將一個塞子定位在一個基本上抽空的室中。提供了一種反應(yīng)混合物，該反應(yīng)物包括等離子體形成氣體，即一種有機(jī)硅化合物氣體，任選地一種氧化氣體，以及任選地一種烴氣體。等離子體在該反應(yīng)混合物中形成，該反應(yīng)混合物與該塞子相接觸。將一種潤滑涂層(例如SiwOxCyHz的一個涂層，優(yōu)選地其中w是1，在這個式中χ是從大約0. 5至2. 4，y是從大約0. 6至大約3，并且ζ是從2至大約9，優(yōu)選地其中w是1，χ是從大約0. 5至1，y是從大約2至大約3，并且ζ是從6至大約9)沉積在該塞子的至少一部分上。VII. A. 2. b.通過PECVD將第III族或第IV族元素和碳的一個涂層施加到一個塞子上本發(fā)明的另一個方面是將包括碳以及第III族或IV族的一種或多種元素的組合物的一種涂層施加到一個彈性體塞子上的一種方法為了實(shí)現(xiàn)這種方法，將一個塞子定位在一個沉積室中。在沉積室中提供了一種反應(yīng)混合物，該反應(yīng)混合物包括一種等離子體形成氣體以及一種第III族元素(例如Al)、一種第IV族元素(例如，Si、Sn)的氣體源、或這些之中的兩種或更多種的一種組合。該反應(yīng)混合物任選地包含一種氧化氣體以及任選地包含具有一個或多個C-H鍵的一種氣態(tài)化合物。等離子體在該反應(yīng)混合物中形成，并且該塞子與該反應(yīng)混合物相接觸。將第III族元素或化合物、一種第IV元素或化合物、或這些之中的兩種或更多種的一種組合的一個涂層沉積在該塞子的至少一部分上。VII.A. 3.塞子塞住的具有阻擋涂層的塑料容器，該阻擋涂層有效提供95 %的真空保持持續(xù)M個月本發(fā)明的另一個方面是包括一個容器壁、一個阻擋涂層、以及一個閉合件的容器。 該容器是大致管狀的并且是由熱塑性材料制成的。該容器具有一個開口和至少部分被一個壁限定的一個內(nèi)腔。該壁具有與該內(nèi)腔分界的一個內(nèi)表面。將一個至少基本上連續(xù)的阻擋涂層施加到該壁的內(nèi)表面上。該阻擋涂層有效保持該容器內(nèi)至少90%的它的初始真空水平，任選地95%的它的初始真空水平，持續(xù)至少M(fèi)個月的保質(zhì)期。提供了一個閉合件，該閉合件覆蓋該開口并且將該容器的內(nèi)腔從環(huán)境空氣隔離。VII. B. 1. a.具有涂覆有從有機(jī)金屬前體沉積的潤滑涂層的筒的注射器本發(fā)明的又另一個方面是一種容器，該容器具有由一種有機(jī)硅前體制成的一個潤滑涂層。還可以考慮如在此定義的一種不同的有機(jī)金屬前體。 該涂層可以是通過以下方法制造的類型。提供了一種前體，該前體是一種有機(jī)金屬前體，優(yōu)選地一種有機(jī)硅前體，更優(yōu)選地是線性硅氧烷、單環(huán)硅氧烷、多環(huán)硅氧烷、聚倍半硅氧烷、線性硅氮烷、單環(huán)硅氮烷、多環(huán)硅氮烷、聚倍半硅氮烷、或這些前體之中的任何兩種或更多種的一種組合。在有效形成一種涂層的條件下將該前體施加到一種基底上。將該涂層聚合或交聯(lián)(或兩者)，從而形成一種潤滑的表面，相比于未處理的基底該潤滑的表面具有較低的柱塞滑動力或起動力。本發(fā)明的另一個方面是一種包括一個柱塞、一個注射器筒、以及一個潤滑層的注射器。該注射器筒具有可滑動地接收該柱塞的一個內(nèi)部表面。該潤滑層被布置在該注射器筒的內(nèi)部表面上并且包括從如本說明書中所定義的有機(jī)硅前體制造的SiwOxCyHz潤滑層的一個涂層。該潤滑層具有小于IOOOnm的厚度并且有效地減少了在筒內(nèi)移動柱塞所必需的起動力或柱塞滑動力。本發(fā)明的另一個方面是在注射器筒的內(nèi)壁上的一個潤滑涂層。該涂層是使用以下材料以及條件根據(jù)PECVD過程產(chǎn)生的。采用了一種環(huán)狀前體，該環(huán)狀前體選自單環(huán)硅氧烷、 多環(huán)硅氧烷、或這些之中的兩種或更多種的一種組合。至少基本上沒有氧氣加入到該過程中。提供了足夠的等離子體產(chǎn)生功率輸入以誘導(dǎo)涂層形成。相對于未涂覆的注射器筒，所采用的材料和條件將移動通過該注射器筒的注射器柱塞滑動力或起動力有效降低至少25%。生成的涂層可以具有下式=SiwOxCyHz，其中w是l，x是從大約0. 5至大約2. 4，y是從大約0. 6至大約3，并且ζ是從大約2至大約9，優(yōu)選地其中w是l，x是從大約0. 5至1， y是從大約2至大約3，，并且ζ是從6至大約9。VII. B. 1. a. i.潤滑涂層=SiOx阻擋層、潤滑層、表面處理。本發(fā)明的另一個方面是包含一個筒的注射器，該筒限定了一個內(nèi)腔并且具有一個可滑動地接收一個柱塞的內(nèi)部表面。該注射器筒是由熱塑性基礎(chǔ)材料制成的。通過 PECVD將一個潤滑涂層施加到例如該筒內(nèi)部表面、該柱塞或兩者上。該潤滑涂層是從一種有機(jī)硅前體制成的并且是小于IOOOnm厚。以有效減少該潤滑層、該熱塑性基礎(chǔ)材料(或兩者)的浸出的一個量在該潤滑涂層上進(jìn)行表面處理。該潤滑涂層與溶質(zhì)阻擋物(solute retainer)被構(gòu)成并且以有效提供起動力、柱塞滑動力、或兩者(該力小于在缺乏潤滑涂層與溶質(zhì)阻擋物所需要的相應(yīng)的力)的相對量而存在。VII. B. l.b具有用SiOx涂覆的內(nèi)部以及阻擋層涂覆的外部的筒的注射器本發(fā)明的又另一個方面是一種包括一個柱塞、一個筒、以及內(nèi)部和外部阻擋涂層的注射器筒。該阻擋層是由限定了一個內(nèi)腔的熱塑性基礎(chǔ)材料制造的。該筒具有可滑動地接收該柱塞的一個內(nèi)部表面以及一個外部表面。一個SiOx阻擋涂層被提供在該筒的內(nèi)部表面上，其中在這個式中X是從大約1. 5至大約2. 9，可替代地從大約1. 5至大約2. 6，任選地約2。一種樹脂阻擋涂層被提供在該筒的外部表面上。VII. B. 1. c制造具有用SiOx涂覆的內(nèi)部以及阻擋層涂覆的外部的筒的注射器的方法本發(fā)明的甚至另一個方面是制造一種注射器的方法，該注射器包括一個柱塞、一個筒、以及內(nèi)部以及外部阻擋涂層。提供了具有可滑動地接收該柱塞的一個內(nèi)部表面以及一個外部表面的一種筒。將一個SiOx阻擋涂層通過PECVD提供在該筒的內(nèi)部表面上，其中在這個式中χ是從大約1. 5至大約2. 9，可替代地從大約1. 5至大約2. 6，可替代地約2。將一種樹脂的阻擋涂層提供到該筒的外部表面上。將該柱塞以及筒進(jìn)行組裝從而提供了一種注射器。VII. B. 2 柱塞VII. B. 2. a.具有阻擋層涂覆的活塞前面
本發(fā)明的另一個方面是用于注射器的一種柱塞，該柱塞包括一個活塞以及一個推桿。該活塞具有一個前面、一個大致圓柱形的側(cè)面、以及一個后部分，該側(cè)面被配置為可移動地落座于注射器筒之內(nèi)。該前面具有一個阻擋涂層。該推桿接合該后部分并且被配置為使該活塞在注射器筒中前進(jìn)。VII. B. 2. b.具有與側(cè)面交界的潤滑涂層本發(fā)明的又另一個方面是用于注射器的一種柱塞，該柱塞包括一個活塞、一個潤滑涂層以及一個推桿。該活塞具有一個前面，一個大致圓柱形的側(cè)面、以及一個后部分。該側(cè)面被配置為可移動地落座于注射器筒之內(nèi)。該潤滑層與該側(cè)面接界。該推桿接合該活塞的后部分并且被配置為使該活塞在注射器筒中前進(jìn)。VII. B. 3兩件式注射器和魯爾接頭本發(fā)明的另一個方面是包括一個柱塞、一個注射器筒、以及一個魯爾接頭的注射器。該注射器筒包括可滑動地接收該柱塞的一個內(nèi)部表面。該魯爾接頭包括一個魯爾錐， 該魯爾錐具有由一個內(nèi)表面限定的一個內(nèi)部通道。該魯爾接頭以與該注射器筒分離的一個分離件的形式而形成并且通過一個連接器連接到該注射器筒上。該魯爾錐的內(nèi)部通道具有一種SiOx阻擋涂層，其中在這個式中X是從大約1. 5至大約2. 9，可替代地從大約1. 5至大約2. 6，可替代地約2。VII. B. 4通過原位聚合有機(jī)硅前體而制造的潤滑涂層VII. B. 4. a.通過處理以及潤滑的產(chǎn)物本發(fā)明的又另一個方面是從有機(jī)硅前體制成的一種潤滑涂層。這種涂層是由以下方法制成的類型。提供了一種前體，該前體選自一種有機(jī)金屬前體，優(yōu)選地一種有機(jī)硅前體，優(yōu)選線性硅氧烷、單環(huán)硅氧烷、多環(huán)硅氧烷、聚倍半硅氧烷、線性硅氮烷、單環(huán)硅氮烷、多環(huán)硅氮烷、 聚倍半硅氮烷、或這些前體之中的任何兩種或更多種的一種組合。在有效形成一種涂層的條件下將該前體施加到一種基底上。將該涂層聚合或交聯(lián)(或兩者)，從而形成一種潤滑的表面，相比于未處理的基底該潤滑的表面具有較低的柱塞滑動力或起動力。生成的涂層可以具有以下結(jié)構(gòu)=SiwOxCyHz，其中w是l，x是從大約0. 5至大約2. 4， y是從大約0. 6至大約3，并且ζ是從大約2至大約9，優(yōu)選地其中w是1，χ是從大約0. 5至 1，y是從大約2至大約3，并且ζ是從6至大約9。VII. B. 4.b.工藝與分析特性的產(chǎn)物本發(fā)明的甚至另一個方面是來自有機(jī)金屬前體的通過PECVD沉積的一個潤滑涂層，優(yōu)選地來自一種有機(jī)硅前體，更優(yōu)選地來自線性硅氧烷、單環(huán)硅氧烷、多環(huán)硅氧烷、聚倍半硅氧烷、線性硅氮烷、單環(huán)硅氮烷、多環(huán)硅氮烷、聚倍半硅氮烷、或這些之中的兩種或更多種的一種組合。如通過X射線反射率(XRR)所確定的該涂層具有在1. 25與1. 65g/cm3之間的密度。還可以考慮使用含有第III族(即，硼、鋁、鎵、銦、鉈、鈧、釔、或鑭)，或第IV族 (即，硅、鍺、錫、鉛、鈦、鋯、鉿、釷)的一種金屬、或這些之中的任何兩種或更多種的組合的一種有機(jī)金屬前體。還可以考慮其他揮發(fā)性有機(jī)化合物。然而，優(yōu)選有機(jī)硅化合物來進(jìn)行本發(fā)明。本發(fā)明的又另一個方面是通過來自進(jìn)料氣體的PECVD沉積的一個潤滑涂層，該進(jìn)料氣體包括一種有機(jī)金屬前體、優(yōu)選地一種有機(jī)硅前體，更優(yōu)選線性硅氧烷、單環(huán)硅氧烷、 多環(huán)硅氧烷、聚倍半硅氧烷、線性硅氮烷、單環(huán)硅氮烷、多環(huán)硅氮烷、聚倍半硅氮烷、或這些之中的兩種或更多種的一種組合。還可以考慮使用含有第III族或第IV族的一種金屬的前體。如通過氣相色譜法/質(zhì)譜法所確定的，該涂層具有作為一種放氣組分的含重復(fù)的-(Me)2SiO-部分的一種或多種低聚物。任選地，該涂層符合任何實(shí)施方案VII. B. 4. a.或 VII. B. 4的限定。本發(fā)明的又另一個方面是通過來自進(jìn)料氣體的PECVD沉積的一個潤滑涂層，該進(jìn)料氣體包括一種有機(jī)金屬前體、優(yōu)選地一種有機(jī)硅前體，更優(yōu)選線性硅氧烷、單環(huán)硅氧烷、 多環(huán)硅氧烷、聚倍半硅氧烷、線性硅氮烷、單環(huán)硅氮烷、多環(huán)硅氮烷、聚倍半硅氮烷、或這些之中的兩種或更多種的一種組合。如通過X射線光電子光譜法(XPQ所確定的，該涂層可以具有被歸一化為100%的碳、氧、以及硅的原子濃度，具有小于50%的碳以及大于25%的硅。任選地，該涂層符合任何實(shí)施方案VII. B. 4. a或VII. B. 4. b.的限定。還可以考慮使用含有第III族或第IV族的金屬的一種有機(jī)金屬前體。本發(fā)明的另一個方面是通過PECVD從一種進(jìn)料氣體沉積的一種潤滑涂層，該進(jìn)料氣體含有一種有機(jī)硅前體，優(yōu)選地單環(huán)硅氧烷、單環(huán)硅氮烷、多環(huán)硅氧烷、多環(huán)硅氮烷、或這些之中的兩種或更多種的任何組合。該涂層具有如通過χ射線光電子光譜法(XPQ所確定的，被歸一化為100%的碳、氧、以及硅的一個碳的原子濃度，該濃度大于進(jìn)料氣體的原子式中碳的原子濃度。任選地，該涂層符合實(shí)施方案VII. B. 4. a或VII. B. 4. b中的限定。本發(fā)明的另一個方面是通過PECVD從一種進(jìn)料氣體沉積的一種潤滑涂層，該進(jìn)料氣體包含一種有機(jī)硅前體，優(yōu)選單環(huán)硅氧烷、單環(huán)硅氮烷、多環(huán)硅氧烷、多環(huán)硅氮烷、或這些之中的兩種或更多種的任何組合。該涂層具有如通過χ射線光電子光譜法(XPQ所確定的，被歸一化為100%的碳、氧、以及硅的一個硅的原子濃度，該濃度小于進(jìn)料氣體的原子式中硅的原子濃度。任選地，該涂層符合實(shí)施方案VII. B. 4. a或VII. B. 4. b中的限定。VII. C. 1.容納有能活的血液的具有由有機(jī)硅前體沉積的一個涂層的容器本發(fā)明的甚至另一個方面是一種容納血液的容器。該容器具有一個壁；該壁具有限定了一個內(nèi)腔的一個內(nèi)表面。該壁的內(nèi)表面具有如上定義的一個至少部分疏水涂層，優(yōu)選地一個SiwOxCyHz的疏水涂層，優(yōu)選地其中w是1，在這個式中χ是從大約0. 5至2. 4，y是從大約0. 6至大約3，并且ζ是從2至大約9，更優(yōu)選地其中w是1，χ是從大約0. 5至1， y是從大約2至大約3，并且ζ是從6至大約9。該涂層可以是薄如單分子厚度，或厚如約 lOOOnm。該容器容納用于返回病人的血管系統(tǒng)的能活的血液，該血液被布置在該內(nèi)腔內(nèi)與該SiwOxCyHz涂層接觸。VII. C. 2.從有機(jī)硅前體沉積的涂層減少了在容器壁上的凝固或血小板激活本發(fā)明的另一個方面是具有一個壁的容器。該壁具有限定了一個內(nèi)腔的一個內(nèi)表面并且具有通過PECVD從一種有機(jī)硅前體制造的一個至少部分鈍化的例如疏水的涂層，優(yōu)選地一種SiwOxCyHz的涂層，優(yōu)選地其中w是1，在這個式中χ是從大約0. 5至2. 4，y是從大約0. 6至大約3，并且ζ是從2至大約9，更優(yōu)選地其中w是1，χ是從大約0. 5至1，y是從大約2至大約3，并且ζ是從6至大約9。在該內(nèi)部表面上該涂層的厚度是從單原子厚度至約IOOOnm厚。與同一類型的未涂覆的壁相比較，該涂層有效減少用檸檬酸鈉添加劑處理過的并且暴露于該內(nèi)表面的血漿的血小板激活。與同一類型的未涂覆的壁相比較，該涂層有效減少暴露于該內(nèi)表面的血液的凝固。VII. C. 3.容納能活的血液、具有第III族或第IV族金屬元素的涂層的容器本發(fā)明的另一個方面是一種容納血液的容器，該容器具有一個壁，該壁具有限定了一個內(nèi)腔的一個內(nèi)表面。該內(nèi)表面具有一種構(gòu)成的一個至少部分涂層，該構(gòu)成包括碳、第 III族的一種或多種金屬、第IV族的一種或多種金屬、或這些之中的兩種或更多種的一種組合。在該內(nèi)表面上的該涂層的厚度是在單分子厚度與大約IOOOnm厚度之間，包括端值。 該容器容納用于返回病人的血管系統(tǒng)的能活的血液，該血液被布置在與該涂層相接觸的該內(nèi)腔內(nèi)。VII. C. 4.第III族或第IV族元素的涂層減少了該容器中血液的凝固或血小板激活任選地，在以上段落中所述的容器中，該第III族或第IV族元素的涂層有效減少暴露于該容器壁的內(nèi)表面的血液的凝固或血小板激活。VII. D. 1.容納胰島素的具有由有機(jī)硅前體沉積的涂層的容器本發(fā)明的另一個方面是一種容納胰島素的容器，該容器具有一個壁，該壁具有限定了一個內(nèi)腔的一個內(nèi)表面。該內(nèi)壁具有通過PECVD從一種有機(jī)硅前體制成的一個至少部分鈍化的涂層，優(yōu)選地一種SiwOxCyHz的涂層，優(yōu)選地其中w是1，在這個式中χ是從大約0. 5 至2. 4，y是從大約0. 6至大約3，并且ζ是從2至大約9，更優(yōu)選地其中w是1，χ是從大約 0. 5至l，y是從大約2至大約3，并且ζ是從6至大約9。在該內(nèi)表面上該涂層可以是從單分子厚度至約IOOOnm厚。胰島素被布置在與SiwOxCyHz涂層接觸的內(nèi)腔內(nèi)。VII. D. 2.由有機(jī)硅前體沉積的涂層減少了容器中胰島素的沉淀任選地，在以上段落的容器中，與缺乏SiwOxCyHz的涂層的相同表面相比較，該 SiwOxCyHz的涂層有效減少由于胰島素接觸該內(nèi)表面的沉淀形成。VII. D. 3.容納胰島素的具有第III族或第IV族元素的涂層的容器本發(fā)明的另一個方面是一種容納胰島素的容器，該容器包括一個壁，該壁具有限定了一個內(nèi)腔的一個內(nèi)表面。該內(nèi)表面具有一種構(gòu)成的一個至少部分涂層，該構(gòu)成包括碳、 第III族的一種或多種金屬、第IV族的一種或多種金屬、或這些之中的兩種或更多種的一種組合。在該內(nèi)表面上該涂層可以是從單分子厚度至大約IOOOnm厚度。胰島素被布置在與該涂層相接觸的該內(nèi)腔內(nèi)。VII. D. 4.第III族或第IV族元素的涂層減少了容器中胰島素的沉淀任選地，在以上段落中所述的容器中，與缺乏涂層的相同表面相比較，包括包括碳、第III族的一種或多種金屬、第IV族的一種或多種金屬、或這些之中的兩種或更多種的一種組合的構(gòu)成的涂層有效減少由于胰島素接觸內(nèi)表面的沉淀形成。VILE.小杯在本說明書中所述的PECVD涂覆方法等等對于涂覆小杯以形成一個阻擋涂層、一個疏水涂層、一個潤滑涂層、或這些之中的一種以上也是有用的。小杯是具有圓形或方形截面、一端密封的、由塑料、玻璃、或熔融石英(用于UV光)制成的并且被設(shè)計(jì)用于容納樣品用于光譜實(shí)驗(yàn)的一種小管。最好的小杯是盡可能透明的，沒有可能影響光譜讀數(shù)的雜質(zhì)。如同試管或采樣管，小杯可以是向大氣開放的或使用一個帽來將它密封關(guān)閉。本發(fā)明的PECVD施加的涂層可以是非常薄的、透明的、并且光學(xué)平坦的、因此不干擾該小杯或它的內(nèi)容物的光學(xué)測試。VII. F.小瓶本說明書中所述的PECVD涂覆方法等等，對于涂覆小瓶以形成一個涂層、例如一個阻擋涂層或一個疏水涂層、或這些涂層的一個組合也是有用的。小瓶是一種小容器或瓶， 尤其是用于存儲液體、粉末或凍干的粉末形式的藥物。它們還可以是樣品容器，例如用于分析型層析中的自動進(jìn)樣器設(shè)備中。小瓶可以具有管狀形狀或具有一個頸的瓶樣形狀。與試管或采樣管不同(它們通常具有圓形底部)該底部通常是平的。這些小管可以是例如由塑料(例如聚丙烯、coc、COP)制成的。計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)以及程序元件此外，提供了一種計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)，在其中存儲用于涂覆和/或檢查容器的計(jì)算機(jī)程序，當(dāng)該計(jì)算機(jī)程序被一個容器處理系統(tǒng)的處理器執(zhí)行時，引起該處理器進(jìn)行以上或以下提及的方法步驟。此外，提供了用于對容器進(jìn)行涂覆和/或檢查的一種程序元件，當(dāng)該程序元件被一個容器處理系統(tǒng)的處理器執(zhí)行時，引起該處理器進(jìn)行以上或以下提及的方法步驟。根據(jù)本披露以及附圖，本發(fā)明的其他方面將是清楚的。附圖簡要說明

圖1是一個示意圖，該圖顯示了根據(jù)本披露的一個實(shí)施方案的一種容器處理系統(tǒng)。圖2是根據(jù)本披露的一個實(shí)施方案的一個涂覆站中的一個容器支架的一個示意性截面視圖。圖3是本披露的一個可替代的實(shí)施方案的類似于圖2的一個視圖。圖4是該容器支架的一個可替代的實(shí)施方案的一個圖解的平面圖。圖5是該容器支架的另一個可替代的實(shí)施方案的一個圖解的平面視圖。圖6是容器檢查裝置的類似于圖2的一個視圖。圖7是可替代的容器檢查裝置的類似于圖2的一個視圖。圖8是沿著圖2的截面線A-A截取的一個截面。圖9是圖8中所示結(jié)構(gòu)的一個替代的實(shí)施方案。圖10是在根據(jù)本披露的另一個實(shí)施方案的一個涂覆站中一個容器支架的類似于圖2的一個視圖(采用了一個CXD檢測器)。圖11是光源以及檢測器的類似于圖10的一個詳細(xì)視圖(與圖6的相應(yīng)部分相比較它們是相反的)。圖12是根據(jù)本披露的又另一個實(shí)施方案的一個涂覆站中的一個容器支架的類似于圖2的一個視圖(采用微波能量來產(chǎn)生等離子體)。圖13是根據(jù)本披露的又一個實(shí)施方案的一個涂覆站中的一個容器支架的類似于圖2的一個視圖，其中可以將該容器落座于位于該處理站的容器支架上。圖14是根據(jù)本披露的甚至另一個實(shí)施方案的一個涂覆站中的一個容器支架的類似于圖2的一個視圖，其中該電極可以被配置為一種線圈。圖15是根據(jù)本披露的另一個實(shí)施方案的一個涂覆站中的一個容器支架的類似于圖2的一個視圖(采用管運(yùn)送裝置以將容器移動進(jìn)入以及離開該涂覆站)。圖16是中操作一種容器運(yùn)輸系統(tǒng)(如圖15中所示的一個系統(tǒng))以在處理站放置并且保持容器的一個圖解視圖。圖17是根據(jù)本披露的一個方面用于形成容器的一個模具以及模具空腔的一個圖解視圖。圖18是根據(jù)本披露的一個方面配備有一種容器涂覆設(shè)備的圖17的模具空腔的一個圖解視圖。圖19是根據(jù)本披露的一個方面的配備有一個替代的容器涂覆設(shè)備的類似于圖17 的一個視圖。圖20是一個適配用作一個預(yù)充式注射器的注射器和的帽的一個分解縱向截面視圖。圖21是顯示根據(jù)本披露的一個實(shí)施方案的一個涂覆站中的一個加帽的注射器筒以及容器支架的大致類似于圖2的一個視圖。圖22是圖顯示根據(jù)本披露的又一個實(shí)施方案的一個涂覆站中的一個未加帽的注射器筒以及容器支架的大致類似于圖21的一個視圖。圖23是根據(jù)本發(fā)明的又另一個實(shí)施方案的具有一個閉合件的采血管組件的一個透視圖。圖M是圖23的采血管以及閉合組件的一個斷裂剖面。圖25是圖23以及M的閉合件的一個彈性體插入件的一個分離的剖面圖。圖沈是本發(fā)明的另一個實(shí)施方案用于處理注射器筒以及其他容器的類似于22的一個視圖。圖27是圖沈的處理容器的一個放大的局部視圖。圖觀是一個可替代的處理容器的一個示意圖。圖四是顯示穿過涂層的的材料放氣的一個示意圖。圖30是用于引起一個容器壁放氣到該容器的內(nèi)部的一個測試裝置以及使用一個插入在該容器與一個真空源之間的測量池的放氣測量的一個示意性截面視圖。圖31是一個對于多個容器的在圖30的測試裝置上測量的一個放氣質(zhì)量流率的曲線圖。圖32是一個顯示在圖31中所示出的端點(diǎn)數(shù)據(jù)的統(tǒng)計(jì)分析的條形圖。圖33是根據(jù)本發(fā)明的另一個實(shí)施方案的一種組合的注射器筒以及氣體接收體積的一個縱截面。圖34是本發(fā)明的另一個實(shí)施方案的類似于圖34的一個視圖(包括一個電極伸出部)。圖35是從圖34的截面線35-35截取的一個視圖，顯示了遠(yuǎn)端氣體供應(yīng)開口以及圖34的延伸電極。圖36是根據(jù)本發(fā)明的又另一個實(shí)施方案的雙壁采血管組件的的一個透視圖。圖37是顯示另一個實(shí)施方案的類似于圖22的一個視圖。圖38是顯示又另一個實(shí)施方案的類似于圖22的一個視圖。圖39是顯示又另一個實(shí)施方案的類似于圖22的一個視圖。
圖40是顯示甚至另一個實(shí)施方案的類似于圖22的一個視圖。圖41是圖40的實(shí)施方案的一個平面圖。圖42是可以與圖1、2、3、6-10、12-16、18、19、33、以及37-41的實(shí)施方案一起使用的用于將容器落座于容器支架上的一個可替代的密封布置的斷裂的局部縱截面。圖42還顯示了可以與例如圖2、3、6-10、12-22、洸-28、33-34、以及37-41的實(shí)施方案一起使用的一種可替代的注射器筒構(gòu)造。圖43是圖42中所示的密封布置的一個另外的放大的局部視圖。圖 44 是可以與例如圖 1、2、3、8、9、12-16、18-19、21-22、33、37-43、46-49、以及 52-54的實(shí)施方案一起使用的一個可替代的氣體遞送管/內(nèi)電極的類似于圖2的一個視圖。圖 45 是可以與例如圖 1、2、3、6-10、12-16、18、19、21、22、26、28、33-35、以及 37-44 的實(shí)施方案一起使用的容器支架的一種可替代的構(gòu)造。圖46是氣體遞送管的一個陣列以及用于將氣體遞送管插入一個容器支架中以及從其移開的一個機(jī)構(gòu)的一個示意性截面視圖，顯示了處于其完全推進(jìn)的位置的氣體遞送管。圖47是顯示處于中間位置的一個氣體遞送管的類似于圖46的一個視圖。圖48是顯示處于完全縮回位置的一個氣體遞送管的類似于圖46的一個視圖。圖 46-48的氣體遞送管的陣列可以與例如圖1、2、3、8、9、12-16、18-19、21-22、26-28、33-35、 37-45、49、以及52巧4的實(shí)施方案一起使用。圖46-48的機(jī)構(gòu)可以與例如圖2、3、8、9、12-16、 18-19,21-22,26-28,33-35,37-45,49,以及52-54的氣體遞送管實(shí)施方案以及與圖6和7 的容器檢查裝置的探頭一起使用。圖49是顯示用于將有待處理的容器以及一個清洗反應(yīng)器遞送至一個PECVD涂覆裝置的一個機(jī)構(gòu)的類似于圖16的一個視圖。圖49的機(jī)構(gòu)可以與例如圖1、9、15、以及16的
容器檢查裝置一起使用。圖50是兩件式注射器筒與魯爾鎖定接頭的一個分解視圖。該注射器筒是可以與圖1-22、26-沘、33-；35、37-39、44、以及53-54的容器處理與檢查裝置一起使用。圖51是圖50的兩件式注射器筒以及魯爾鎖定接頭的一個組裝視圖。圖52是顯示被處理的不具有凸緣或指擋的一個注射器筒的類似于圖42的一個視圖。該注射器筒可以與圖1_19、27、33、35、44-51、以及53巧4的容器處理與檢查裝置一起使用。圖53是用于處理容器的組件的一個示意圖。該組件可以與圖1-3、8-9、12_16、 18-22、洸-28、33-35、以及37-49的裝置一起使用。圖M是圖53的實(shí)施方案的一個圖解視圖。圖55是本發(fā)明的一個實(shí)施方案的類似于圖2的一個圖解視圖，包括一個等離子體網(wǎng)。圖56是氣體遞送管的一個陣列的示意性截面視圖，具有獨(dú)立的氣體供應(yīng)以及用于將氣體遞送管插入容器支架中以及從其移開的一個機(jī)構(gòu)。圖57是實(shí)例19中所測量的放氣質(zhì)量流率的一個曲線圖。圖58顯示了一個線性齒條，其他類似于圖4。圖59顯示了根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實(shí)施方案的一個容器處理系統(tǒng)的一個示意性圖示。圖60顯示了根據(jù)本發(fā)明的另一個示例性實(shí)施方案的一個容器處理系統(tǒng)的一個示意性圖示。圖61顯示了根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實(shí)施方案的一個容器處理系統(tǒng)的一個處理站。圖62顯示了根據(jù)本發(fā)明的一個示例性實(shí)施方案的一個便攜式容器支架。以下參考符號被用于這些附形中
權(quán)利要求
1.一種用于檢查涂覆工藝的產(chǎn)品的方法，其中一種涂層已經(jīng)被施加到基底的表面上以形成涂覆的表面，該方法包括以下步驟(a)提供該產(chǎn)品作為檢查對象；(c)測量至少一種揮發(fā)性物種從該檢查對象到與該涂覆的表面相鄰的氣體空間中的釋放；以及(d)將步驟(c)的結(jié)果與對于在相同測試條件下測量的至少一個參考對象的步驟(C) 的結(jié)果進(jìn)行比較，從而確定該涂層的存在或不存在、和/或該涂層的物理和/或化學(xué)性能。
2.權(quán)利要求1所述的方法，其中被確定的涂層的物理和/或化學(xué)性能選自下組它的阻隔作用、它的潤濕張力和它們的組合，并且優(yōu)選是它的阻隔作用。
3.權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的方法，其中步驟(c)是通過測量與該涂覆的表面相鄰的氣體空間中所述至少一種揮發(fā)性物種的質(zhì)量流率或體積流率來進(jìn)行的。
4.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中(i)所述參考對象是未涂覆的基底；或( )所述參考對象是用參考涂層涂覆的基底。
5.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其包括作為在步驟(a)與(c)之間的另外一個步驟的以下步驟(b)改變與所述涂覆的表面相鄰的氣體空間內(nèi)的氣壓，這樣提供了穿過所述涂覆的表面的壓差并且與沒有所述壓差的情況相比可以實(shí)現(xiàn)所述揮發(fā)性物種更高的質(zhì)量流率或體積流率。
6.權(quán)利要求5所述的方法，其中所述測量是使用介于基底的所述涂覆的表面和真空源之間的測量池來進(jìn)行的。
7.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述揮發(fā)性物種在測試條件下是氣體或蒸氣，優(yōu)選選自由以下各項(xiàng)組成的組空氣、氮?dú)?、氧氣、水蒸氣、揮發(fā)性涂層組分、揮發(fā)性基底組分以及它們的組合，更優(yōu)選是空氣、氮?dú)狻⒀鯕?、水蒸氣或它們的組合。
8.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中在步驟(a)中使所述檢查對象與揮發(fā)性物種接觸，優(yōu)選與選自下組的揮發(fā)性物種接觸空氣、氮?dú)狻⒀鯕?、水蒸氣和它們的組合，該接觸優(yōu)選是為了允許所述揮發(fā)性物種吸收或吸附到該檢查對象的材料上或吸收或吸附入該檢查對象的材料內(nèi)；并且其中在步驟(c)中測量所述揮發(fā)性物種從該檢查對象的隨后釋放。
9.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中在步驟(c)中測量多種不同的揮發(fā)性物種，并且其中優(yōu)選地，在步驟(c)測量中基本上所有的從檢查對象釋放的揮發(fā)性物種。
10.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述基底是聚合物，優(yōu)選是聚酯、聚烯烴、 環(huán)烯烴共聚物、聚碳酸酯或這些聚合物的組合。
11.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述涂層是從有機(jī)硅前體通過PECVD制備的涂層。
12.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中(i)所述涂層是阻隔性涂層，優(yōu)選是SiOx層，其中χ是從大約1. 5至大約2. 9 ；和/或( )所述涂層是改變所述涂覆的基底的潤滑性和/或表面張力的涂層，優(yōu)選是 SiwOxCyHz層，其中w是1，χ是從大約0. 5至2. 4，y是從大約0. 6至大約3，并且ζ是從2至大約9。
13.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述揮發(fā)性物種是從所述涂層釋放的揮發(fā)性物種，優(yōu)選是揮發(fā)性涂層組分，并且其中進(jìn)行所述檢查以確定所述涂層的存在、性能和 /或組成。
14.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的測量，其中所述揮發(fā)性物種是從所述基底釋放的揮發(fā)性物種，并且其中進(jìn)行所述檢查以確定所述涂層的存在和/或所述涂層的阻隔作用。
15.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述基底是容器，該容器具有在涂覆工藝期間在其內(nèi)表面或外表面上被至少部分涂覆的壁，并且其中優(yōu)選地，所述涂層被置于該容器壁的內(nèi)表面上。
16.權(quán)利要求15所述的方法，其中在所述容器的內(nèi)腔和其外部之間建立壓差，以便測量來自所述涂覆的容器壁的所述揮發(fā)性物種的放氣。
17.權(quán)利要求15或16所述的方法，其中所述壓差是通過至少部分抽空在所述容器中的氣體空間而提供的。
18.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中有效區(qū)分所述涂層的存在或不存在和/ 或確定所述涂層的物理和/或化學(xué)性能的條件包括小于一小時、或小于一分鐘、或小于50 秒、或小于40秒、或小于30秒、或小于20秒、或小于15秒、或小于10秒、或小于8秒、或小于6秒、或小于4秒、或小于3秒、或小于2秒、或小于1秒的測試持續(xù)時間。
19.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中通過改變環(huán)境壓力和/或溫度和/或濕度來改變所述揮發(fā)性物種的釋放速率，因此增加所述參考對象與所述檢查對象之間關(guān)于所測量的揮發(fā)性物種的釋放速率和/或種類的差異。
20.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其被用作用于涂覆工藝的在線過程控制，以便鑒定和消除不滿足預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)的涂覆產(chǎn)品或損壞的涂覆產(chǎn)品。
21.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中所述涂覆是在真空條件下進(jìn)行的PECVD 涂覆，并且其中隨后的放氣測量是在沒有破壞用于PECVD的真空的情況下進(jìn)行的。
22.以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其中測量是使用微懸壁梁測量技術(shù)進(jìn)行的。
23.權(quán)利要求22所述的方法，其中測量是通過以下方法進(jìn)行的(i)(a)提供至少一個微懸壁梁，其具有當(dāng)被脫氣的材料存在時移動或改變到不同形狀的性能；(b)在有效引起該微懸壁梁移動或改變到不同形狀的條件下將該微懸壁梁暴露于所述被脫氣的材料；并且(c)檢測該移動或不同的形狀，優(yōu)選地通過從在將該微懸臂梁暴露于脫氣之前和之后改變形狀的該微懸壁梁的一部分反射高能入射束，例如激光束，并且在與該懸臂梁間隔開的一個點(diǎn)處測量產(chǎn)生的反射束的偏轉(zhuǎn)；或者(ii)(a)提供至少一個微懸臂梁，當(dāng)被脫氣的材料存在時該微懸臂梁在不同的頻率共振；(b)在有效引起該微懸臂梁在不同的頻率共振的條件下將該微懸臂梁暴露于所述被脫氣的材料；并且(c)檢測該不同的共振頻率，例如使用諧振傳感器。
24.一種用于進(jìn)行權(quán)利要求20至23中任一項(xiàng)所述的方法的裝置。
全文摘要
在此提供了用于檢查涂覆工藝的產(chǎn)品的一種方法。其中，測量了至少一種揮發(fā)性物種從該涂覆表面到與該涂覆表面鄰近的氣體空間中的釋放并且將該結(jié)果與對于在相同試驗(yàn)條件下測量的至少一個參考對象的結(jié)果進(jìn)行比較。從而可以確定該涂層的存在或缺乏、和/或該涂層的物理和/或化學(xué)特性。該方法對于檢查任何涂覆的物品(例如容器)是有用的。還披露了它的在由有機(jī)硅前體制成的PECVD涂層尤其是阻擋涂層的檢查方面的應(yīng)用。
文檔編號G01N21/952GK102460131SQ201080029201
公開日2012年5月16日 申請日期2010年5月12日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月13日
發(fā)明者J·R·弗里德曼, J·弗古森, T·E·費(fèi)斯克 申請人:Cv控股有限責(zé)任公司