專(zhuān)利名稱(chēng)：基于雙邊緣技術(shù)的四通道f-p標(biāo)準(zhǔn)具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于激光雷達(dá)測(cè)風(fēng)領(lǐng)域，具體用于測(cè)風(fēng)激光雷達(dá)的多普勒頻譜分析， 尤其是改進(jìn)后的基于雙邊緣技術(shù)的四通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具。
背景技術(shù)：
雙邊緣技術(shù)是邊緣技術(shù)的一個(gè)有用改進(jìn)，與單邊緣技術(shù)相比，對(duì)一定的多普勒頻 移，信號(hào)變化增大了一倍，并且測(cè)量精度提高了 1.6倍。目前測(cè)風(fēng)激光雷達(dá)使用四通道的 F-P標(biāo)準(zhǔn)具，在直接探測(cè)技術(shù)中很好地解決了激光頻率和鑒頻器件頻率隨機(jī)漂移的問(wèn)題，在 有效減小系統(tǒng)測(cè)量誤差的同時(shí)，與原有采用的雙通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具相比使得雷達(dá)整體系統(tǒng)結(jié) 構(gòu)和門(mén)控時(shí)序電路都更加簡(jiǎn)單有效。

發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種基于雙邊緣技術(shù)的四通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具，它是采用 雙邊緣多普勒頻率檢測(cè)技術(shù)，將光學(xué)多普勒頻率測(cè)量轉(zhuǎn)化為信號(hào)回波強(qiáng)度的測(cè)量，而標(biāo)準(zhǔn) 具頻譜中心對(duì)激光發(fā)射頻率進(jìn)行主動(dòng)跟蹤鎖頻，使風(fēng)速的測(cè)量不受激光頻率的抖動(dòng)和漂移 的影響。 本實(shí)用新型所述的基于雙邊緣技術(shù)的四通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具，是測(cè)風(fēng)激光雷達(dá)中檢測(cè) 風(fēng)場(chǎng)信號(hào)多普勒頻移的關(guān)鍵部件，它的透過(guò)率是風(fēng)速反演的基礎(chǔ)，頻率的漂移將直接影響 到標(biāo)準(zhǔn)具透過(guò)率曲線的測(cè)量即引起風(fēng)速測(cè)量的誤差，這不僅與標(biāo)準(zhǔn)具的腔長(zhǎng)穩(wěn)定性有關(guān)， 而且還和激光器發(fā)射頻率有關(guān)，為了解決這一難題，將基于雙邊緣技術(shù)的雙通道F-P標(biāo)準(zhǔn) 具的結(jié)構(gòu)改為四通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具結(jié)構(gòu)，在一對(duì)基板上通過(guò)鍍膜或沉積的方式形成兩個(gè)大 小、面積相同的邊緣通道和兩個(gè)參考鎖定通道。兩個(gè)邊緣通道的大小和面積相同但鍍膜厚 度不同，存在一定的腔長(zhǎng)差，使得兩邊緣通道頻譜中心分離形成透過(guò)率曲線的交疊，用來(lái)探 測(cè)不同大氣層的后向散射信號(hào)并進(jìn)行頻譜分析得出多普勒頻移量，兩個(gè)參考鎖定通道的鍍 膜厚度與兩個(gè)邊緣通道的鍍膜厚度分別對(duì)應(yīng)，參考鎖定通道用來(lái)探測(cè)發(fā)射激光頻率，使標(biāo) 準(zhǔn)具的中心頻率時(shí)刻跟蹤鎖定在發(fā)射激光頻率處。 采用本技術(shù)方案的有益效果是系統(tǒng)在工作時(shí)，有單獨(dú)的通道對(duì)激光頻率進(jìn)行實(shí) 時(shí)跟蹤鎖定，使得風(fēng)速測(cè)量誤差小，很好地解決了激光頻率和鑒頻器件頻率隨機(jī)漂移問(wèn)題， 使雷達(dá)整體系統(tǒng)結(jié)構(gòu)和門(mén)控時(shí)序電路更加簡(jiǎn)單。

圖1是基于雙邊緣技術(shù)的四通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具結(jié)構(gòu)示意圖 圖2是圖1的側(cè)視圖； 圖3是圖1的俯視圖； 圖4是圖3中A處的放大圖； 圖5是基于雙邊緣技術(shù)的四通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具鍍膜結(jié)構(gòu)示意圖。[0011] 圖中l(wèi)-邊緣通道標(biāo)準(zhǔn)具、2-另一邊緣通道標(biāo)準(zhǔn)具、3-參考鎖定通道、4-另一參考 鎖定通道、5-基板、6-鍍膜層、7-鍍膜層邊界線兩端與基板的垂直中心線成60度夾角。
具體實(shí)施方式本實(shí)用新型所述的基于雙邊緣技術(shù)的四通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具，具體實(shí)施方式
對(duì)照附圖 作進(jìn)一步的說(shuō)明將基于雙邊緣技術(shù)的雙通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具結(jié)構(gòu)改為基于雙邊緣技術(shù)的四通 道F-P標(biāo)準(zhǔn)具結(jié)構(gòu)，在基板5上通過(guò)鍍膜或沉積的方式形成一層鍍膜層6，基板5上的鍍膜 層6呈"Z"形結(jié)構(gòu)，且鍍膜層邊界線兩端與基板5的垂直中心線成60度夾角7。構(gòu)成了兩 個(gè)大小相同，面積相等的邊緣通道1和2，以及兩個(gè)參考鎖定通道3和4。兩個(gè)邊緣通道1、2 的有效通光口徑相同為26mm但鍍膜的厚度不同，形成A d21 = 10. 02nm的腔長(zhǎng)差，兩個(gè)參考 鎖定通道的有效通光口徑為13mm。參考鎖定通道3的膜厚度與邊緣通道1的膜厚度相同， 參考通道4的膜厚度與邊緣通道2的膜厚度相同。標(biāo)準(zhǔn)具腔長(zhǎng)為21. 429mm，有效精細(xì)度為 25，峰值透過(guò)率> 70%，光學(xué)平面度A/100，工作波長(zhǎng)為355nm。
權(quán)利要求一種基于雙邊緣技術(shù)的四通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具，其特征是將基于雙邊緣技術(shù)的雙通道結(jié)構(gòu)改為四通道結(jié)構(gòu)，由兩個(gè)大小相同，面積相等的邊緣通道(1)和(2)以及兩個(gè)參考鎖定通道(3)和(4)組成四通道結(jié)構(gòu)F-P標(biāo)準(zhǔn)具。
2. 按權(quán)利要求1的基于雙邊緣技術(shù)的四通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具，其特征是邊緣通道(1)與 另一邊緣通道(2)的鍍膜厚度不相同，參考鎖定通道(3)的鍍膜厚度與邊緣通道(1)的鍍 膜厚度相同，參考鎖定通道(4)的鍍膜厚度與邊緣通道(2)的鍍膜厚度相同。
3. 按權(quán)利要求1的基于雙邊緣技術(shù)的四通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具，其特征是基板(5)上的鍍 膜層(6)呈"Z"形結(jié)構(gòu)。
4. 按權(quán)利要求3的基于雙邊緣技術(shù)的四通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具，其特征是"Z"形鍍膜層(6) 的邊界線兩端與基板(5)的垂直中心線成60度夾角(7)。
5. 按權(quán)利要求l的基于雙邊緣技術(shù)的四通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具，其特征是標(biāo)準(zhǔn)具腔長(zhǎng)為 21.429mm，有效精細(xì)度為25，光學(xué)平面度A/100，兩邊緣通道(1)和(2)膜層(5)的厚度形 成腔長(zhǎng)差為10. 02nm。
6. 按權(quán)利要求l的基于雙邊緣技術(shù)的四通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具，其特征是兩邊緣通道(1)和 (2)的有效通光口徑相同為26mm，參考鎖定通道(3)和(4)的有效通光口徑為 13mm。
專(zhuān)利摘要一種基于雙邊緣技術(shù)的四通道F-P標(biāo)準(zhǔn)具，將雙邊緣技術(shù)的雙通道結(jié)構(gòu)改為四通道結(jié)構(gòu)，由兩個(gè)大小相同，面積相等的邊緣通道以及兩個(gè)參考鎖定通道組成的四通道結(jié)構(gòu)F-P標(biāo)準(zhǔn)具。本實(shí)用新型在工作時(shí)，有單獨(dú)的通道對(duì)激光頻率進(jìn)行實(shí)時(shí)跟蹤鎖定，使得風(fēng)速測(cè)量誤差小，很好地解決了激光頻率和鑒頻器件頻率隨機(jī)漂移問(wèn)題，使雷達(dá)整體系統(tǒng)結(jié)構(gòu)和門(mén)控時(shí)序電路更加簡(jiǎn)單。
文檔編號(hào)G01S7/497GK201464649SQ200920125478
公開(kāi)日2010年5月12日 申請(qǐng)日期2009年6月23日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月23日
發(fā)明者盧寬玉, 吉明娟, 張德遠(yuǎn) 申請(qǐng)人:貴州航天凱宏科技有限責(zé)任公司