專利名稱：信息記錄介質(zhì)檢查裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于檢查信息記錄介質(zhì)的外觀的裝置和方法。信息記錄介質(zhì)典型地是諸如光盤的盤。
背景技術(shù)：
在諸如致密盤(Compact DiskCD)和數(shù)字多用途盤(DigitalVersatile DiskDVD)的光盤中，稱作“凹坑”的小型凹部被形成在這些光盤的表面上，并且這些凹坑擁有信息。這些凹坑是由光學(xué)拾取頭光學(xué)地讀取的，以便可以再現(xiàn)聲音和圖像。由于光盤是通過采用這些光盤的母盤制造的，所以對應(yīng)于這些凹坑的結(jié)構(gòu)體也存在于光盤母盤上。
當檢查在注入模具之后制造的光盤母盤和光盤時，檢查裝置利用諸如激光的光照射光盤上，實際上讀取反射光的信號，和基于該實際上讀取的信號，測量記錄操作的完成特性、信號強度、噪聲等等，以便檢查在檢查的光盤上是否存在錯誤凹坑。例如，在日本專利申請No.Hei-9-54952(參考第3和4頁以及圖1)和日本專利申請No.2004-55119(參考第5頁以及圖1)中，公開了常規(guī)的檢查裝置。
常規(guī)的信息記錄介質(zhì)檢查裝置僅僅從光盤母盤和光盤中讀出光信號。因此，這些常規(guī)的檢查裝置不能檢查這些錯誤凹坑具有什么樣的形狀。但是，由于在凹坑的形狀和記錄操作之間存在著緊密的關(guān)系，所以期望的是提供能夠進一步檢查光盤的凹坑形狀的技術(shù)思想。
此外，當開發(fā)具有大存儲容量的盤時，例如，使得光盤具有100GB(十億字節(jié))的存儲容量，凹坑的凹部/凸部的尺寸達到幾十個納米。要求這些凹坑的尺寸以1nm等級的精度制造。因此，當試圖去檢查光盤母盤的形狀和制造的光盤的形狀時，必然要求在1nm精度等級上的檢查性能。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是在以上描述的技術(shù)背景下提出的。本發(fā)明的一個目的是提供一種檢查裝置和檢查方法，不僅能夠檢查是否在信息記錄介質(zhì)中存在缺陷，而且能夠檢查信息記錄介質(zhì)的表面結(jié)構(gòu)，諸如凹坑形狀等等，并且進一步能夠檢查具有大存儲容量的信息記錄介質(zhì)。
本發(fā)明的一個方面是一種信息記錄介質(zhì)檢查裝置，用于檢查信息記錄介質(zhì)的外觀。該信息記錄介質(zhì)檢查裝置包括電子槍，用于利用電子束照射所述信息記錄介質(zhì)的所希望的位置；載物臺，用于保持所述信息記錄介質(zhì)，使得所述信息記錄介質(zhì)可以沿旋轉(zhuǎn)方向和徑向方向移動；檢測器，用于通過利用所述電子束照射所述信息記錄介質(zhì)，來檢測已經(jīng)獲得所述信息記錄介質(zhì)之表面的信息的電子；和圖像產(chǎn)生單元，用于根據(jù)由所述檢測器檢測的所述電子來獲得所述信息記錄介質(zhì)之所述表面的圖像。
本發(fā)明的另一個方面是一種信息記錄介質(zhì)檢查裝置，用于檢查信息記錄介質(zhì)。該信息記錄介質(zhì)檢查裝置包括信息記錄介質(zhì)缺陷檢測單元和信息記錄介質(zhì)缺陷觀察單元，該信息記錄介質(zhì)缺陷檢測單元包括光源，用于利用光照射所述信息記錄介質(zhì)；載物臺，用于旋轉(zhuǎn)所述信息記錄介質(zhì)；光接收設(shè)備，用于從所述信息記錄介質(zhì)接收反射光；和計算裝置，用于通過對所述接收的反射光的信息與設(shè)計數(shù)據(jù)進行比較，來判斷是否在所述信息記錄介質(zhì)上存在凹坑的缺陷，和用于產(chǎn)生所述凹坑的缺陷位置數(shù)據(jù)；所述信息記錄介質(zhì)缺陷觀察單元包括電子槍，用于利用電子束照射包含由所述缺陷位置數(shù)據(jù)表示的所述缺陷位置的區(qū)域；檢測器，用于檢測從利用所述電子束照射的所述信息記錄介質(zhì)之所述區(qū)域產(chǎn)生的電子；和圖像產(chǎn)生單元，用于根據(jù)由所述檢測器檢測的所述電子來產(chǎn)生所述信息記錄介質(zhì)之表面的圖像。
本發(fā)明的另一個方面是一種信息記錄介質(zhì)記錄和檢查裝置，用于利用電子束照射信息記錄介質(zhì)的表面以便在該信息記錄介質(zhì)上記錄信息以及用于檢查該記錄信息的異常狀態(tài)。該信息記錄介質(zhì)記錄和檢查裝置包括第一電子槍，用于利用電子束照射所述信息記錄介質(zhì)以便在其上記錄信息；載物臺，用于在其上安裝所述信息記錄介質(zhì)，使得所述信息記錄介質(zhì)可以沿旋轉(zhuǎn)方向和徑向方向移動；第二電子槍，用于利用電子束照射所述信息記錄介質(zhì)，以便讀取記錄在所述信息記錄介質(zhì)上的所述信息；檢測器，用于檢測從所述信息記錄介質(zhì)發(fā)射的電子；和缺陷計算操作單元，用于從由所述檢測器檢測的所述電子中讀取記錄在所述信息記錄介質(zhì)上的所述信息，并且判斷是否存在所述信息記錄介質(zhì)的異常狀態(tài)。
本發(fā)明的另一個方面是一種信息記錄介質(zhì)檢查方法，用于檢查信息記錄介質(zhì)的外觀。該檢查方法包括利用電子束照射所述信息記錄介質(zhì)的所希望的位置；通過利用電子束照射所述信息記錄介質(zhì)，來檢測已經(jīng)獲得所述信息記錄介質(zhì)之表面的信息的電子；和從所述檢測的電子中獲得所述信息記錄介質(zhì)之表面的圖像。
如之后描述的，存在本發(fā)明的其它方面。因此，本發(fā)明的這個綜述意欲提供本發(fā)明的一些方面，并且不意欲限制在此處描述和聲明的本發(fā)明的范圍。


附圖被結(jié)合進并且構(gòu)成本說明書的一部分。附圖示范了本發(fā)明的某些方面，并且與說明一起用作說明本發(fā)明的某些原理。
圖1是用于示意性地示出根據(jù)本發(fā)明第一實施例的信息記錄介質(zhì)檢查裝置的整體結(jié)構(gòu)的示意圖；
圖2是用于圖示性地表示圖1所示的檢查裝置的部分結(jié)構(gòu)的示意圖；圖3是用于說明性地表示根據(jù)本發(fā)明第一實施例的檢查裝置的配置的示意圖；圖4是用于說明性地示出信息記錄介質(zhì)的平面圖；圖5是用于說明性地示出在圖1的檢查裝置中采用的檢測器的結(jié)構(gòu)例子的示意圖；圖6是用于說明性地示出在圖1的檢查裝置中采用的檢測器的另一個結(jié)構(gòu)例子的示意圖；圖7是用于說明性地示出在圖1的檢查裝置中采用的檢測器的另一個結(jié)構(gòu)例子的示意圖；圖8是用于說明性地表示根據(jù)本發(fā)明第二實施例的檢查裝置的內(nèi)部配置的示意圖，以及圖9是用于說明性地表示根據(jù)本發(fā)明第三個實施例的記錄和檢查裝置的內(nèi)部配置的示意圖。
具體實施例方式
下面的詳細說明參考了附圖。雖然該說明包括示范性的實施方式，但是其它的實施方式是可能的，并且不脫離本發(fā)明的精神和范圍，可以對描述的實施方式進行改變。下面的詳細說明和附圖不限制本發(fā)明。相反，本發(fā)明的范圍是由所附的權(quán)利要求限定的。
本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)檢查裝置檢查信息記錄介質(zhì)的外觀。該檢查裝置包括電子槍，用于利用電子束照射所述信息記錄介質(zhì)的所希望的位置；載物臺，用于保持所述信息記錄介質(zhì)，使得所述信息記錄介質(zhì)可以沿旋轉(zhuǎn)方向和徑向方向移動；檢測器，用于通過利用電子束照射所述信息記錄介質(zhì)，來檢測已經(jīng)獲得所述信息記錄介質(zhì)之表面的信息的電子；和圖像產(chǎn)生單元，用于根據(jù)由所述檢測器檢測的所述電子來獲得所述信息記錄介質(zhì)之所述表面的圖像。
根據(jù)該結(jié)構(gòu)，該檢查裝置發(fā)射電子束到所述信息記錄介質(zhì)上并且利用電子束照射所述信息記錄介質(zhì)，檢測已經(jīng)獲得所述信息記錄介質(zhì)之表面的信息的電子，以及獲得所述信息記錄介質(zhì)之表面的圖像。因此，可以通過該檢查裝置來檢查所述信息記錄介質(zhì)的表面結(jié)構(gòu)。此外，由于采用電子束，可以檢查非常細微的形狀，并且由此該檢查裝置可以檢查具有記錄目的的結(jié)構(gòu)體的信息記錄介質(zhì)，器中所述記錄目的的結(jié)構(gòu)體以非常細微的形狀制造，以便獲得高的存儲容量。
該信息記錄介質(zhì)檢查裝置進一步可以設(shè)置有比較單元，用于對所述圖像進行互相比較。由于對所述圖像進行互相比較，所以可以檢測缺陷。
另外，該信息記錄介質(zhì)檢查裝置可以進一步設(shè)置有判斷/計算單元，用于判斷與在所述信息記錄介質(zhì)上形成的凹坑的形狀相關(guān)的值是否在預(yù)定的范圍內(nèi)，和用于判斷是否存在異常狀態(tài)。因此，可以機械地判斷是否存在異常狀態(tài)。
該檢測器可以在其檢測表面上擁有多個像素陣列，并且該信息記錄介質(zhì)之表面的圖像可以被投影到該檢測表面上。因此，可以合適地獲得該信息記錄介質(zhì)的投影圖像的信息。
此外，該檢測器可以在該檢測表面上具有二維像素陣列，并且該檢測器可以擁有能夠?qū)λ鲂畔⒂涗浗橘|(zhì)之表面的圖像信號進行積分的功能，當所述載物臺移動時，該信息記錄介質(zhì)之表面的圖像信號被投射到該檢測表面上，其中對所述二維像素陣列的多行的信號進行積分，作為積分單位(對線信號進行積分)。因此，可以獲得具有大的S/N比的適合的檢查數(shù)據(jù)。
該電子槍可以發(fā)射具有一個面積的電子束，該電子束能夠照射一個區(qū)域，該區(qū)域包含在樣本上對應(yīng)于所述檢測器的成像區(qū)域的區(qū)域。因此，執(zhí)行該圖像投影，以便可以獲得該信息記錄介質(zhì)之表面的合適圖像。
該信息記錄介質(zhì)檢查裝置可以設(shè)置有缺陷檢測單元，用于當光被發(fā)射到該信息記錄介質(zhì)上時，從產(chǎn)生的反射光中獲得在該信息記錄介質(zhì)上的凹坑的缺陷，以便產(chǎn)生表示該缺陷的位置的缺陷位置數(shù)據(jù)。該電子槍可以利用電子束照射由通過該缺陷檢測單元產(chǎn)生的該缺陷位置數(shù)據(jù)表示的該缺陷位置。因此，通過在該缺陷檢測單元上采用光，可以迅速地發(fā)現(xiàn)該缺陷。然后，通過電子束的照射，可以以高精度獲得發(fā)現(xiàn)的缺陷的圖像。因此，可以迅速地以高精度執(zhí)行缺陷的形狀觀察。
該信息記錄介質(zhì)檢查裝置可以設(shè)置有記錄目的的電子槍，用于利用電子束照射該信息記錄介質(zhì)，以便在其上記錄信息。該檢查目的的電子束的照射位置可以設(shè)置在通過該記錄目的的電子槍的該記錄目的的電子束的照射位置的后面或者隨后的位置上。因此，該信息可以通過采用該記錄目的的電子槍被記錄在安裝在載物臺上的該圖像記錄介質(zhì)上，以及可以通過采用該檢查目的的電子槍的該電子束的照射來檢查該信息記錄介質(zhì)。因此，該信息記錄介質(zhì)檢查裝置可以檢查是否僅僅在該記錄操作之后存在該缺陷，以便可以改善生產(chǎn)率。
根據(jù)另一個方面，該信息記錄介質(zhì)檢查裝置設(shè)置有信息記錄介質(zhì)缺陷檢測單元和信息記錄介質(zhì)缺陷觀察單元。該信息記錄介質(zhì)缺陷檢測單元包括光源，用于利用光照射該信息記錄介質(zhì)；載物臺，用于旋轉(zhuǎn)該信息記錄介質(zhì)；光接收設(shè)備，用于從該信息記錄介質(zhì)接收反射光；和計算裝置，用于通過比較接收的反射光的信息與設(shè)計數(shù)據(jù)，來判斷是否在該信息記錄介質(zhì)上存在凹坑的缺陷，和用于產(chǎn)生該凹坑的缺陷位置數(shù)據(jù)。該信息記錄介質(zhì)缺陷觀察單元包括電子槍，用于利用電子束照射包含由該缺陷位置數(shù)據(jù)表示的該缺陷位置的區(qū)域；檢測器，用于檢測從利用電子束照射的該信息記錄介質(zhì)的該區(qū)域產(chǎn)生的電子和圖像產(chǎn)生單元，用于根據(jù)由該檢測器檢測的電子來產(chǎn)生該信息記錄介質(zhì)之表面的圖像?？梢院线m地提供照射位置控制單元，以便利用該電子束照射該缺陷位置。該照射位置控制單元可以是對準控制單元，用于基于通過該信息記錄介質(zhì)缺陷檢測單元產(chǎn)生的該缺陷位置數(shù)據(jù)，執(zhí)行該信息記錄介質(zhì)的位置對準。此外，該照射位置控制單元可以是用于改變電子束的方向的偏轉(zhuǎn)控制單元。在這個方面，通過在該缺陷檢測單元中采用光，可以迅速地發(fā)現(xiàn)該缺陷。然后，通過該電子束的照射，可以以高精度獲得發(fā)現(xiàn)的缺陷的圖像。因此，可以迅速地以高精度執(zhí)行缺陷的形狀觀察。
另一個方面是提供一種信息記錄介質(zhì)記錄和檢查裝置，用于利用電子束照射信息記錄介質(zhì)的表面上以便在其上記錄信息和用于檢查該記錄信息的異常狀態(tài)。這個裝置包括第一電子槍，用于利用電子束照射該信息記錄介質(zhì)以便在該信息記錄介質(zhì)上記錄信息；載物臺，用于在其上安裝該信息記錄介質(zhì)，使得該信息記錄介質(zhì)可以沿著旋轉(zhuǎn)方向和徑向方向移動；第二電子槍，用于利用電子束照射該信息記錄介質(zhì)，以便讀取記錄在該信息記錄介質(zhì)上的該信息；檢測器，用于檢測從該信息記錄介質(zhì)發(fā)射的電子；和缺陷計算操作單元，用于從由該檢測器檢測的該電子中讀取記錄在該信息記錄介質(zhì)上的該信息，并且判斷是否存在該信息記錄介質(zhì)的異常狀態(tài)。在這個方面，該信息通過采用該第一電子槍被記錄在安裝在該載物臺上的該信息記錄介質(zhì)上，以及通過采用第二電子槍的該電子束的照射來檢查該信息記錄介質(zhì)。該信息記錄介質(zhì)記錄和檢查裝置可以檢查在該信息被記錄之后是否存在該缺陷，并且可以迅速地執(zhí)行該檢查。因此，可以改善生產(chǎn)率。
另一個方面是提供一種用于檢查信息記錄介質(zhì)的外觀的信息記錄介質(zhì)檢查方法。該檢查方法包括；利用電子束照射該信息記錄介質(zhì)的所希望的位置；通過利用電子束照射該信息記錄介質(zhì)，來檢測已經(jīng)獲得該信息記錄介質(zhì)之表面的信息的電子；和從該檢測的電子中獲得該信息記錄介質(zhì)之表面的圖像。根據(jù)這個方面，可以獲得以上描述的本發(fā)明的優(yōu)點。
如先前說明的，根據(jù)本發(fā)明，作為主體，可以觀察和檢查該表面結(jié)構(gòu)，諸如凹坑形狀，以及可以合適地觀察和檢查具有大存儲容量的信息記錄介質(zhì)的非常細微的記錄結(jié)構(gòu)。
此外，由于執(zhí)行圖像投影型的電子束檢查，所以可以顯著地降低用于觀察和檢查操作所需要的時間周期?？梢詫⒃摍z查裝置和該檢查步驟組合在信息記錄介質(zhì)的生產(chǎn)線中。
(第一實施例)現(xiàn)在參考附圖，將詳細描述本發(fā)明的一個實施例。在本實施例中，信息記錄介質(zhì)檢查裝置是盤檢查裝置，以及信息記錄介質(zhì)是光盤。應(yīng)當注意到本發(fā)明不僅僅局限于這個實施例。
圖1是用于示出根據(jù)第一實施例的盤檢查裝置1的整體結(jié)構(gòu)的平面圖。盤檢查裝置1包括盒座2、微型環(huán)境裝置3、負載鎖定室4和檢查室5。
盒座2保持用于安裝盤的盒子。通過傳送機器人(未示出)從盒子中取出盤，然后，將盤傳送到微型環(huán)境裝置3的微型環(huán)境室。
微型環(huán)境裝置3用作將盤維持在清潔空氣內(nèi)。在微型環(huán)境裝置3中，提供通過采用HEPA或者ULPA清潔的空氣。如圖2所示，微型環(huán)境裝置3被設(shè)置成使得導(dǎo)致空氣向下流動。在其它方面，微型環(huán)境裝置3也可以被設(shè)置成使得空氣在微型環(huán)境室內(nèi)循環(huán)。此外，微型環(huán)境裝置3可以被設(shè)置成使得提供例如惰性氣體的清潔氣體。待檢查的盤通過傳送機器人從微型環(huán)境室傳送到負載鎖定室4，然后，將待檢測的盤安裝在負載鎖定室4中采用的安裝基座上。
負載鎖定室4被設(shè)置為使得將檢查室5的壓力保持在合適的壓力值。檢查室5的內(nèi)部空間是高度真空，而在檢查室5外部的檢查裝置處于大氣壓力下。不希望在緊接著打開檢查室5的門之后空氣立即滲入檢查室5。為了避免在緊接著打開檢查室5的門之后空氣立即滲入檢查室5，負載鎖定室4被設(shè)置作為能夠起緩沖功能作用的室。一旦待檢查的光盤傳送給負載鎖定室4，則然后關(guān)閉負載鎖定室的門。此后，打開在檢查室5和負載鎖定室之間設(shè)置的門，然后，將光盤傳送給檢查室5。由于實施了以上說明的結(jié)構(gòu)和操作，所以可以避免當待檢查的盤被傳送進檢查室5中時，檢查室5的內(nèi)部空間壓力快速地升高。
如將在下文中說明的那樣，根據(jù)本實施例，檢查室5設(shè)置有一個檢查裝置10，它利用電子束。然后，在以上說明的配置中，作為待檢查的對象的光盤經(jīng)由微型環(huán)境裝置3和負載鎖定室4順序地從盒座2傳送到檢查室5，從而在檢查室5中檢查光盤。
圖3圖示性地示出在圖1的檢查室5中設(shè)置的檢查裝置10的配置。檢查裝置10設(shè)置有電子槍12、主系統(tǒng)透鏡14、維恩(Wien)濾波器16、載物臺18、輔助系統(tǒng)透鏡20、檢測器22和圖像產(chǎn)生設(shè)備24。
接下來，說明這些結(jié)構(gòu)和功能。電子槍12沿著預(yù)定的方向發(fā)射電子。電子槍12可以是場致發(fā)射型電子槍，或者是熱電子發(fā)射型電子槍。待發(fā)射的電子束可以是窄電子束，其直徑被變窄為單個像素，以便在SEM(電子掃描顯微鏡)中使用。此外，電子槍12可以產(chǎn)生具有特定射束面(certain area)的電子束，以便在圖像投影型結(jié)構(gòu)中使用。至于后面提到的電子束，多個像素被包含在其射束直徑中，并且該電子束擁有對應(yīng)于多個像素的大小。
主系統(tǒng)透鏡14是用于聚焦電子束的透鏡。通過改變和調(diào)節(jié)施加于主系統(tǒng)透鏡14的電壓的設(shè)置條件來實現(xiàn)電子束的聚焦。
Wien濾波器16在一個平面內(nèi)的垂直方向產(chǎn)生電場和磁場以施加洛倫茲力給電子束，這樣，以不同的偏轉(zhuǎn)角來偏轉(zhuǎn)進入的主電子束和反射的輔助電子束，使得通過Wien濾波器16將主電子束和輔助電子束彼此分離。設(shè)置通常的Wien濾波器，使得導(dǎo)致主電子束沿著直線穿透，并且彎曲輔助電子束的軌道。在其他方式中，可以設(shè)置通常的Wien濾波器，使得彎曲主電子束的軌道，其被沿著傾斜的方向朝著目標的方向發(fā)射，以指向一個樣本，并且導(dǎo)致反射的輔助電子束沿著直線傳送。在圖3的例子中，采用提到的后一種結(jié)構(gòu)。因此，Wien濾波器16被設(shè)置為使得導(dǎo)致主電子束被偏轉(zhuǎn)，并且導(dǎo)致輔助電子束沿著直線穿透。
載物臺18設(shè)置有安裝基座，在其上安裝作為樣本的光盤，并且被設(shè)置為使得能夠沿旋轉(zhuǎn)方向和徑向方向移動光盤。如在圖4中示意性示出的，沿著旋轉(zhuǎn)方向順序地設(shè)置光盤的信息。因此，本實施例的檢查裝置10沿著在光盤上的數(shù)據(jù)移動載物臺18，也就是說，沿著光盤的旋轉(zhuǎn)方向移動載物臺18。當移動載物臺18時，將電子束發(fā)射到盤上并且利用電子束照射光盤，以及獲得圖像。此時，旋轉(zhuǎn)載物臺18，同時將光盤的中心設(shè)置為軸。此外，沿著光盤的徑向方向移動載物臺18。從而，可以檢查沿著徑向方向的不同位置。
設(shè)置驅(qū)動電路30和控制電路32用來驅(qū)動載物臺18。驅(qū)動電路30驅(qū)動設(shè)置在載物臺18上的致動器，以便旋轉(zhuǎn)其上安裝有光盤的載物臺18，以及沿著光盤的徑向方向移動載物臺18?？刂齐娐?2傳送控制信號給驅(qū)動電路30，以便控制載物臺18的操作，使得控制電路32控制光盤的旋轉(zhuǎn)數(shù)、位置及其他參數(shù)。具有驅(qū)動電路30的控制電路32用作對準控制設(shè)備，其將載物臺18和光盤設(shè)置到預(yù)定位置。
檢測器22通過利用電子束照射光盤來檢測從光盤發(fā)射的電子。在將主電子束變窄為在SEM(電子掃描顯微鏡)中采用的光束的情況下，檢測器22由二極管檢測器等等構(gòu)成，并且根據(jù)或者對應(yīng)于檢測的電子量輸出電信號。
另一方面，在具有特定射束面的面積光束被采用作為主光束的情況下，如在圖5和圖6所示的那樣，諸如CCD或者TDI-CCD的成像單元被合適地采用作為檢測器22。在這種情況下，通過透鏡20或者輔助光學(xué)系統(tǒng)的偏轉(zhuǎn)器調(diào)節(jié)電子束的路徑，并且執(zhí)行聚焦操作，使得盤表面的圖像被聚焦在檢測器22上。已知兩種不同類型的檢測器作為使用成像單元的檢測器22。在一種類型的檢測器中，在光檢測表面上接收光，然后，接收的光被轉(zhuǎn)換為電信號(這種類型的檢測器是常規(guī)公知的)。在另一種類型的檢測器中，由檢測表面直接接收電子，然后，根據(jù)接收的電子來輸出電信號(已知這種類型的檢測器為所謂的“EB-CCD”、或者“EB-TDI-CCD”等等)。圖7表示EB-TDI類型檢測器的結(jié)構(gòu)例子。在這個實施例中，可以應(yīng)用任何一種類型的檢測器。在檢測器通過光接收表面(CCD、或者TDI-CCD)等等接收光的情況下，從光盤發(fā)出的電子被MCP放大，并且此外，通過閃爍器將電子轉(zhuǎn)換為光。這樣被轉(zhuǎn)換為光的光信號借助于使用成像單元被聚焦到檢測器的檢測表面上。
TDI(時間延遲積分)是一種積分類型線傳感器，并且在檢測表面上具有二維像素陣列。當相對于線傳感器，相對地移動樣本(介質(zhì))時，樣本的投影圖像也在檢測表面上移動。TDI傳感器擁有以二維像素陣列的線單位來對圖像信號進行積分的功能，也就是說，通過TDI，對所述二維像素陣列的多行的信號進行積分，作為積分單位(對線信號進行積分)。其中，對樣本(介質(zhì))的相應(yīng)的線圖像進行積分。更具體地說，當對應(yīng)于在樣本上的一行的圖像在檢測表面上移動時，TDI傳感器順序地獲得鄰近像素行的信號，并且和圖像的移動一起積分獲得的線信號。從而，當相同部分(線部分)的圖像穿過或者橫切檢測表面時，捕獲這個線部分的圖像，然后，連續(xù)地獲得和積分該相同線部分的圖像的信號。因此，積分樣本的圖像。
將從檢測器22輸出的電信號提供給圖像產(chǎn)生設(shè)備24。這個技術(shù)點類似于執(zhí)行以上說明的掃描類型檢測的情況，并且也類似于執(zhí)行圖像投影類型檢測的情況。從檢測器22導(dǎo)出的電信號是表示檢測結(jié)果的信號，并且擁有表示光盤之表面的圖像的信息。圖像產(chǎn)生設(shè)備24設(shè)置有顯示器。圖像產(chǎn)生設(shè)備24從檢測器22檢測的信號中產(chǎn)生光盤之表面的圖像，然后，在該顯示器上顯示產(chǎn)生的圖像。此外，圖像產(chǎn)生設(shè)備24將光盤之表面的圖像的數(shù)據(jù)提供給控制計算機40。
控制計算機40是用于控制檢查裝置10的計算機，并且執(zhí)行用于處理光盤的圖像信息以及判斷是否存在一個異常狀態(tài)的處理操作。通過由控制計算機40執(zhí)行判斷程序，來執(zhí)行用于判斷是否存在異常狀態(tài)的處理操作。此外，可以提供能夠?qū)崿F(xiàn)判斷處理操作的電路。控制計算機40可以被以整體方式與控制電路32一起設(shè)置。
如先前說明的，在這個實施例中，由于在盤檢查期間光盤是由載物臺18旋轉(zhuǎn)的，所以沿著在光盤上的信號方向(即，旋轉(zhuǎn)方向)，以同心圓形或者螺旋形獲得圖像。如果圖像信號被在異常狀態(tài)下改變，則控制計算機40可以掌握圖像數(shù)據(jù)串被在異常狀態(tài)下改變，因此，可以迅速地發(fā)現(xiàn)光盤的異常狀態(tài)。一般而言，對此，由于在光盤上的信息例如表示語音和/或圖像，在信號中的變化寬度必須在預(yù)定的范圍之內(nèi)。因此，事先提供一個特定參數(shù)的變化寬度的閾值。當檢測到變化寬度超過該閾值時，控制計算機40可以判斷在光盤上存在一個異常狀態(tài)?？梢愿鶕?jù)數(shù)據(jù)源的性質(zhì)確定一個恰當?shù)姆秶?，作為該閾值。此外，參?shù)的主體例如是凹坑的凹槽的尺寸(例如，凹坑凹槽的長度和寬度)?？梢圆捎妹芏?，作為一個判斷主體的參數(shù)。在這種情況下，根據(jù)試驗值，獲得凹槽深度和圖像的暗/亮之間的關(guān)系，然后，該密度的寬度可以被設(shè)置為閾值。
設(shè)置控制計算機40，使得執(zhí)行以上描述的判斷處理操作。例如，在用于判斷主體的參數(shù)是凹槽寬度的情況下，控制計算機40通過相對于光盤的圖像來執(zhí)行圖像處理操作獲得光盤上的凹槽寬度?？刂朴嬎銠C40往其中存儲一個作為該閾值的正常范圍的凹槽寬度。然后，控制計算機40將從圖像中獲得的凹槽寬度與該閾值比較，以判斷是否存在一個異常狀態(tài)。
此外，控制計算機40可以用作比較單元，用于比較設(shè)計數(shù)據(jù)與圖像，并且通過這個比較操作來判斷是否存在一個異常狀態(tài)。在這種情況下，控制計算機40往其中存儲對應(yīng)于該設(shè)計數(shù)據(jù)的信息。將該存儲的信息與待檢查的光盤的圖像進行比較，以便控制計算機40可以基于存儲的信息和該光盤的圖像之間的差別，來判斷是否存在異常狀態(tài)。
此外，控制計算機40可以用作比較單元，用于比較一個圖像與另一個圖像，并且通過這個圖像比較操作來判斷是否存在一個異常狀態(tài)。在這種情況下，控制計算機40往其中例如存儲一個正常光盤的圖像。然后，將該存儲的圖像與待檢查的光盤的圖像進行比較，以便控制計算機40可以基于該存儲的圖像和這個光盤的圖像之間的差別分量，來判斷是否存在一個異常狀態(tài)。在該差別圖像分量大于或者等于一個預(yù)定的水平的情況下，控制計算機40判斷存在異常狀態(tài)。
在以上描述的判斷處理操作中包括比較和計算的處理可以根據(jù)需要通過比較電路來執(zhí)行，并且也可以通過使用處理器構(gòu)造計算設(shè)備來執(zhí)行。如先前說明的，以上描述的比較操作可以通過在該控制計算機40中執(zhí)行軟件比較操作來執(zhí)行。
在上述說明中，描述了根據(jù)該實施例的檢查裝置10的相應(yīng)結(jié)構(gòu)?，F(xiàn)在將描述這個檢查裝置10的操作。光盤的定位是通過載物臺18來實現(xiàn)的。當光盤被旋轉(zhuǎn)時，從電子槍12中發(fā)射電子束。電子束通過Wien濾波器16被彎曲，并且利用電子束照射光盤的希望或者期望的位置。當發(fā)射電子束并且利用電子束照射盤時，從光盤發(fā)出諸如反射電子的電子。這些發(fā)射的電子擁有光盤之表面的信息。這些電子穿過Wien濾波器16和輔助透鏡系統(tǒng)20，并且由檢測器22檢測。然后，將電信號從檢測器22輸出給圖像產(chǎn)生設(shè)備24，然后，這個圖像產(chǎn)生設(shè)備24產(chǎn)生光盤的此表面的圖像。產(chǎn)生的圖像被顯示在顯示器上。由于顯示了光盤之表面的圖像，所以可以看到形成在光盤上的凹坑的形狀等等。此外，將光盤之表面的圖像提供給控制計算機40。控制計算機40處理圖像信息，以根據(jù)以上描述的方式，基于圖像信息來機械地判斷是否存在異常狀態(tài)。將判斷結(jié)果與光盤之表面的圖像一起從監(jiān)視器等等輸出。
說明本發(fā)明的優(yōu)選實施例。根據(jù)這個實施例，該檢查裝置利用電子束照射信息記錄介質(zhì)，檢測已經(jīng)獲得信息記錄介質(zhì)之表面的信息的電子，并且獲得信息記錄介質(zhì)之表面的圖像。因此，可以檢查信息記錄介質(zhì)之表面的結(jié)構(gòu)。此外，由于采用電子束，所以可以檢查非常細微的形狀，并且此外，該檢查裝置可以檢查具有記錄目的的結(jié)構(gòu)體的信息記錄介質(zhì)，其中這些記錄目的的結(jié)構(gòu)體被以非常細微的形狀制造，以便實現(xiàn)可以檢查高的存儲容量。
此外，如先前說明的，這個實施例的檢查裝置可以進一步設(shè)置有比較單元，用于對所述圖像進行相互比較。由于對所述圖像進行互相比較，所以可以機械地檢測缺陷。
此外，如先前說明的，這個實施例的檢查裝置可以進一步設(shè)置有判斷計算單元，用于根據(jù)是否與凹坑形狀相關(guān)的值存在于預(yù)定的范圍內(nèi)，來判斷是否存在異常狀態(tài)。因此，判斷計算單元可以機械地判斷是否存在異常狀態(tài)。
如先前說明的，這個實施例中，該檢測器可以在該檢測表面上擁有多個像素陣列，并且該信息記錄介質(zhì)的表面圖像可以被投影到該檢測表面上。因此，可以合適地獲得信息記錄介質(zhì)的投影圖像的信息。此外，通過執(zhí)行該圖像投影，可以縮短觀察時間和檢查時間。這個特點被使用，并且然后該檢查裝置和步驟可以組合在生產(chǎn)線中，從而可以改善生產(chǎn)率。
此外，在這個實施例中，如先前說明的，該檢測器可以在檢測表面上具有二維像素陣列。當該載物臺移動時，這個檢測器可以擁有能夠?qū)ν队霸跈z測表面上的圖像信號進行積分的功能?？梢栽谶@個二維的像素陣列的線單元中對所述圖像的信號進行積分，也就是說，可以對該二維的像素陣列的線信號進行積分，作為積分單位(對線信號進行積分)。典型地，這個檢測器可以是以上的TDI傳感器。由于提供了上述的檢測器，所以可以獲得具有大的S/N比的適當?shù)臋z查數(shù)據(jù)，以便可以改善檢查精度。
(第二實施例)下面，將描述本發(fā)明的第二實施例。圖8示意性地示出這個實施例的檢查裝置50。檢查裝置50設(shè)置有一個作為整體配置的缺陷檢測單元52和缺陷觀察(查看)單元54。缺陷檢測單元52被構(gòu)成為使得通過采用光檢測一個在光盤上的缺陷。在這個實施例中，由缺陷檢測單元52采用激光。缺陷觀察單元54被構(gòu)成為使得通過使用缺陷觀察目的的電子束觀察和查看缺陷。該缺陷觀察單元54設(shè)置有以上描述的根據(jù)第一實施例的檢查裝置的配置。缺陷觀察單元54被構(gòu)成為使得觀察由缺陷檢測單元52檢測的缺陷。隨后，現(xiàn)在將說明圖8所示的相應(yīng)配置。
在圖8中，用于保持光盤的載物臺56被支撐在主軸58上，并且主軸58被支撐在滑動器60上。如先前在第一實施例中說明的，主軸58旋轉(zhuǎn)載物臺56。此外，載物臺56被設(shè)置為使得能夠與光盤一起沿著徑向方向移動。滑動器60設(shè)置有這樣一個機構(gòu)，其滑動載物臺56并且在缺陷檢測單元52和缺陷觀察單元54之間移動這個載物臺56。主軸58和滑動器60是由主軸/滑動器驅(qū)動電路62驅(qū)動的。
接下來，現(xiàn)在將說明缺陷檢測單元52的結(jié)構(gòu)。缺陷檢測單元52設(shè)置有激光源70、半反射鏡72、檢測器74和控制計算機76。激光源70利用激光照射待檢查的光盤。半反射鏡72改變激光的方向。檢測器74是由光接收設(shè)備構(gòu)成的，并且檢測從光盤反射的光。來自檢測器74的檢測結(jié)果被提供給控制計算機76。控制計算機76用作基于由檢測器74檢測的信息指定缺陷位置的計算單元。此外，控制計算機76用作在其中存儲指定的缺陷位置的數(shù)據(jù)的存儲器。此外，控制計算機76用作將缺陷位置的數(shù)據(jù)傳送給缺陷觀察單元54的輸出單元。
激光源70沿著大體上平行于光盤的方向發(fā)出激光光束。半反射鏡72被設(shè)置為使得接收從激光源70發(fā)出的激光，并且以大約90度的角度改變激光的方向，以便在垂直方向上將激光輸入進光盤。檢測器74恰好放置在光盤的上方，并且這個檢測器74被設(shè)置為使得接收和檢測從光盤反射并且穿過半反射鏡72的激光。
發(fā)射/接收激光的結(jié)構(gòu)并不局限于在本發(fā)明技術(shù)范圍內(nèi)的上述說明的結(jié)構(gòu)?？梢圆捎闷渌慕Y(jié)構(gòu)，只要檢測器可以接收激光。例如，可以提供一種激光發(fā)射/接收結(jié)構(gòu)，其中激光被沿著傾斜的方向輸入到光盤，然后，激光被從這個光盤沿著傾斜的方向反射。例如，激光源可以恰好提供在光盤上，并且檢測器的位置可以沿著橫向移動，以及反射光可以通過采用反射器被引導(dǎo)給檢測器。
當光盤正在旋轉(zhuǎn)時，執(zhí)行激光的照射操作。光盤的旋轉(zhuǎn)速度和位置是由控制計算機76調(diào)整的。控制計算機76發(fā)送控制信號給主軸/滑動器驅(qū)動電路62，以控制滑動器60和主軸58，從而控制載物臺56和光盤的位置和旋轉(zhuǎn)。執(zhí)行以上說明的旋轉(zhuǎn)和盤位置控制操作。根據(jù)光盤30上的數(shù)據(jù)記錄順序，以圓形或者螺旋形執(zhí)行激光的照射，以便讀出信息。
此外，檢測器74是通過一個光接收單元來配置的?？梢詰?yīng)用能夠測量光強度的各類光接收單元，作為這個光接收單元。例如，最好是采用一個光電檢測器被組合在其中的光接收單元。
如先前說明的，控制計算機6擁有一個能夠從來自檢測器74檢測的反射光信息中獲得缺陷位置的功能?？刂朴嬎銠C76已經(jīng)事先在其中存儲了一個對應(yīng)于設(shè)計數(shù)據(jù)的信號模式。這個存儲的信號模式可與由檢測器74檢測的信號進行比較，以便檢測一個錯誤(缺陷)。在這種情況下，當在設(shè)計數(shù)據(jù)和檢測的值之間的差別大于或者等于一個預(yù)定的水平時，控制計算機76判斷存在一個錯誤。當發(fā)現(xiàn)錯誤時，獲得錯誤凹坑的位置，以存儲在其中。
如以上說明的，控制計算機76將包含在反射光中的信息與設(shè)計數(shù)據(jù)進行比較，以便判斷是否存在凹坑缺陷，并且獲得缺陷凹坑的位置，然后，將缺陷位置數(shù)據(jù)存儲進存儲器中。應(yīng)該明白，為了執(zhí)行以上描述的比較計算，可以分別地提供比較計算電路。
此外，控制計算機76被設(shè)置為使得采用缺陷位置數(shù)據(jù)(錯誤凹坑位置信息)，并且發(fā)送指令給主軸/滑動器驅(qū)動電路62，從而控制滑動器60和主軸58，并且使載物臺56移動?？刂朴嬎銠C76移動具有光盤的載物臺56，使得通過缺陷觀察單元54，利用電子束照射錯誤凹坑。在這里，控制計算機76用作基于缺陷位置數(shù)據(jù)來定位該光盤的對準控制設(shè)備，從而用作缺陷觀察單元的一部分。作為一個修改，可以在缺陷觀察單元側(cè)上在電子束光學(xué)系統(tǒng)中提供一個偏轉(zhuǎn)設(shè)備，并且偏轉(zhuǎn)該電子束，以便照射該缺陷位置。
如先前說明的，在這個實施例中，提供了可以在激光源和電子束源兩者之間移動的載物臺56，以便利用激光束和電子束照射將要檢查的光盤。如在這個圖中表示的，通過采用滑動器60，來執(zhí)行載物臺56在照射位置之間的移動。如以上說明的，對于兩類照射，采用通常使用的載物臺56。因此，當缺陷觀察單元54利用電子束照射通過缺陷檢查單元52檢測的缺陷的位置，不再需要上述用于在分別提供的載物臺上定位光盤的工作。因此，電子束可以被迅速地和正確地發(fā)射到缺陷位置上。
下面，將進行缺陷觀察54的說明。缺陷觀察單元54通過采用電子束產(chǎn)生一個被用于觀察缺陷形狀的圖像。缺陷觀察單元54被設(shè)置為使得利用電子束照射樣本(盤)，并且利用檢測器檢測產(chǎn)生的電子。缺陷觀察單元54包括在第一實施例中說明的檢查裝置的配置。
這個實施例的缺陷觀察單元54被設(shè)置為使得利用電子束照射通過缺陷檢測單元52指定的缺陷部分。電子束源被合適地設(shè)置為使得發(fā)出一個具有預(yù)定面積的電子束。此外，可以在該檢測器中合適地采用CCD或者TDI-CCD。
在這個實施例中，更具體地說，缺陷部分已經(jīng)由缺陷檢測單元52指定。因此，對于缺陷觀察單元54，其最好是確定該結(jié)構(gòu)和規(guī)范，以便獲得主要目的，其將獲得具有高分辨率而不是寬視野的圖像。鑒于這個技術(shù)點，提供了一個圖像投影類型的觀察裝置，并且合適地使用高倍放大模式?？梢圆捎秒娮訏呙栾@微鏡(SEM)，作為該顯微鏡本身的模型。圖像產(chǎn)生設(shè)備80從檢測器提供的信號中產(chǎn)生表示光盤的表面形狀信息的盤表面圖像。監(jiān)視器82在其上顯示由圖像產(chǎn)生設(shè)備80產(chǎn)生的圖像。缺陷觀察單元54可以進一步提供有如在第一實施例中所述的那種異常判斷計算單元。異常判斷計算單元的功能可以被組合在圖8的控制計算機76中。在這種情況下，控制計算機76也可以用作缺陷觀察單元54。
在以上說明中，描述了根據(jù)這個實施例的檢查裝置50的相應(yīng)結(jié)構(gòu)?，F(xiàn)在將描述這個檢查裝置50的操作?；瑒悠?0和主軸58是在控制計算機76的控制之下由主軸/滑動器驅(qū)動電路62驅(qū)動的。從而，載物臺56被定位到缺陷檢測單元52，并且光盤被旋轉(zhuǎn)。在這個條件下，利用來自激光源70的激光照射光盤，并且由檢測器74檢測反射光。然后，控制計算機76基于由檢測器74檢測的信息檢測缺陷，并且指定這個缺陷的位置。缺陷位置的數(shù)據(jù)被存儲在控制計算機76中，并且提供給缺陷觀察單元54。
控制計算機76進一步基于缺陷位置數(shù)據(jù)來控制滑動器60和主軸58。光盤被隨著載物臺56移動到缺陷觀察單元54，使得光盤的缺陷被設(shè)置在電子束的照射位置上。然后，利用電子束照射缺陷位置，產(chǎn)生缺陷位置的圖像，并且將其顯示在監(jiān)視器82上。該光盤的表面形狀可以通過查看顯示在監(jiān)視器82上的圖像觀察到。
如先前說明的，根據(jù)這個實施例，通過由缺陷檢測單元52采用光發(fā)現(xiàn)缺陷，并且缺陷部分的圖像由缺陷觀察單元54采用電子束獲得。因此，可以迅速地以高分辨率實現(xiàn)缺陷的形狀分析。最好是通過采用光發(fā)現(xiàn)缺陷，以便可以迅速地發(fā)現(xiàn)缺陷。另一方面，最好是通過采用電子束觀察非常小的形狀。適合于發(fā)現(xiàn)缺陷的裝置與適合于觀察缺陷形狀的裝置相結(jié)合，并且這些裝置被分別地操作，以便能夠以更高的水平獲得兩個功能，例如缺陷發(fā)現(xiàn)和缺陷觀察。然后，可以迅速地發(fā)現(xiàn)缺陷部分，并且發(fā)現(xiàn)的缺陷部分可以被以高分辨率觀察。因此，能夠以高分辨率觀察缺陷部分。
此外，根據(jù)這個實施例，通常相對于使用光的缺陷檢測裝置和使用電子束的缺陷觀察裝置來使用載物臺。在將光盤安裝在相同的載物臺上的條件下，控制檢查裝置，使得基于檢測的缺陷位置數(shù)據(jù)，利用電子束照射光盤。不再需要光盤的替換操作和在替換操作中執(zhí)行的定位操作，使得可以縮短觀察缺陷所需要的準備時間。因此，能夠以在線的方法將根據(jù)這個實施例的檢查裝置引入到用于光盤的生產(chǎn)線中。
(第三個實施例)接下來，現(xiàn)在將使用圖9說明本發(fā)明的第三個實施例。這個實施例提供了用于對信息記錄介質(zhì)連續(xù)地執(zhí)行記錄操作和檢查操作的裝置90。檢查裝置90屬于所謂的“寫后讀”型檢查裝置，并且被設(shè)置為使得在記錄信息之后執(zhí)行一個檢查操作。
在圖9中，通過作為一個整體結(jié)構(gòu)的記錄單元92和檢查單元94設(shè)置根據(jù)這個實施例的檢查裝置90。在該圖的左側(cè)圖示了記錄單元92，而在右側(cè)圖示了檢查單元94。信息記錄介質(zhì)為圓盤狀，并且被安裝在待旋轉(zhuǎn)的載物臺上。設(shè)置記錄單元92，使得沿著載物臺的旋轉(zhuǎn)方向在上游側(cè)上在信息記錄介質(zhì)上記錄信息。設(shè)置檢查單元94，使得沿著載物臺的旋轉(zhuǎn)方向在下游側(cè)上檢查信息記錄介質(zhì)。
記錄單元92設(shè)置有一個用于暴露電子束的電子束源96。電子束源96對應(yīng)于第一電子槍，并且被構(gòu)成為使得利用電子束照射介質(zhì)，以便形成圖案。通過利用電子束照射信息記錄介質(zhì)，將信息記錄在信息記錄介質(zhì)上。
檢查單元94具有在以上說明的實施例中表示的檢查裝置的配置。如在這個圖中所示的，該檢查單元94提供有一個檢查目的的電子束源98、一個用于檢測從信息記錄介質(zhì)發(fā)出的電子的檢測器100、和進一步在以上描述的實施例中說明的配置。此外，以類似于以上說明的實施例的方式，設(shè)置控制計算機?？刂朴嬎銠C用作缺陷計算操作單元。因此，從通過檢測器100檢測的電子中讀出記錄在信息記錄介質(zhì)上的信息?？刂朴嬎銠C判斷是否在信息記錄介質(zhì)中存在一個異常狀態(tài)。如先前說明的，以圖像的形式獲得記錄在信息記錄介質(zhì)上的信息。
檢查目的的電子束源98對應(yīng)于第二電子槍。在這個實施例中，最好是使用一個擁有寬的照射區(qū)域的區(qū)域光束作為檢查目的電子束，并且該區(qū)域光束覆蓋或者對應(yīng)于在照射區(qū)域內(nèi)的多個像素。最好是，檢測器100可以同時執(zhí)行多個像素的成像操作。例如，可以在檢測器100中適當?shù)夭捎肅CD或者以上說明的TDI-CCD。
相對于記錄目的的電子束的照射位置，將檢查目的的電子束的照射位置設(shè)置在沿著旋轉(zhuǎn)方向的上游側(cè)上。在這個實施例中，在距信息記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)中心或者外周相同距離處，提供暴露目的的電子束的照射位置和檢查目的的電子束的照射位置。也就是說，電子束的照射位置是這樣的點，即其在相同的圓弧上彼此分開。但是，可以沿著徑向方向位置上移動電子束的照射位置。由此，在從記錄(形成)操作直至檢查操作的時間周期，可以形成很大的時滯。例如，可以將檢查目的的電子束的照射位置沿徑向設(shè)置為在暴露目的的電子束的稍微內(nèi)側(cè)，以便在該記錄操作旋轉(zhuǎn)一到若干次之后，利用檢查目的的電子束照射介質(zhì)。
接下來，描述根據(jù)本發(fā)明這個實施例的記錄和檢查裝置90的操作。信息記錄介質(zhì)被安裝在載物臺上，并且繞這個載物臺旋轉(zhuǎn)。在該條件下，從電子束源96發(fā)出暴露目的的電子束，以便在信息記錄介質(zhì)的表面中形成圖案凹槽。在沿著旋轉(zhuǎn)位置正好位于暴露位置下游位置處，檢查目的的電子束發(fā)送到其上形成圖案的信息記錄介質(zhì)上。然后，由檢測器100檢測從信息記錄介質(zhì)發(fā)出的電子。檢查單元94通過檢測信號檢查是否在該圖案中存在缺陷。
當一個圖案被形成在信息記錄介質(zhì)上時，在該圖案形成之后，通常實施一個顯影載物臺，此后，檢查該圖案。但是，在本技術(shù)領(lǐng)域中，眾所周知的是，對于例如硅襯底的特定襯底，可以形成圖案，而沒有顯影步驟。根據(jù)這個實施例的寫后讀型的檢查裝置合適地應(yīng)用于這樣的襯底。然后，可以檢查是否恰好在該形成操作之后存在信號缺陷，由此可以非常有效地執(zhí)行制造步驟。
如根據(jù)這個實施例先前描述的，通過采用記錄目的的第一電子束源，將信息記錄在安裝在載物臺上的信息記錄介質(zhì)上，以及通過采用檢查目的的第二電子束源，檢查信息記錄介質(zhì)。檢查裝置可以檢查是否恰好在記錄之后存在缺陷，因此，可以提高生產(chǎn)率。
本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)該意識到，在不脫離本發(fā)明新穎的和優(yōu)勢的特征下，可以對以上的實施例進行許多修改和變化。因此，企圖將所有這些修改和變化都包括在所附的權(quán)利要求的范圍內(nèi)。說明書和例子僅僅示范性的。以下的權(quán)利要求限定了本發(fā)明實際的范圍和精神。
權(quán)利要求
1.一種信息記錄介質(zhì)檢查裝置，用于檢查信息記錄介質(zhì)的外觀，包括電子槍，用于利用電子束照射所述信息記錄介質(zhì)的所希望的位置；載物臺，用于保持所述信息記錄介質(zhì)，使得所述信息記錄介質(zhì)可沿旋轉(zhuǎn)方向和徑向方向移動；檢測器，用于通過利用所述電子束照射所述信息記錄介質(zhì)，來檢測已經(jīng)獲得所述信息記錄介質(zhì)之表面的信息的電子；和圖像產(chǎn)生單元，用于根據(jù)由所述檢測器檢測的所述電子，來獲得所述信息記錄介質(zhì)之所述表面的圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的信息記錄介質(zhì)檢查裝置，還包括比較單元，用于對圖像進行相互比較。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的信息記錄介質(zhì)檢查裝置，還包括判斷計算單元，用于通過檢查與形成在所述信息記錄介質(zhì)上的凹坑的形狀相關(guān)的值是否在預(yù)定的范圍中，來判斷是否存在異常狀態(tài)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1到3任意一個所述的信息記錄介質(zhì)檢查裝置，其中所述檢測器在檢測表面上擁有多個像素的陣列，并且所述信息記錄介質(zhì)之所述表面的所述圖像被投影到所述檢測表面上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的信息記錄介質(zhì)檢查裝置，其中所述檢測器在所述檢測表面上具有二維像素陣列；和所述檢測器擁有能夠?qū)λ鲂畔⒂涗浗橘|(zhì)之所述表面的所述圖像的信號進行積分的功能，當所述載物臺移動時，所述信息記錄介質(zhì)之所述表面的所述圖像被投射到所述檢測表面上，其中，對所述二維的像素陣列的線信號進行積分，作為積分單位。
6.根據(jù)權(quán)利要求1到5任意一個所述的信息記錄介質(zhì)檢查裝置，其中所述電子槍發(fā)射具有一個面積的電子束，該電子束的所述面積能夠照射一個區(qū)域，該區(qū)域包含對應(yīng)于所述檢測器的成像區(qū)域的樣本上的區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求1到6任意一個所述的信息記錄介質(zhì)檢查裝置，還包括缺陷檢測單元，用于當光被發(fā)射到所述信息記錄介質(zhì)上時，從產(chǎn)生的反射光中獲得在所述信息記錄介質(zhì)上的凹坑的缺陷，以便產(chǎn)生表示所述缺陷的位置的缺陷位置數(shù)據(jù)；以及其中，所述電子槍利用電子束照射由通過所述缺陷檢測單元產(chǎn)生的所述缺陷位置數(shù)據(jù)表示的所述缺陷位置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1到7任意一個所述的信息記錄介質(zhì)檢查裝置，其中所述信息記錄介質(zhì)檢查裝置設(shè)置有記錄目的的電子槍，用于利用電子束照射所述信息記錄介質(zhì)，以便在所述信息記錄介質(zhì)上記錄信息；和所述檢查目的的電子束的照射位置提供在通過所述記錄目的的電子槍的所述記錄目的的電子束的照射位置的后部位置處。
9.一種信息記錄介質(zhì)檢查裝置，用于檢查信息記錄介質(zhì)，包括信息記錄介質(zhì)缺陷檢測單元，包括光源，用于利用光照射所述信息記錄介質(zhì)；載物臺，用于旋轉(zhuǎn)所述信息記錄介質(zhì)；光接收設(shè)備，用于從所述信息記錄介質(zhì)接收反射光；和計算裝置，用于通過對所述接收的反射光的信息與設(shè)計數(shù)據(jù)進行比較，來判斷是否在所述信息記錄介質(zhì)上存在凹坑的缺陷，和用于產(chǎn)生所述凹坑的缺陷位置數(shù)據(jù)；和信息記錄介質(zhì)缺陷觀察單元，包括電子槍，用于利用電子束照射包含由所述缺陷位置數(shù)據(jù)表示的所述缺陷位置的區(qū)域；檢測器，用于檢測從利用電子束照射的所述信息記錄介質(zhì)的所述區(qū)域產(chǎn)生的電子；和圖像產(chǎn)生單元，用于根據(jù)由所述檢測器檢測的所述電子，來產(chǎn)生所述信息記錄介質(zhì)之表面的圖像。
10.一種信息記錄介質(zhì)記錄和檢查裝置，用于利用電子束照射信息記錄介質(zhì)的表面以便在所述信息記錄介質(zhì)上記錄信息和用于檢查所述記錄的信息的異常狀態(tài)，包括第一電子槍，用于利用電子束照射所述信息記錄介質(zhì)，以便在所述信息記錄介質(zhì)上記錄信息；載物臺，用于在其上安裝所述信息記錄介質(zhì)，使得所述信息記錄介質(zhì)可沿旋轉(zhuǎn)方向和徑向方向移動；第二電子槍，用于利用電子束照射所述信息記錄介質(zhì)，以便讀取記錄在所述信息記錄介質(zhì)上的所述信息；檢測器，用于檢測從所述信息記錄介質(zhì)發(fā)射的電子；和缺陷計算操作單元，用于從由所述檢測器檢測的所述電子中讀取記錄在所述信息記錄介質(zhì)上的所述信息，并且判斷是否存在所述信息記錄介質(zhì)的異常狀態(tài)。
11.一種信息記錄介質(zhì)檢查方法，用于檢查信息記錄介質(zhì)的外觀，包括利用電子束照射所述信息記錄介質(zhì)的所希望的位置；通過利用所述電子束照射所述信息記錄介質(zhì)，來檢測已經(jīng)獲得所述信息記錄介質(zhì)之表面的信息的電子；和從所述檢測的電子中獲得所述信息記錄介質(zhì)之所述表面的圖像。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種檢查裝置，其中電子槍(12)利用電子束照射信息記錄介質(zhì)上的所希望的位置。載物臺(18)保持信息記錄介質(zhì)，使得信息記錄介質(zhì)可以沿旋轉(zhuǎn)方向和徑向方向移動。檢測器(22)通過利用電子束照射信息記錄介質(zhì)，來檢測已經(jīng)獲得信息記錄介質(zhì)之表面的信息的電子。圖像產(chǎn)生單元(24)根據(jù)由檢測器(22)檢測的電子來獲得信息記錄介質(zhì)之表面的圖像。檢查裝置可以檢查是否諸如CD和DVD的信息記錄介質(zhì)上存儲缺陷，而且可以檢查其缺陷的形狀。檢查裝置還可以檢查具有大存儲容量的信息記錄介質(zhì)。
文檔編號G01N21/892GK1776413SQ20051011350
公開日2006年5月24日 申請日期2005年10月14日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月14日
發(fā)明者遠山敬一, 野路伸治, 吉川省二 申請人:株式會社荏原制作所