專利名稱：用于測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性的裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種測(cè)試光盤質(zhì)量的裝置和方法，尤其涉及一種用于測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性的裝置和方法，所述光盤與所述測(cè)試盤的種類相同。
背景技術(shù)：
現(xiàn)今存在的記錄介質(zhì)包括磁性記錄磁帶、作為光盤的激光盤(LD)或致密盤(CD)以及新近研發(fā)的帶有巨大記錄容量的數(shù)字視頻盤(DVD)。
因?yàn)橛涗浗橘|(zhì)中的光盤利用與傳統(tǒng)記錄系統(tǒng)(即磁性記錄系統(tǒng))不同的數(shù)字記錄系統(tǒng)，體積小重量輕并且保存攜帶方便，所以現(xiàn)今的消費(fèi)者都選擇光盤。
然而任何設(shè)備都應(yīng)該在沒有缺點(diǎn)時(shí)使用，因?yàn)橹灰嬖谌魏钨|(zhì)量問題，用戶對(duì)生產(chǎn)商的信任度就會(huì)下降。
這就引發(fā)了具有細(xì)微信號(hào)特性的光盤的嚴(yán)重問題并且由于產(chǎn)品生產(chǎn)過程中的劃痕、變形、指紋印和雜質(zhì)附著而劣化了質(zhì)量。
這樣，生產(chǎn)出的光盤必須經(jīng)歷作為下一道工序的質(zhì)量測(cè)試之后才能將所述光盤投放光盤市場(chǎng)。
傳統(tǒng)的光盤質(zhì)量測(cè)試通常由四種測(cè)量驅(qū)動(dòng)來執(zhí)行。
首先假設(shè)由相同設(shè)備生產(chǎn)的光盤性質(zhì)相同，生產(chǎn)商從所有生產(chǎn)出的光盤中選擇任意光盤并且將所需光盤載入測(cè)量系統(tǒng)。
在第一測(cè)量驅(qū)動(dòng)中，依靠從光盤中再現(xiàn)的信號(hào)測(cè)量高頻波信號(hào)和抖動(dòng)。
在第二測(cè)量驅(qū)動(dòng)中，基于從光盤中再現(xiàn)的信號(hào)測(cè)量伺服信號(hào)(調(diào)焦誤差信號(hào)和跟蹤誤差信號(hào))。
在第三測(cè)量驅(qū)動(dòng)中，測(cè)量經(jīng)歷了質(zhì)量測(cè)試的所述光盤的機(jī)械特性。
最后在第四測(cè)量驅(qū)動(dòng)中，測(cè)量所述光盤的光學(xué)特性。
如上所述，就根據(jù)光盤的傳統(tǒng)質(zhì)量測(cè)試檢查了所述光盤的信息記錄精確性、機(jī)械特性和光學(xué)特性。
由此，既然在高密度光盤的使用期間可能會(huì)在信息記錄/再現(xiàn)激光束的入射表面上產(chǎn)生機(jī)械損傷，即劃痕等引發(fā)光盤信號(hào)的劣化以及數(shù)據(jù)損失并且在更壞的情況下，無法記錄和/或再現(xiàn)光盤信息，則這樣的損傷就成為了光盤質(zhì)量檢測(cè)的最重要部分。
因此，為避免該問題，就可形成一保護(hù)涂層以增強(qiáng)光盤表面的機(jī)械剛度和硬度。
然而按此目的在光盤表面形成了保護(hù)涂層之后，就可量化該保護(hù)涂層的機(jī)械特性。也就是說需要量化該保護(hù)涂層能在多久時(shí)間內(nèi)承受光盤使用期間出現(xiàn)的的劃痕。
存在一種鉛筆硬度測(cè)試和一種挺度(taber)磨損測(cè)試作為用于高密度光盤的表面耐磨性的量化的測(cè)試。
鉛筆硬度測(cè)試是在由不同硬度的鉛筆以直線運(yùn)動(dòng)接觸光盤所產(chǎn)生的劃痕的情況下對(duì)應(yīng)于鉛筆硬度來估計(jì)劃痕硬度值的估計(jì)方法。
盡管如此，因?yàn)殂U筆硬度測(cè)試是由人類用鉛筆接觸光盤表面而產(chǎn)生劃痕的測(cè)試，所以鉛筆硬度測(cè)試具有難以持續(xù)保持相同負(fù)荷以及因?yàn)槲串a(chǎn)生期望數(shù)量的劃痕而產(chǎn)生的量化劃痕的缺點(diǎn)。
挺度磨損測(cè)試是在通過由(作為一種砂輪的美國(guó)材料試驗(yàn)學(xué)會(huì)(ASTM)標(biāo)準(zhǔn))D1004方法給予預(yù)定負(fù)荷統(tǒng)一磨損光盤表面以評(píng)估耐磨程度的測(cè)試。
在傳統(tǒng)的挺度磨損測(cè)試裝置中，如果載入并旋轉(zhuǎn)了要被劃痕的光盤，則使用具有預(yù)定重量的多砂輪以垂直該光盤的位置來接觸該光盤，從而通過最少10轉(zhuǎn)或更多的光盤旋轉(zhuǎn)的統(tǒng)一負(fù)荷來劃痕所述光盤表面。
此時(shí)，ASTM定義由砂輪產(chǎn)生的負(fù)荷小于9.8N(1000gf)，并且可以使用諸如CS-10F、CS-10和CS-17的各種類型。
具有前述結(jié)構(gòu)的挺度磨損測(cè)試裝置不是以通過劃痕光盤來測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性為目的，而是以測(cè)試普通塑料品劃痕程度為目的而設(shè)計(jì)的設(shè)備。
因此，由挺度磨損測(cè)試裝置產(chǎn)生的劃痕與實(shí)際生活中使用光盤時(shí)產(chǎn)生的劃痕大為不同。
也就是說挺度磨損測(cè)試裝置通過磨損光盤表面來確定所述光盤表面的耐磨性。這與通過相應(yīng)的操作驅(qū)動(dòng)該光盤而在驅(qū)動(dòng)器(例如光盤驅(qū)動(dòng)器)內(nèi)起作用的實(shí)際產(chǎn)生的劃痕的情形有顯著不同。
因此，由于在通過挺度磨損測(cè)試裝置確定光盤質(zhì)量好壞時(shí)，生產(chǎn)商是根據(jù)實(shí)際參考標(biāo)準(zhǔn)由該生產(chǎn)商的經(jīng)驗(yàn)性技術(shù)訣竅而非量化分類來相對(duì)確定該光盤質(zhì)量的，所以存在諸多誤差。此外，因?yàn)閷?shí)際生活中在光盤表面產(chǎn)生的劃痕和由挺度磨損測(cè)試裝置產(chǎn)生的劃痕形狀不同，所以對(duì)僅使用技術(shù)訣竅而缺乏絕對(duì)基準(zhǔn)值來確定光盤好壞的嘗試會(huì)產(chǎn)生巨大的誤差。
如上所述，因?yàn)槠駷橹箾]有量化劃痕產(chǎn)生程度以測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性的具體方法，所以就急需一種量化劃痕的方法。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明涉及一種用于測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性的裝置和方法，它能夠充分解決由相關(guān)領(lǐng)域的局限性和缺點(diǎn)所引起的一個(gè)或多個(gè)問題。
本發(fā)明的一個(gè)目標(biāo)是提供一種用于測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性的裝置和方法，通過量化機(jī)械耐磨性的特性來增強(qiáng)光盤表面的機(jī)械特性。
本發(fā)明的另一個(gè)目標(biāo)是提供一種用于測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性的裝置和方法，以提高可靠度并降低測(cè)試成本。
本發(fā)明的另一個(gè)目標(biāo)是提供一種用于測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性的裝置和方法，通過設(shè)置可實(shí)現(xiàn)的絕對(duì)基準(zhǔn)值以快速精確地測(cè)試并確定光盤質(zhì)量好壞。
本發(fā)明的另一個(gè)目標(biāo)是提供一種用于測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性的裝置和方法，通過產(chǎn)生與現(xiàn)實(shí)生活中產(chǎn)生劃痕相類似的劃痕來提高測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性的可靠度。
本發(fā)明的另一個(gè)目標(biāo)是提供一種用于測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性的裝置和方法，以提高對(duì)諸如BD-RE(可重寫藍(lán)光盤)和BD-WO(一次寫入藍(lán)光盤)類型光盤在其表面產(chǎn)生劃痕之后仍記錄信息的的光盤的表面測(cè)試機(jī)械耐磨性的可靠度。
本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)、目標(biāo)和特性將在隨后的說明書部分中闡明并且在本領(lǐng)域普通技術(shù)人員檢查或?qū)W習(xí)本發(fā)明實(shí)施例之后將變得顯而易見。通過在此寫成的說明和權(quán)利要求以及附圖中具體指出的結(jié)構(gòu)，就能夠認(rèn)識(shí)并獲取本發(fā)明的目標(biāo)和其他優(yōu)點(diǎn)。
為了實(shí)現(xiàn)這些目標(biāo)和其他優(yōu)點(diǎn)并依照本發(fā)明目的(正如在此具體實(shí)現(xiàn)并廣泛描述地那樣)一種用于測(cè)試光盤表面劃痕耐磨性的裝置包括其上加載光盤并旋轉(zhuǎn)該光盤的旋轉(zhuǎn)臺(tái)以及接觸該光盤以在該光盤表面生成劃痕的多個(gè)砂輪；所述劃痕是由砂輪在光盤上施加預(yù)定負(fù)荷并且所述光盤旋轉(zhuǎn)預(yù)定轉(zhuǎn)數(shù)的情況下產(chǎn)生的，其中該裝置通過把從光盤表面產(chǎn)生的劃痕中得來的抖動(dòng)值和預(yù)定抖動(dòng)值比較來確定該光盤是否具有預(yù)定的耐磨性。
在此，光盤可以是BD-RE(可重寫藍(lán)光盤)、BD-WO(一次寫入藍(lán)光盤)或BD-RO(只讀藍(lán)光盤)的任何一種。
同樣地，砂輪應(yīng)用于光盤的負(fù)荷是在0.49N(50gf)到7.35N(750gf)之間。
并且在光盤表面上產(chǎn)生的劃痕深度在0μm到2μm之間，而砂輪可以是CS-10F、CS-10和CS-17中的任何一種。
在此，劃痕是在使用CS-10F砂輪并將0.49N(50gf)到2.45N(250gf)之間的負(fù)荷應(yīng)用于光盤，同時(shí)光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的?；蛘?，劃痕是在使用CS-10砂輪并將1.47N(150gf)到4.41N(450gf)之間的負(fù)荷應(yīng)用于光盤，同時(shí)光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的。或者，劃痕是在使用CS-17砂輪并將2.45N(250gf)到7.35N(750gf)之間的負(fù)荷應(yīng)用于光盤，同時(shí)光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的。
在本發(fā)明的另一個(gè)方面，一種用于測(cè)試光盤表面劃痕耐磨性的方法包括步驟用多個(gè)砂輪以預(yù)定負(fù)荷接觸光盤表面，保持該光盤和砂輪之間的接觸直到光盤旋轉(zhuǎn)到預(yù)定轉(zhuǎn)數(shù)，并且通過測(cè)量由再現(xiàn)記錄在所述光盤上的信息的信號(hào)所獲取的抖動(dòng)值來確定該光盤是否具有預(yù)定耐磨性。
在本發(fā)明的另一個(gè)方面，一種用于測(cè)試光盤表面劃痕耐磨性的方法包括步驟用多個(gè)砂輪以預(yù)定負(fù)荷接觸光盤表面以在該光盤表面產(chǎn)生劃痕，把由再現(xiàn)記錄在所述光盤上的信息的信號(hào)所獲取的抖動(dòng)值和預(yù)定抖動(dòng)值比較，并且基于所述比較步驟來確定該光盤是否具有預(yù)定的耐磨性。
在本發(fā)明的另一個(gè)方面，所述光盤與被測(cè)光盤是由相同的生產(chǎn)過程制作的。
在本發(fā)明的另一個(gè)方面，一種信息記錄介質(zhì)包括具有足夠的抵抗力或與劃痕無關(guān)的入口表面，該信息記錄介質(zhì)可以被驗(yàn)證或者與通過測(cè)試而被驗(yàn)證的盤類型相同以確定該信息記錄介質(zhì)表面是否具有足夠抵抗力，其中所述測(cè)試包括步驟用多個(gè)砂輪以預(yù)定負(fù)荷接觸該信息記錄介質(zhì)表面以在該信息記錄介質(zhì)表面產(chǎn)生劃痕，把由再現(xiàn)記錄在所述光盤上的信息的信號(hào)所獲取的抖動(dòng)值和預(yù)定抖動(dòng)值比較，并且基于所述比較結(jié)果來確定該信息記錄介質(zhì)是否具有預(yù)定的耐磨性。
應(yīng)該理解本發(fā)明的前述大致描述和隨后細(xì)節(jié)描述是示意性和說明性的，旨在對(duì)本發(fā)明所要求的權(quán)利提供進(jìn)一步的解釋。


為更好地理解本發(fā)明并且結(jié)合作為此說明書的一部分的所含附圖示出了本發(fā)明的實(shí)施例并且與說明書一起用來說明本發(fā)明的原理。在附圖中圖1示出了根據(jù)本發(fā)明顯示挺度磨損測(cè)試裝置的示意圖；圖2示出了根據(jù)本發(fā)明顯示測(cè)試BD-WO(一次寫入藍(lán)光盤)光盤表面機(jī)械耐磨性的方法的流程圖；圖3示出了根據(jù)本發(fā)明顯示測(cè)試BD-RE(可重寫藍(lán)光盤)光盤表面機(jī)械耐磨性的方法的流程圖；圖4示出了根據(jù)本發(fā)明顯示測(cè)試BD-RO(只讀藍(lán)光盤)光盤表面機(jī)械耐磨性的方法的流程圖；圖5示出了根據(jù)本發(fā)明解釋通過使用微小劃痕測(cè)試器在光盤上生成預(yù)定劃痕圖案的視圖；圖6示出了根據(jù)本發(fā)明顯示依賴于應(yīng)用在光盤上的砂輪負(fù)荷的劃痕深度的示意圖；圖7示出了根據(jù)本發(fā)明顯示依賴于應(yīng)用在光盤上的砂輪負(fù)荷的抖動(dòng)值的變化的曲線圖；具體實(shí)施方式
如下將做出對(duì)其實(shí)例在附圖中示出的本發(fā)明較佳實(shí)施例的參考。只要可能，附圖中始終使用相同的編號(hào)指代相同或類似的部分。
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明顯示的挺度磨損測(cè)試裝置的示意圖。
如圖1所述，用于測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性的裝置包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)20和多個(gè)砂輪10。在旋轉(zhuǎn)臺(tái)20上加載要被劃痕的光盤30用以旋轉(zhuǎn)被加載的光盤30。同時(shí)將多個(gè)砂輪10垂直放置于旋轉(zhuǎn)臺(tái)20之上從而與光盤30接觸并且在該光盤30表面生成劃痕。
接觸光盤的砂輪也隨著光盤的旋轉(zhuǎn)方向旋轉(zhuǎn)，一個(gè)砂輪以相對(duì)于另一個(gè)砂輪旋轉(zhuǎn)的相反方向旋轉(zhuǎn)。
在此情況下，當(dāng)光盤30旋轉(zhuǎn)預(yù)定轉(zhuǎn)數(shù)(例如10轉(zhuǎn)以下)，對(duì)于由砂輪10施加在光盤30上生成的預(yù)定負(fù)荷時(shí)就生成劃痕。
光盤30可以是BD-RE(可重寫藍(lán)光盤)、BD-WO(一次寫入藍(lán)光盤)或BD-RO(只讀藍(lán)光盤)。
也就是說可以使用其上未記錄信息的光盤、只能在其上記錄一次信息的光盤以及可在其上記錄多于一次信息的光盤中的任何一種光盤作為光盤30。
同樣最好保持由砂輪10產(chǎn)生的應(yīng)用于光盤30的負(fù)荷是在0.49N(50gf)到之間7.35N(750gf).。
在此情況下，在光盤30表面上產(chǎn)生的劃痕深度在0μm到2μm之間。
同樣，可使用CS-10F、CS-10和CS-17中的任何一種作為砂輪10。
在本發(fā)明中使用CS-10F砂輪的條件下，將0.49N(50gf)到2.45N(250gf之間的負(fù)荷應(yīng)用于光盤并且光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)，從而在光盤表面產(chǎn)生劃痕。
在本發(fā)明中使用CS-10砂輪的條件下，將1.47N(150gf)到4.41N(450gf之間的負(fù)荷應(yīng)用于光盤并且光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)，從而在光盤表面產(chǎn)生劃痕。
在本發(fā)明中使用CS-17砂輪的條件下，將2.45N(250gf)到7.35N(750gf)之間的負(fù)荷應(yīng)用于光盤并且光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)，從而在光盤表面產(chǎn)生劃痕。
以下將描述一種根據(jù)本發(fā)明用于測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性的方法。
圖2示出了根據(jù)本發(fā)明顯示的測(cè)試BD-WO(一次寫入藍(lán)光盤)光盤表面機(jī)械耐磨性的方法的流程圖。
參見圖2，首先將光盤固定在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，并在隨后將旋轉(zhuǎn)臺(tái)與光盤一并旋轉(zhuǎn)(S10)。
其次，用砂輪接觸正旋轉(zhuǎn)的光盤表面(S20)，并將光盤和砂輪之間的接觸負(fù)荷增至預(yù)設(shè)水平(S30)。
這時(shí)最好保持由砂輪10產(chǎn)生的應(yīng)用于光盤30的負(fù)荷是在0.49N(50gf)到7.35N(750gf)之間。
在使用CS-10F砂輪的條件下，將0.49N(50gf到2.45N(250gf)之間的負(fù)荷應(yīng)用于光盤表面。在使用CS-10砂輪的情況下，將1.47N(150gf)到4.41N(450gf)之間的負(fù)荷應(yīng)用于光盤表面。在使用CS-17砂輪的情況下，將2.45N(250gf)到7.35N(750gf)之間的負(fù)荷應(yīng)用于光盤表面。
接下來，就繼續(xù)保持光盤和砂輪之間的接觸負(fù)荷直到光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)，由此在光盤表面產(chǎn)生劃痕。隨后就把砂輪與光盤表面隔開(S40)。
隨后，測(cè)試裝置記錄帶有劃痕的光盤上的信息(S50)并且通過測(cè)量由再現(xiàn)記錄在光盤上信息所獲取的信號(hào)的抖動(dòng)值來確定該光盤質(zhì)量的好壞(S60)。
圖3示出了根據(jù)本發(fā)明顯示的測(cè)試BD-RE(可重寫藍(lán)光盤)光盤表面機(jī)械耐磨性的方法的流程圖。
如圖3所示，首先將光盤固定在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，并在隨后將旋轉(zhuǎn)臺(tái)與光盤一并旋轉(zhuǎn)(S100)。
其次，用砂輪接觸正旋轉(zhuǎn)的光盤表面(S101)，并將光盤和砂輪之間的接觸負(fù)荷增至預(yù)設(shè)水平(S102)。
這時(shí)最好保持由砂輪10產(chǎn)生的應(yīng)用于光盤30的負(fù)荷是在0.49N(50gf到之間7.35N(750gf).。
接下來，就繼續(xù)保持光盤和砂輪之間的接觸負(fù)荷直到光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)，由此在光盤表面產(chǎn)生劃痕。隨后就把砂輪與光盤表面隔開(S103)。
隨后，測(cè)試裝置記錄帶有劃痕的光盤上的信息(S104)并且確定光盤的信息記錄號(hào)是否與預(yù)設(shè)的信息記錄號(hào)一致(S105)。
此時(shí)，預(yù)設(shè)的信息記錄號(hào)可以在1到1000的范圍內(nèi)。
如果確定光盤的信息記錄號(hào)與預(yù)設(shè)的信息記錄號(hào)一致，則測(cè)試裝置就通過測(cè)量由再現(xiàn)記錄在該光盤上信息所獲取的信號(hào)的抖動(dòng)值來確定該光盤質(zhì)量的好壞(S106) 。
然而，若是確定光盤的信息記錄號(hào)與預(yù)設(shè)的信息記錄號(hào)不一致，則測(cè)試裝置就再次由旋轉(zhuǎn)臺(tái)執(zhí)行旋轉(zhuǎn)光盤的處理步驟。
圖4示出了根據(jù)本發(fā)明顯示的測(cè)試BD-RO(只讀藍(lán)光盤)光盤表面機(jī)械耐磨性的方法的流程圖。
如圖4所示，首先由測(cè)試裝置記錄光盤上的信息(S201)。
其次，該測(cè)試裝置將記錄信息的光盤固定在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，并在隨后通過旋轉(zhuǎn)臺(tái)旋轉(zhuǎn)該光盤(S202)。
隨后，用砂輪接觸正旋轉(zhuǎn)的光盤表面(S203)，并將光盤和砂輪之間的接觸負(fù)荷增至預(yù)設(shè)水平(S204)。
在此最好保持由砂輪10產(chǎn)生的應(yīng)用于光盤30的負(fù)荷是在0.49N(50gf到之間7.35N(750gf).。
接下來，就繼續(xù)保持光盤和砂輪之間的接觸負(fù)荷直到光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)，由此在光盤表面產(chǎn)生劃痕。隨后就把砂輪與光盤表面隔開(S205)。
隨后，測(cè)試裝置記錄就通過測(cè)量由再現(xiàn)記錄在所述光盤上信息所獲取的信號(hào)的抖動(dòng)值來確定該光盤質(zhì)量的好壞(S206)。
圖5示出了根據(jù)本發(fā)明解釋通過使用微小劃痕測(cè)試器在光盤上生成預(yù)定劃痕圖案的視圖。
參見圖5，根據(jù)本發(fā)明的測(cè)試裝置保持光盤和砂輪之間的接觸負(fù)荷直到光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)，以在光盤表面產(chǎn)生劃痕。
圖6示出了根據(jù)本發(fā)明顯示的依賴于應(yīng)用在光盤上的砂輪負(fù)荷的劃痕深度的示意圖。
圖6是其上沒有涂層的裸盤和其上帶有涂層的鍍膜盤比較圖。
如圖6所示，當(dāng)產(chǎn)生的劃痕具有2μm或更大深度時(shí)，就可觀察到?jīng)]有涂層的裸盤和帶有涂層的鍍膜盤的伺服誤差。
即在執(zhí)行用于光盤表面耐磨性的測(cè)試時(shí)，深度為2μm的劃痕被定義為用于確定光盤質(zhì)量好壞的絕對(duì)基準(zhǔn)值。通過測(cè)試光盤表面的機(jī)械耐磨性，就能夠量化劃痕的生成程度。
圖7示出了根據(jù)本發(fā)明顯示的依賴于應(yīng)用在光盤上的砂輪負(fù)荷的抖動(dòng)值的變化的曲線圖。
在圖7中，當(dāng)使用沒有涂層的裸盤和帶有涂層的鍍膜盤時(shí)，每個(gè)裸盤和鍍膜盤旋轉(zhuǎn)1轉(zhuǎn)和5轉(zhuǎn)，并且使用砂輪CS-10F。
如圖7所示，由于當(dāng)被測(cè)量的負(fù)荷范圍在50gf到750gf之間時(shí)會(huì)產(chǎn)生具有高于10％或更大的抖動(dòng)值的伺服誤差，所述負(fù)荷最好是在范圍250gf到500gf之間其抖動(dòng)值低于10％。
因此在使用鍍膜盤的情況下，由砂輪產(chǎn)生的負(fù)荷就量化至50gf到750gf，并且根據(jù)所述砂輪的類型被不同地設(shè)置。
即在挺度磨損測(cè)試中使用CS-10F砂輪的情況下，光盤的旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)并且將負(fù)荷控制在約為50gf到250gf的范圍內(nèi)。
在使用CS-10砂輪的情況下，光盤的旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)并且將負(fù)荷控制在約為150gf到450gf的范圍內(nèi)。
同樣在使用CS-17砂輪的條件下，光盤的旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)并且將負(fù)荷控制在約為250gf到750gf的范圍內(nèi)。
因此，在軟砂輪CS-10F到硬砂輪CS-17的所有情況下，光盤的表面負(fù)載都量化在50gf到750gf之間。
因此，光盤的旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)數(shù)就降低至低于10轉(zhuǎn)，由此將由砂輪產(chǎn)生的光盤磨損程度降到最低。其結(jié)果是能夠產(chǎn)生與現(xiàn)實(shí)生活中產(chǎn)生的劃痕非常類似的劃痕類型，從而增強(qiáng)了對(duì)光盤表面機(jī)械耐磨性測(cè)試的可靠度。
換句話說，現(xiàn)實(shí)生活中光盤上的劃痕是由少數(shù)幾次劃痕產(chǎn)生的，正相反的是砂輪的劃痕次數(shù)越多，通過使用挺度磨損測(cè)試器在光盤旋轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的劃痕就與現(xiàn)實(shí)生活中由光盤所處環(huán)境造成的磨損劃痕越不同。
由此，由劃痕引起的光盤表面機(jī)械耐磨性測(cè)試的可靠性就存在問題，而這也是根據(jù)傳統(tǒng)技術(shù)在光盤表面機(jī)械耐磨性測(cè)試中出現(xiàn)的最嚴(yán)重的問題。
根據(jù)本發(fā)明，由于通過量化的絕對(duì)基準(zhǔn)值將光盤的旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)數(shù)減少到最小1轉(zhuǎn)最大10轉(zhuǎn)，則通過讓劃痕類型最接近現(xiàn)實(shí)生活中的劃痕而增強(qiáng)了光盤表面機(jī)械耐磨性測(cè)試的可靠性。
同樣，也可通過光盤的最少1轉(zhuǎn)而在光盤表面生成劃痕來測(cè)試該光盤表面的耐磨性。其結(jié)果是能夠方便而精確地確定光盤質(zhì)量的好壞。
此外，光盤表面的機(jī)械特性能夠?qū)捎糜谥貜?fù)記錄再現(xiàn)的BD-RE和對(duì)可用于一次記錄再現(xiàn)的BD-WO進(jìn)行量化。
與此同時(shí)，根據(jù)本發(fā)明的用于測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性的裝置和方法從生產(chǎn)的光盤中抽取預(yù)定數(shù)目的光盤，并且對(duì)被抽取的光盤執(zhí)行機(jī)械耐磨性的測(cè)試。如果根據(jù)本發(fā)明所述光盤具有所述耐磨性，就可假設(shè)未被抽取用于測(cè)試的其他光盤也具有該機(jī)械耐磨性，即劃痕耐磨性。
工業(yè)適用性如上所述，根據(jù)本發(fā)明的用于測(cè)試光盤表面機(jī)械耐磨性的裝置和方法具有如下優(yōu)點(diǎn)。
第一，量化劃痕的產(chǎn)生程度以增強(qiáng)表面的機(jī)械特性，從而能夠根據(jù)對(duì)高密度光盤的實(shí)施而增強(qiáng)對(duì)數(shù)據(jù)的保護(hù)。
第二，因?yàn)槟軌蚍奖憔_地測(cè)試光盤質(zhì)量，所以就提高了光盤的可靠性。
第三，能夠在短時(shí)間內(nèi)形成盡可能多的劃痕，所以能夠縮短光盤表面機(jī)械耐磨性的測(cè)試時(shí)間并且能夠降低生產(chǎn)成本。
第四，根據(jù)本發(fā)明的用于測(cè)試機(jī)械耐磨性的方法可以令人滿意地應(yīng)用于可用于重復(fù)記錄再現(xiàn)的BD-RE以及可用于一次記錄再現(xiàn)的BD-WO。
本領(lǐng)域普通技術(shù)人員顯而易見的是能夠?qū)Ρ景l(fā)明做出各種修改和變化而不背離本發(fā)明精神和范圍。這樣，本發(fā)明旨在覆蓋來自所附權(quán)利要求以及等效物范圍內(nèi)的本發(fā)明的修改和變化。
權(quán)利要求
1.一種用于光盤表面劃痕耐磨性的裝置，包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)，在其上加載光盤并旋轉(zhuǎn)所述光盤；以及多個(gè)砂輪，所述砂輪接觸所述光盤表面以在所述光盤表面生成劃痕，所述劃痕在砂輪向光盤施加預(yù)定負(fù)荷的同時(shí)在所述光盤旋轉(zhuǎn)預(yù)定轉(zhuǎn)數(shù)期間產(chǎn)生，其中所述裝置通過把所述光盤表面產(chǎn)生的劃痕獲得的抖動(dòng)值和預(yù)定抖動(dòng)值比較來確定所述光盤是否具有預(yù)定的耐磨性。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述光盤是BD-RE(可重寫藍(lán)光盤)、BD-WO(一次寫入藍(lán)光盤)和BD-RO(只讀藍(lán)光盤)中的任何一種。
3.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述砂輪施加給所述光盤的負(fù)荷是在0.49N(50gf)到7.35N(750gf)之間。
4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，在所述光盤表面上產(chǎn)生的所述劃痕深度在0μm到2μm之間。
5.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述砂輪是CS-10F、CS-10和CS-17中的任何一種。
6.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述劃痕是在使用CS-10F砂輪并將0.49N(50gf)到2.45N(250gf)之間的負(fù)荷施加于所述光盤表面期間所述光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的。
7.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述劃痕是在使用CS-10砂輪并將1.47N(150gf)到4.41N(450gf)之間的負(fù)荷施加于所述光盤表面期間所述光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的。
8.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述劃痕是在使用CS-17砂輪并將2.45N(250gf)到7.35N(750gf)之間的負(fù)荷施加于所述光盤表面期間所述光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的。
9.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述砂輪的類型是CS-10F并且所述預(yù)定轉(zhuǎn)數(shù)是5轉(zhuǎn)。
10.一種用于測(cè)試光盤表面劃痕耐磨性的方法，包括使多個(gè)砂輪以預(yù)定負(fù)荷與所述光盤表面相接觸；保持所述光盤和所述砂輪之間的所述接觸直到所述光盤旋轉(zhuǎn)預(yù)定轉(zhuǎn)數(shù)；并且通過測(cè)量由再現(xiàn)記錄在所述光盤上的信息的信號(hào)所獲取的抖動(dòng)值來確定所述光盤是否具有預(yù)定的耐磨性。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述光盤是BD-RE(可重寫藍(lán)光盤)、BD-WO(一次寫入藍(lán)光盤)和BD-RO(只讀藍(lán)光盤)中的一種。
12.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述砂輪施加給所述光盤的負(fù)荷是在0.49N(50gf)到7.35N(750gf)之間。
13.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述砂輪是CS-10F、CS-10和CS-17中的任何一種。
14.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述劃痕是在使用CS-10F砂輪并將0.49N(50gf)到2.45N(250gf)之間的負(fù)荷施加于所述光盤表面期間所述光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的。
15.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述劃痕是在使用CS-10砂輪并將1.47N(150gf)到4.41N(450gf)之間的負(fù)荷施加于所述光盤表面期間所述光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的。
16.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述劃痕是在使用CS-17砂輪并將2.45N(250gf)到7.35N(750gf)之間的負(fù)荷施加于所述光盤表面期間所述光盤旋轉(zhuǎn)低于10轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生的。
17.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，還包括記錄帶有劃痕的光盤表面的信息，其中所述確定步驟通過把從記錄步驟中由再現(xiàn)記錄在所述光盤上的信息的信號(hào)所獲取的抖動(dòng)值和預(yù)定抖動(dòng)值比較來確定所述光盤是否具有預(yù)定的耐磨性。
18.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，如果所述抖動(dòng)值小于所述預(yù)定抖動(dòng)值就確定所述光盤具有預(yù)定的耐磨性。
19.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述砂輪的類型是CS-10F并且所述預(yù)定轉(zhuǎn)數(shù)是5轉(zhuǎn)。
20.如權(quán)利要求19所述的方法，其特征在于，所述光盤是BD-RE(可重寫藍(lán)光盤)或BD-WO(一次寫入藍(lán)光盤)。
21.如權(quán)利要求17所述的方法，其特征在于，所述砂輪施加給所述光盤的負(fù)荷在0.49N(50gf)到7.35N(750gf)之間。
22.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述確定步驟通過把從預(yù)先記錄在所述光盤上的信息中再現(xiàn)的信號(hào)所得的抖動(dòng)值和預(yù)定抖動(dòng)值比較來確定所述光盤是否具有預(yù)定的耐磨性。
23.如權(quán)利要求22所述的方法，其特征在于，所述光盤是BD-RO(只讀藍(lán)光盤)。
24.如權(quán)利要求23所述的方法，其特征在于，所述砂輪的類型是CS-10F并且所述預(yù)定轉(zhuǎn)數(shù)是5轉(zhuǎn)。
25.如權(quán)利要求22所述的方法，其特征在于，所述砂輪施加給所述光盤的負(fù)荷在0.49N(50gf)到7.35N(750gf)之間。
26.一種用于測(cè)試光盤表面劃痕耐磨性的方法，包括步驟使多個(gè)砂輪以預(yù)定負(fù)荷與光盤表面相接觸以在所述光盤表面產(chǎn)生劃痕；把再現(xiàn)記錄在所述光盤上的信息的信號(hào)所獲取的抖動(dòng)值和預(yù)定抖動(dòng)值比較；并且基于所述比較步驟的結(jié)果來確定所述光盤是否具有預(yù)定的耐磨性。
27.如權(quán)利要求26所述的方法，其特征在于，通過在所述光盤旋轉(zhuǎn)至至5轉(zhuǎn)期間保持所述光盤表面和所述砂輪之間的所述接觸來產(chǎn)生所述劃痕。
28.如權(quán)利要求26所述的方法，其特征在于，通過在所述光盤旋轉(zhuǎn)1轉(zhuǎn)至5轉(zhuǎn)期間保持所述光盤表面和所述砂輪之間的所述接觸來產(chǎn)生所述劃痕。
29.如權(quán)利要求26所述的方法，其特征在于，所述多個(gè)砂輪是兩個(gè)，并且每個(gè)砂輪的類型都是CS-10F。
30.一種光盤，所述光盤根據(jù)在前的權(quán)利要求的至少之一而與被測(cè)的光盤是由相同的制造工藝制作的。
31.一種信息記錄介質(zhì)，包括具有足夠的抵抗力或與劃痕無關(guān)的入口表面，所述信息記錄介質(zhì)可以被驗(yàn)證或者與通過測(cè)試而被驗(yàn)證的盤類型相同以確定所述信息記錄介質(zhì)表面是否具有足夠抵抗力，其中所述測(cè)試包括步驟是多個(gè)砂輪以預(yù)定負(fù)荷與所述信息記錄介質(zhì)表面相接觸以在所述信息記錄介質(zhì)表面產(chǎn)生劃痕，把由再現(xiàn)記錄在所述信息記錄介質(zhì)上的信息的信號(hào)所獲取的抖動(dòng)值和預(yù)定抖動(dòng)值比較，并且基于所述比較結(jié)果來確定所述信息記錄介質(zhì)是否具有預(yù)定的耐磨性。
全文摘要
揭示了一種用于測(cè)試光盤(30)表面機(jī)械耐磨性的裝置和方法，它包括其上固定有光盤(30)以產(chǎn)生劃痕并且旋轉(zhuǎn)該被固定光盤(30)的旋轉(zhuǎn)臺(tái)(20)；以及與旋轉(zhuǎn)臺(tái)(20)垂直放置的多個(gè)砂輪(10)，所述砂輪與所述光盤(30)的表面相接觸以在該光盤(30)表面生成劃痕，其中所述劃痕是在所述光盤旋轉(zhuǎn)預(yù)定轉(zhuǎn)數(shù)(例如低于10轉(zhuǎn))并且通過所述砂輪(10)將預(yù)定負(fù)荷施加給所述光盤(30)時(shí)產(chǎn)生的。
文檔編號(hào)G01N3/42GK1849506SQ200480026423
公開日2006年10月18日 申請(qǐng)日期2004年9月14日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月16日
發(fā)明者徐勛, 金真弘, 李承允, 金進(jìn)鏞 申請(qǐng)人:Lg電子株式會(huì)社