專利名稱：具有改良的輻射強度均勻性的輻射源和輻射掃描系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于檢查物體的內(nèi)容的輻射源和輻射掃描系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
輻射通常用于諸如行李、包裹、文件夾等的物體的非侵入檢測中，以在飛機場和公共建筑內(nèi)識別隱藏的違禁品。所述違禁品可以包括隱藏的槍支、刀具、爆炸裝置和非法藥品等。隨著犯罪分子和恐怖分子在他們隱藏違禁品的方式變得越來越具有創(chuàng)意，需要更為有效的非侵入檢測技術(shù)。在所攜帶的包和行李中走私違禁品到飛機上廣為人知，但是另外值得注意，很少公開但是也是比較嚴重的威脅的是在較大的貨物容器中經(jīng)過碼頭和通過船走私違禁品。通過船帶入美國的1700萬貨物容器只有2％-10％被檢測?！皺z查站恐怖行動”，美國新聞和世界報導，2002年2月11日，第52頁。
圖1是包括用輻射的垂直發(fā)散扇形射束掃描物體14的輻射源12的輻射掃描系統(tǒng)10的示意圖。檢測器18位于物體14之后，以檢測通過物體傳輸?shù)妮椛洹Ｋ鑫矬w通過運輸系統(tǒng)(未示出)水平地(移出紙面)移動通過垂直延伸的扇形射束16。通過所述物體14所發(fā)射的輻射通過所述物體和其容量被衰減到不同的程度。輻射的衰減是輻射通過其的材料的密度和原子成分的函數(shù)。衰減的輻射被檢測并且物體14的包含內(nèi)容的射線照相圖像被生成用于檢測。所述圖像顯示了所包含的內(nèi)容的形狀、尺寸和變化的密度。
為了檢查較大的物體(大于例如大約5英尺、1.5米厚)，輻射源10可以是包括電子源20和具有更高的原子數(shù)的靶材22(諸如鎢)的線性加速器。電子束24被顯示沿著軸線R通過電子源20和靶(target)22發(fā)射，被稱作為中心射線。電子束24沖擊靶22，導致X射線輻射束的產(chǎn)生。線性加速器在美國專利No.6,366,021B1、美國專利No.4,400,650和美國專利No.4,382,208中進行了詳細的說明，這些專利都轉(zhuǎn)讓給了本發(fā)明的受讓人，并此處并入以供參考。
輻射束通過源12的遠端上的瞄準儀(未示出)被校準為扇形射束16。扇形射束16在大約30度弧形上發(fā)射。扇形射束照射物體14的前表面14a。所述系統(tǒng)10可以被稱為線性掃描儀。
與中心射線對齊、在所述物體14的表面上的點A上的X射線束的強度是在最大值M上。X射線束18的強度隨著從中心射線R的角度的增加而減小。充其量，所述強度只在圍繞中心射線的較小的角度之上是基本均勻的。例如，對于一個9MeV(峰值強度)X射線束18，在大約+/-12度的角度上的射束的強度(通過貨物運輸工具18的表面11a上的點B、C所指示)沿著中心射線是大約在點A的強度的50％。用于掃描物體的更好的輻射掃描系統(tǒng)可以補償大約50％的強度落差。但是當從中心射線R在更高的角度上下降超過50％的強度，物體穿透和對比敏感性可能顯著地減小。輻射射束的強度也隨著源10和物體14之間的距離的增加而減小，作為距離的平方的函數(shù)。
標準的貨物容器典型地是20-50英尺長(6.1-15.2米)、8英尺高(2.4米)以及6-9英尺寬(1.8-2.7米)。用于容納多件行李或者其它貨物以存儲在飛機的機體中的航空貨物容器尺寸范圍是從大約35×21×21英寸(0.89×0.53×0.53米)到大約240×118×96英寸(6.1×3.0×2.4米)。海運貨物容器典型地大約是40英尺長、8英尺寬以及8英尺高。諸如多件行李的較大的海運貨物容器可以被支撐在平板架(pallet)上。具有支撐側(cè)壁的平板架可以具有與貨物容器可比較的尺寸。術(shù)語“貨物運輸工具”此處被用于包括貨物容器、海運容器和平板架。
為了用更為均勻的X射線束(在最大值的大約50％之內(nèi))照射較大的貨物運輸工具，源必須離開貨物運輸工具較遠。例如，為了用在大約24度(從中心射線+/-12度)的角度之上發(fā)射的垂直輻射束照射具有大約8英尺(2.4米)的貨物容器，所述源需要從貨物容器的表面大約19英尺(大約5.8米)。如果所述射束可以在大約120度角度之上發(fā)射(從中心射束大約+/-60度)。輻射源比在當前系統(tǒng)中更靠近所述物體的緊湊輻射掃描系統(tǒng)將是有利的。它們占據(jù)更小的空間，以及由于源和物體之間的距離而承受更小的輻射強度的下降。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的實施例，在檢測之下的物體的表面上的輻射束的強度分布通過對諸如電子的帶電粒子束沿著多個中心射線偏轉(zhuǎn)而改良以導致沖擊到靶材上沿著多個中心射束產(chǎn)生輻射束。沿著各中心射線的射束的數(shù)目越大，物體的表面上的輻射強度越均勻。實施例公開了沿著較大數(shù)目的中心射線有效偏轉(zhuǎn)帶電粒子束，這可以導致在物體的表面上產(chǎn)生更為均勻的輻射強度。
根據(jù)本發(fā)明的實施例，公開的輻射源包括殼體和殼體之內(nèi)的第一加速室以加速帶電粒子束，所述室的輸出部(output)。殼體之內(nèi)的第二室具有與第一室的輸出部對齊的輸入部以接收被加速的帶電粒子束。靶材在第二室內(nèi)被支撐。通過加速帶電粒子對靶材的沖擊導致輻射的產(chǎn)生。磁鐵通過靠近第二室的殼體所支撐，以提供磁場來在沖擊靶材之前偏轉(zhuǎn)被加速的帶電粒子束。所得到的輻射沿著被偏轉(zhuǎn)的射束的中心射線具有最大的強度。通過將所述射束偏轉(zhuǎn)一次或者多次和/或者不偏轉(zhuǎn)所述射束，可以產(chǎn)生多個輻射束，每個沿著不同的中心射線具有最大的強度，改良了對角向范圍的輻射強度的均勻性。
磁鐵可以產(chǎn)生時變場，并可以是電磁鐵。電磁鐵可以在第一方向上產(chǎn)生磁場，在與第一方相對的第二方向上產(chǎn)生磁場以及諸如關(guān)閉之間循環(huán)。帶電粒子束然后分別沿著第一軸偏轉(zhuǎn)，沿著第二軸偏轉(zhuǎn)以及不偏轉(zhuǎn)通過以沿著第一軸、第二軸和第三非偏轉(zhuǎn)軸沖擊靶。沿著各軸對靶進行沖擊所得到的輻射沿著各軸具有峰值強度。通過所得到的輻射所輻射的物體將由此被暴露到更為均勻的輻射強度。
可選地，磁鐵可以提供恒定磁場。磁鐵可以被配置以產(chǎn)生橫過帶電粒子束的寬度空間變化的磁場。所述束橫過所述寬度不同地偏轉(zhuǎn)。所述束可以諸如被會聚或者發(fā)散。為了將所述束暴露到空間變化的磁場，磁鐵可以具有不規(guī)則形狀的磁極(pole)部分。磁極部分可以是三角形和/或者可以通過諸如變化的距離分開。磁鐵可以是永久磁鐵或者電磁鐵。從偏轉(zhuǎn)射束的沖擊所獲得的輻射可以圍繞角向范圍具有基本均勻的強度。如此處所使用，術(shù)語“基本均勻的強度”意思是在包括磁鐵的輻射源的公差之內(nèi)所述強度是均勻的。
帶電粒子束可以是諸如電子束。靶可以是難熔金屬，諸如鎢。通過所述射束從靶的沖擊所獲得的輻射可以是諸如X射線輻射。
根據(jù)本發(fā)明的另外的實施例，公開了一種線性加速器，包括殼體。具有輸出部的加速室設置在所述殼體之內(nèi)。所述室具有與輸出部對齊的第一縱向軸。電子源通過所述殼體支撐以沿著第一縱向軸發(fā)射電子。管包括具有第二縱向軸的通道，具有與連接到所述室的輸出部的輸入部的第一端，這樣第二縱向軸與第一縱向軸對齊。靶材被支撐在所述管之內(nèi)。磁鐵通過殼體所支撐。磁鐵具有部分圍繞所述管的相對磁極，以在沖擊所述靶之前提供磁場來偏轉(zhuǎn)電子束。
根據(jù)本發(fā)明的實施例，公開了一種輻射源，包括殼體和通過殼體所支撐的帶電粒子源。靶材通過殼體沿著帶電粒子的路徑所支撐。帶電粒子與所述靶的沖擊導致輻射的產(chǎn)生。磁鐵通過源和靶之間的殼體所支撐。
根據(jù)本發(fā)明的另外的實施例，用于檢測物體的系統(tǒng)被公開，包括輸送系統(tǒng)，以將所述物體移動通過所述系統(tǒng)和輻射源。輻射源包括殼體和通過所述殼體所支撐的帶電粒子束源。帶電粒子束源具有輸出部以沿著路徑提供射束。靶材通過殼體沿著所述路徑所支撐。靶材在用射束沖擊所述靶時產(chǎn)生輻射。磁鐵通過殼體支撐并部分圍繞縱向路徑，以在沖擊所述靶之前提供磁場來偏轉(zhuǎn)所述射束。輻射源相對傳輸系統(tǒng)安置，這樣通過所述源所發(fā)射的輻射輻射傳輸系統(tǒng)上的用于檢測的物體。檢測器被安置以接收與所述物體相互作用的輻射。所述物體可以用基本均勻的強度輻射。如上所述，此處所使用的術(shù)語“基本均勻的強度”意思是在包括磁鐵的輻射源的公差之內(nèi)強度均勻。
輻射源可以在傳輸系統(tǒng)的第一側(cè)上，檢測器可以位于傳輸系統(tǒng)的第二側(cè)上，以檢測通過所述物體傳輸?shù)妮椛?。輻射源可以被如上所述配置。輻射源可以具有第一縱向軸，輻射束可以沿著橫過第一軸的第二軸具有中心射線，以輻射沒有與輻射源的縱向軸對齊的物體。
根據(jù)本發(fā)明的另外的實施例，公開了一種產(chǎn)生輻射的方法，包括將帶電粒子束朝向靶指引，通過被偏轉(zhuǎn)的射束偏轉(zhuǎn)所述射束并沖擊所述靶。所述靶可以通過提供磁場偏轉(zhuǎn)，所述磁場可以是時變磁場或者恒定磁場。恒定磁場可以橫過帶電粒子束的寬度而空間地變化，以不同地偏轉(zhuǎn)所述射束。
根據(jù)本發(fā)明的另外的實施例，公開了一種用輻射源檢查物體的包含的內(nèi)容的方法，包括將帶電粒子束沿著縱向路徑朝向靶指引，偏轉(zhuǎn)所述射束并通過所偏轉(zhuǎn)的射束沖擊所述靶以產(chǎn)生輻射。所述方法還包括將物體用所述輻射來輻射并檢測與所述物體交互作用的輻射。


圖1是包括用垂直發(fā)散輻射扇形射束掃描物體的輻射源的現(xiàn)有技術(shù)的輻射掃描系統(tǒng)的示意圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明的實施例的諸如線性加速器的輻射源的示例的示意軸向橫截面視圖；圖3是可以設置在圖2的線性加速器的遠端部分中的電磁鐵的示意表示的主視圖；圖4是沿著箭頭4的圖3的電磁鐵的磁極的側(cè)視圖，顯示了當電磁鐵沒有通過電流所驅(qū)動時的輻射束；圖5是當電磁鐵通過第一方向上的電路所驅(qū)動時，如圖4所示的磁極的側(cè)視圖，以及所得的偏轉(zhuǎn)輻射束；圖6是當電磁鐵通過在第二方向(與第一方向相對)上通過電流所驅(qū)動時如圖4所示的磁極的側(cè)視圖以及所得的偏轉(zhuǎn)輻射束；圖7顯示了圖4-6的輻射束，所述輻射束通過根據(jù)圖3的實施例的源所產(chǎn)生，照射了貨物運輸工具的表面；圖8是使用在圖3的實施例中的靶的主視圖；圖9是電流(I)對時間(T)的視圖，顯示了正弦變化電流的示例；
圖10是使用在本發(fā)明的另外的實施例中的永久磁鐵的示例的主視圖；圖11顯示了沿著圖10的實施例的永久磁鐵的磁極的側(cè)視圖，顯示了三角形磁極和所得的偏轉(zhuǎn)電子束；圖12是圖11的側(cè)視圖，顯示了在沖擊靶之前彼此交叉的電子束的最上和最下部分；圖13是使用在圖10的實施例中的細長靶的主視圖；圖14是圖11、12的側(cè)視圖，磁鐵的極性反轉(zhuǎn)，顯示了向下偏轉(zhuǎn)的電子束和發(fā)散；圖15是具有相對、向內(nèi)錐化磁極表面的磁極部分的永久磁鐵的主視圖；圖16說明了用輻射束照射貨物運輸工具的表面的輻射源，所述源的軸沒有與貨物運輸工具對齊；以及圖17是根據(jù)本發(fā)明的實施例的X射線掃描系統(tǒng)的主視圖。
具體實施例方式
圖2是根據(jù)本發(fā)明的實施例的輻射源100的示例的示意軸向橫截面圖，其中帶電粒子束被加速并朝向靶(target)指引以產(chǎn)生輻射。帶電粒子可以是電子或者質(zhì)子。所得的輻射可以是X射線輻射，伽馬射線輻射、或者諸如中子。
在一個示例中，源100是加速器，諸如線性加速器，產(chǎn)生X射線輻射。線性加速器100可以是諸如帶電粒子駐波加速器。線性加速器100包括具有體部分100b和遠端部分100c的殼體100a。體部分100a包括電磁耦合鏈，具有被對齊的中心射束孔106的環(huán)形共振室102、104。在室鏈的一端上的電子槍108通過所述孔106發(fā)射電子束110。所述源100也可以是電子感應加速器或者回旋加速器。
在遠端部分100b，漂移管114的第一端被連接到室鏈的第二端。諸如鎢的靶112設置在漂移管(drift tube)114的第二端上。靶112可以是圓盤形的或者是橢圓形的，如下進一步討論。靶材可以是具有較高原子數(shù)和較高熔點的其它材料，諸如難熔金屬。磁鐵116圍繞漂移管114設置。諸如鎢的屏蔽材料118圍繞磁鐵116和漂移管114。室102、104通過“側(cè)”或者“耦合”室120電磁連接在一起，所述“側(cè)”或者“耦合”室120通過可變光闌(iris)122連接到相鄰的室對的每個。所述室中是真空的。微波能量沿著所述鏈通過可變光闌進入所述室之一以加速電子束110。線性加速器體100a通過微波能量在靠近其共振頻率的頻率上激發(fā)(諸如在大約1000至大約10,000MHz之間)。在被加速之后，電子束110擊打靶112，導致X射線輻射的發(fā)射。
可移動活塞或者探測器126可以徑向延伸到連接室128之一中以變化加速電子的能量，以在多個能量上產(chǎn)生輻射束。一個探測器122被顯示在圖2中。對應的探測器被設置在所述探測器122之后的室124并不能從此視圖中觀察到。探測器122在計算機程序的控制下移動以改變室之內(nèi)的磁場。在電子束110沖擊所述靶而通過電子產(chǎn)生輻射的能量由此變化。這樣的線性加速器100在美國專利No.6,366,021B1中進行了更為詳細的說明，這也轉(zhuǎn)讓給了本發(fā)明的受讓人，并此此處并入以供參考。線性加速器也在美國專利No.4,400,650和美國專利No.4,382,208中進行了說明，這也轉(zhuǎn)讓給了本發(fā)明的受讓人，并此此處并入以供參考。
根據(jù)本發(fā)明的實施例，可發(fā)射時變磁場或者恒定磁場的磁鐵116可選地偏轉(zhuǎn)電子束110，這樣其在從初始束58的中心軸線偏移的一個或者多個位置上沖擊所述靶112，改變了所得的輻射束的中心射線，這將在下面進行詳細的說明。磁鐵116可以是產(chǎn)生時變磁場或者恒定磁場的電磁鐵，永久磁鐵產(chǎn)生恒定磁場，或者這兩個的組合。
圖3是可以設置在線性加速器100的遠端部分100b中的電磁鐵150的示意表示的主視圖。電磁鐵可以包括鐵磁或者順磁材料的馬蹄鐵形芯部152。鐵、鎳或者鋁-鎳-鈷合金，諸如可以使用諸如鋁鎳鈷合金(Alnico)。芯部52限定相對的磁極表面154、156。線圈158纏繞所述芯部152，所述芯部152連接到電流源160?？刂破?62連接到電流源以控制電流源的操作。控制器162可以是電流源160的一部分或者從電流源160分離。為了產(chǎn)生時變電流，控制器162可以是處理器。如果恒定的電流被產(chǎn)生，控制器162可以是開合開關(guān)或者諸如具有可變的設置。流經(jīng)線圈158的電流在芯部152中以及磁極表面154、156之間感應磁場。磁極表面154、156之間的磁場的方向和大小隨著線圈中的電流的方向的改變而變化。電子束110被限制在磁極表面152、154之間。
圖4是沿著圖3中的箭頭4的磁極154的側(cè)視圖。磁極156直接位于磁極154之后并沒有在磁視圖中指示。靶112也被顯示。沒有電流流經(jīng)線圈158并且在磁極表面之間沒有產(chǎn)生磁場。在加速體110a加速之后(未在此視圖中顯示)，電子束110沿著中間射束R0傳輸并沖擊靶112。輻射束170被產(chǎn)生，并圍繞中心射線R0位于中心。輻射束170可以校準為所需角度(諸如大約20度角度)的扇形射束。輻射束170沿著中心射束R0具有峰值強度M，如圖7所示。
當交流電在第一方向上流經(jīng)線圈158時，圖5是沿著圖3的箭頭4的磁極154的側(cè)視圖。磁場從磁極156流動到圖3中的磁極154。電子束110通過磁場在相對中心射線R0的+α的角度上沿著第一偏轉(zhuǎn)中心射線R1被偏轉(zhuǎn)。電子束110沿著第一偏轉(zhuǎn)中心射線R1沖擊靶112，導致圍繞第一偏轉(zhuǎn)中心射線R1定中心的輻射束172的產(chǎn)生。輻射束172可以被校準到諸如大約20度的所述角度的扇形射束。輻射束172具有沿著第一偏轉(zhuǎn)中心射線R1的峰值強度M，如圖7所示。
當交流電在第二方向(與第一方向相對)上流動時，圖6是沿著圖3中的箭頭4的側(cè)視圖。磁場在圖3中從磁極154流動到磁極156。電子束沿著第二偏轉(zhuǎn)中心射線R2在相對中心射線R0的角度-α上通過所述射束偏轉(zhuǎn)。電子束110沿著第二偏轉(zhuǎn)射線R2沖擊靶112并產(chǎn)生輻射束174，其圍繞第二偏轉(zhuǎn)射線R2定中心(centered)。輻射束174可以被校準到諸如大約20度的所述角度的扇形射束。輻射束174的峰值強度M是沿著第二偏轉(zhuǎn)射線R2，如圖7中所示。
圖7顯示根據(jù)本發(fā)明的此實施例通過源100所產(chǎn)生的分別圍繞三個中心射線R0、R1、R2為中心的輻射束170、172、174，照射貨物傳輸工具176。各射束延伸超過大約20度的角度。優(yōu)選地，射束重疊它們的表面176a的覆蓋，以保證表面被完全照射。由于各射束170、172、174只需要照明貨物運輸工具176的表面176a的一部分，其可以在比諸如在圖1的現(xiàn)有技術(shù)中的單個射束更小的角度之上發(fā)射。當從各中心射線的角度增加時橫過各射束的強度下降將比在使用單個射束時要小。表面176a上的三個點D、E、F每個接收輻射的峰值強度M，比現(xiàn)有技術(shù)更靠近峰值強度點的表面的剩余部分也將接收具有更高強度的輻射。此外，多個射束被用于照射物體的表面，所述源可以比當單個源必須照射整個物體表面時更靠近所述物體。由于距離所導致的強度的下降由此也更小。
在圖4-6中，電子束110的直徑D1和靶112的寬度W2為了說明的方便被夸大。用于電子束110的典型的直徑D1是從大約1至大約3mm。用于盤形靶的典型的寬度W2是從大約2-大約5mm。為了容納電子束110的偏轉(zhuǎn)，靶112可以形狀如橢圓，如圖8所示。如果電子束110具有大約1mm的直徑D1，橢圓可以具有從大約5-大約6mm的縱向軸E1，以及諸如大約2mm的短軸E2。電子束110沿著中心射線R0、R1、R2的沖擊位置的示例被顯示。沖擊位置可以或者沒有重疊。
磁場可以是迅速循環(huán)防止關(guān)閉，如圖4所示，以產(chǎn)生從磁極156到磁極154的磁場以導致正偏轉(zhuǎn)，如圖5所示，以產(chǎn)生從磁極154到磁極156的磁場以導致負偏轉(zhuǎn)，如圖6所示，并在處理器162的控制之下回到關(guān)閉狀態(tài)。例如，一周(關(guān)閉——正偏轉(zhuǎn)——負偏轉(zhuǎn)——關(guān)閉)可以具有大約20微秒。周期的頻率可以大約是50Hz。
圖9是電流(I)對時間(T)的視圖，顯示了在圖3的控制器162的控制之下通過電流源160所產(chǎn)生的正弦時變電流180的示例。電流180的最大值182、最小值184和零點186可以與線性加速器(諸如LINAC)的各脈沖相協(xié)調(diào)，以在這些各點上產(chǎn)生電子束。例如，這樣的電子束分別將在點186(如圖4所示)上未偏轉(zhuǎn)，在點182(圖5所示)上正偏轉(zhuǎn)以及在點(圖6所示)上負偏轉(zhuǎn)。LINAC可以在諸如每20微秒，50Hz頻率上發(fā)射脈沖。脈沖不需要在電流曲線的最大值、最小值和零點上發(fā)射。脈沖可以沿著所述曲線在任何所需的點上被發(fā)射。
通過迅速地偏轉(zhuǎn)電子束110，并且由此所得的輻射束的中心射線R0、R1、R2，貨物運輸工具176的大部分表面176a，或者其它這樣的物體可以被暴露給最高強度的輻射并且整體上，所述表面可以比如果單個輻射束被用于照明整個表面時(如圖1的現(xiàn)有技術(shù)中所示)被暴露給更高的輻射強度。
盡管三個射束通常是足夠的，更多的射束可以被使用，特別是對更大的物體。例如5射束可以用垂直扇形射束輻射具有大約8英尺(2.4米)高度的貨物運輸工具。例如，兩個額外的輻射束(一個在中心射線R0和R1之間，另外一個在中心射束R0和R2之間)可以分別在圖9的曲線上的點192、194上產(chǎn)生。兩個射束也可以提供一些改良，特別是對更小的物體。輻射強度將在貨物運輸工具176的表面上的最大輻射強度的50％之內(nèi)的角向范圍根據(jù)此實施例可以增加兩倍或者更多倍，這依賴于被偏轉(zhuǎn)的射束的次數(shù)。貨物運輸工具176的整個表面可以由此用在最大輻射的50％之內(nèi)的輻射來進行輻射，而不需要將輻射源100如同現(xiàn)有技術(shù)中那樣從貨物運輸工具遠離。
電子束的角度可以在處理器162的控制下在最大正偏轉(zhuǎn)+α和最大負偏轉(zhuǎn)-α之間通過對線圈158施加時變電流來產(chǎn)生時變磁場來連續(xù)地轉(zhuǎn)移。時變電流和所得的時變磁場可以是諸如正弦的。貨物運輸工具176的表面176a上的各點然后可以暴露給最大強度M。
磁鐵116也可以是永久磁鐵，產(chǎn)生時間不變(恒定)磁場。在此情況下，所產(chǎn)生的磁場橫過電子束110空間變化以導致電子束的偏轉(zhuǎn)中的不同的變化。永久磁鐵可以是具有與圖3中的芯部152相同或者相似形狀的馬蹄鐵磁鐵。磁鐵也可以具有其它的形狀。圖10是這樣的永久磁鐵200的示例的主視圖，具有相對磁極表面202a、204a的磁極部分202、204。永久磁鐵116也可以包括一對或者多對永久磁鐵，具有相對的磁極部分。永久磁鐵可以是鐵磁材料，諸如鐵、鈷和鎳。
橫過所述射束110空間變化的磁場可以用不同的方式來產(chǎn)生。例如，空間不均勻的磁場可以通過永久磁鐵用不規(guī)則的形狀的磁極所產(chǎn)生。圖11是沿著馬蹄鐵形的永久磁鐵的磁極的側(cè)視圖，這與圖4-6的側(cè)視圖相似，顯示了三角形的磁極202。磁極204之后的相對磁極不能在此視圖中觀察。電子束110、靶112和貨物運輸工具206也顯示在圖11中。
在磁極表面202a、202b之間所產(chǎn)生的磁場是均勻的。但是，通過所述空間的電子束110的不同部分將具有通過磁場的不同的路徑長度。例如，在圖11中，電子束110的最上部分110a將具有比最下部分110b通過磁場的更短的路徑長度。最上部分110a的中心射線R3和最下部分R4的中心射線R4也被顯示。由于通過磁場的電子束110的偏轉(zhuǎn)度數(shù)部分依賴于通過所述場的路徑長度，電子束110的最上部分110a的偏轉(zhuǎn)(沿著被偏轉(zhuǎn)的中心射線R5)將比最下部分110b被偏轉(zhuǎn)(沿著中心射線R6)的更少。由于通過磁場的路徑長度沿著箭頭A在從磁極表面202a、204a到磁極表面的下表面206、207的磁極表面202a、204a(參看圖10)之間的空間中增加，電子束110的偏轉(zhuǎn)角度也沿著箭頭A在橫過電子束110的直徑“D”(從電子束的上點110a到射束的下點110b)增加。例如最上部分110a可以偏轉(zhuǎn)大約5度同時最小部分110b偏轉(zhuǎn)大約20度。偏轉(zhuǎn)在此結(jié)構(gòu)中是向上的。由此，部分110a、110b會聚。最上部分和最下部分之間的電子束部分被偏轉(zhuǎn)到中間度數(shù)，這依賴于各路徑長度。
靶112上的電子束的最上部分110a和最下部分110b的沖擊產(chǎn)生輻射束，分別具有偏轉(zhuǎn)中心射線R7、R8，與被偏轉(zhuǎn)的中心射線R5、R6對齊。圍繞中心射線R7、R8為中心的輻射束具有峰值強度M。沿著中心射線R7、R8的輻射將優(yōu)先地在運輸工具的側(cè)面210、212上或者靠近側(cè)面210、212上沖擊貨物運輸工具206的表面208。電子束110的中間部分也將導致輻射(未示出)的中心射線的產(chǎn)生，其將在中心射線R7、R8之間的位置上沖擊貨物運輸工具206的表面208。整個表面208由此可以通過基本均勻強度M來照射。此處，“基本均勻強度”意味著在包括磁鐵的輻射源的公差之內(nèi)貨物運輸工具206的表面208上所述強度是均勻的。
在圖11的結(jié)構(gòu)中，中心射線R7、R8在照射貨物運輸工具203之前彼此交叉。偏轉(zhuǎn)可能交替地導致電子束110的最上和最下部分110a、110b在沖擊靶112之前彼此交叉，如圖12所示，這依賴于磁場的相對強度、路徑長度和磁極表面202，靶112和貨物運輸工具203的相對位置。在其它的布置中，電子束110的部分110a、110b或者輻射R7、R8的中心射線都不交叉。
優(yōu)選地，會聚電子束沒有聚焦到靶112上的單個點上，以避免靶被燒毀。會聚射束可能在從例如大約1mm到大約2mm的靶112上的焦點上會聚，以避免燒毀所述靶112。靶112可以延伸以容納更寬的焦點，如圖13所示。在圖13中，靶112是橢圓形的，焦點P也是。但是其可以具有其它形狀諸如矩形。焦點P也被顯示。焦點P可以是諸如橢圓形的。
盡管焦點P可以變長，通過表面208所接收的X射線輻射只通過焦點P的一部分來發(fā)射。例如，沿著射線R8所發(fā)射的輻射以及沖擊表面208的上部部分主要從沿著射線R6通過電子束110b的一部分所沖擊的焦點P的上部部分P1發(fā)射。相似地，沿著射線R7發(fā)射的輻射通常沿著焦點P的下部部分P2上的射線R5主要通過電子束110的一部分110a的沖擊所產(chǎn)生。因此，即使焦點通過磁場對電子束的發(fā)散而展開，表面208的各部分將只通過從焦點的更小部分發(fā)射的輻射所照射。用于輻射束的部分的有效焦點因此比實際的焦點P更小，通過所述射束所輻射的貨物運輸工具206的圖像的空間分辨率不會降低。
如果磁鐵200的極性被反轉(zhuǎn)，電子束110將向下偏轉(zhuǎn)并如圖14所示發(fā)散。橫過中心射線R9的電子束110的最上部分110a將比橫過中心射線R10的最下部分110b向下偏轉(zhuǎn)的更小。最上部分110a可以沿著諸如被偏轉(zhuǎn)的中心射線R11偏轉(zhuǎn)-α1角度同時最下部分110b可以沿著諸如偏轉(zhuǎn)中心射線R12偏轉(zhuǎn)-α角度。沿著中心射線R11的電子束的沖擊到靶112上將產(chǎn)生具有中心射線R13的輻射束。沿著中心射線R12的電子束的沖擊將產(chǎn)生具有中心射線R14的輻射束。源100和貨物運輸工具206在此視圖中未示出，但是很明顯所述源可以相對運輸工具安置，這樣圍繞中心射線R13、R14的射線束將照射運輸工具的側(cè)壁上或者附近的運輸工具的前表面，如圖10所示。最上和最下部分110a、110b之間的電子束110部分將橫過用于最上至最下部分的射束被偏轉(zhuǎn)到逐漸增加的度數(shù)，照射貨物運輸工具206的表面208的剩余部分。優(yōu)選地，靶112是細長的，如圖11所示，以容納拉伸的焦點。如上所述，產(chǎn)生輻射束的電子束110的部分的沖擊的有效焦點將比靶112上的實際焦點更小，使得通過所述射束所照射的貨物運輸工具206的圖像的空間分辨率上的任何負沖擊最小化。
非均勻磁場也可以通過變化磁極表面之間的距離而產(chǎn)生。圖15是分別具有磁極302、304的永久磁鐵300的主視圖，所述磁極302、304具有相對的磁極表面302a、304a。磁極表面朝向彼此錐化。錐形是從各表面302、304的上部分到下部分沿著圖15的箭頭的向內(nèi)的錐形。所述錐形也可以反過來。
磁極表面302a、304a越靠近，磁場強度越強。在圖13中，電子束110a的上部部分被暴露到更弱的磁場，并比所述射束的下部部分110b偏轉(zhuǎn)的更小。根據(jù)磁場的方向，電子束110將向上偏轉(zhuǎn)并會聚，或者向下偏轉(zhuǎn)并發(fā)散。如上所述，電子束110通過所述射束的非均勻彎曲而發(fā)散，使得焦點變寬。X射線輻射由此只通過焦點的一部分所發(fā)射。有效焦點由此比實際的焦點更小。
不規(guī)則形狀的磁極和磁極之間變化的距離也可以被用于控制電子束的偏轉(zhuǎn)。
圖10和15的磁場200、300也可以是電磁鐵，諸如圖3中的電磁鐵150。在這種情況下，電流源160可以在控制器162的控制下產(chǎn)生恒定的電流。磁極表面202a、204a和302a、304a之間的空間中的磁場的空間變化可以被產(chǎn)生如上所述相對圖10-15。
此外，圖3中的磁鐵可以是永久磁鐵。通過永久磁鐵150所建立的恒定磁場可以通過在恒定磁場之上施加時變磁場所變化。例如，電流源160可以在線圈158中提供時變電流(參考圖9)，其將感應恒定磁場的大小變化的磁場。
輻射束的平均方向也將被轉(zhuǎn)移。圖16是用輻射束352照射貨物運輸工具350的表面350a的俯視圖，源的縱向軸R沒有與貨物運輸工具對齊，并可能甚至沒有相交。輻射束352的中心射線R15可以沿著橫過縱向軸R的軸線所指引，朝向貨物運輸工具350。此將對防止這樣的對齊的空間限制是有利的。例如，大約30度的中心射線R15的偏轉(zhuǎn)在特定的結(jié)構(gòu)中將是有用的。
具有永久磁鐵芯部的電磁鐵可以用于轉(zhuǎn)移平均射束方向并橫過物體的表面提供改良均勻的輻射束強度。通過永久磁鐵所產(chǎn)生的磁場可能導致磁場的平均方向的轉(zhuǎn)移同時所感應的時變磁場可能對輻射束的中心射線轉(zhuǎn)移輻射束的平均方向。
在如上所述的實施例中，為了通過磁場用大約1cm的路徑長度在電子束(或者其一部分)中導致20度偏轉(zhuǎn)，將需要大約1800高斯的磁場強度。如果路徑長度大約是2cm，磁場強度將大約是900高斯?？梢允褂脴藴实挠谰么盆F。
圖17是根據(jù)本發(fā)明的實施例的X射線掃描系統(tǒng)400的示例。貨物運輸工具402或者其它將被檢測的這樣的物體通過根據(jù)本發(fā)明的實施例的輻射源406和通過傳輸系統(tǒng)410的靜止檢測器陣列408之間的屏蔽通道404所傳輸。輻射源406可以是如上所述的任何的輻射源。輻射束被校準為垂直扇形射束412。窗414、416被設置在通道404的壁中以允許輻射從源406通過至貨物傳輸供給402并從貨物運輸工具402到檢測器陣列408。檢測器陣列408也可以設置在屏蔽通道404之內(nèi)，在這種情況下，將只需要一個窗口414a。傳輸系統(tǒng)410可以包括導致輻射較低減弱的材料的機械驅(qū)動帶。傳輸系統(tǒng)410也包括機械驅(qū)動輥，輥之間的間隙用于允許輻射通過。屏蔽壁418圍繞源406、檢測器408和傳輸系統(tǒng)410的一部分。開口(未示出)被設置在用于貨物運輸工具406的屏蔽壁418中以通過傳輸系統(tǒng)410被傳輸?shù)綊呙柘到y(tǒng)中和從掃描系統(tǒng)中傳輸出。根據(jù)本發(fā)明的第二靜止源(未示出)可以設置在傳輸系統(tǒng)410之上，以及第二靜止檢測器(未示出)可以設置在傳輸系統(tǒng)之下(或者反過來)，以從另外的角度檢查所述物體10。如果需要，輻射源406可以在多個能量上發(fā)射輻射。替代或者除了檢測器陣列408之外，檢測器可以相對貨物運輸工具402安置在其它位置中以檢測發(fā)散的輻射。
檢測器408通過模數(shù)轉(zhuǎn)換器422電學連接到處理器420，諸如計算機。處理器420重構(gòu)通過檢測器陣列408輸出的數(shù)據(jù)為可以顯示在現(xiàn)場或者另外的位置的監(jiān)視器424上的圖像。圖像可以被分析以檢測違禁品、諸如槍、刀具、爆炸材料、核材料和毒品。圖像也可以也可以用于諸如載貨清單證明。盡管一個處理器420和A/D轉(zhuǎn)換器422被顯示，額外的處理器、A/D轉(zhuǎn)換器和其它信號處理電路可以被設置，這在本領(lǐng)域中是公知的。
為了檢測扇形射束，檢測器408可以是包括檢測器元件的一維檢測器陣列，這在本領(lǐng)域中是公知的。各一維檢測器模塊可以包括單行的多個檢測器元件。檢測器元件可以包括輻射敏感檢測器，諸如閃爍體，以及光敏檢測器，諸如光電管或者光電二極管，這在本領(lǐng)域中是公知的。較高密度的閃爍體諸如鎘鎢酸鹽閃爍體，可以被使用。鎘鎢酸鹽閃爍體可以從SaintGobain Crystals，Solon，Ohio，U.S.A或者Spectra-physics，HilgerCrystals，Kent，U.K.獲得，密度是每立方厘米8克。具有從大約10％到大約80％或者更大的檢測效率的檢測器模塊被優(yōu)選地使用，這依賴于輻射束412的輻射光譜。多個彼此靠近分開的平行扇形射束可以通過一個或者多個瞄準儀所限定。在其它的情況下，一行一維檢測器可以對各扇形射束所提供。
除了扇形射束外，輻射束可以被校準為錐形射束，在這種情況下檢測器408可以是包括二維檢測器模塊的檢測器陣列。
在一個示例中，源406從貨物運輸工具402的表面402a以大約2.5英尺(0.8米)的距離W1所分開。貨物運輸工具402具有大約8英尺(2.4米)的高度。輻射的垂直扇形射束412可以在大約120度的角度之上通過源406發(fā)射以在運輸工具通過垂直扇形射束時輻射貨物運輸工具402的表面402a。橫過貨物運輸工具的高度的密度變化可以小于50％和/或者強度可以基本均勻，這依賴于如上所述的輻射源406的結(jié)構(gòu)。所述系統(tǒng)400的寬度W2可以諸如大約是16.5英寸(大約5.03米)。輻射源的峰值能量可以依賴于貨物運輸工具的尺寸。例如，如果貨物容器具有大約8英尺(2.4米)的厚度，峰值能量可以是6MeV或者更大?？杀痊F(xiàn)有技術(shù)系統(tǒng)可能具有大約34英尺(10.4米)或者更大的可比寬度。
任一普通技術(shù)人員可以知道在不背離本發(fā)明的范圍的情況下對本發(fā)明進行修改，其范圍落入權(quán)利要求書的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種輻射源，包括殼體；殼體之內(nèi)的第一加速室以加速帶電粒子束，所述第一室具有輸出部；殼體之內(nèi)的第二室，第二室具有與第一室的輸出部對齊的輸入部以接收被加速的帶電粒子束；在第二室內(nèi)被支撐的靶材，其中通過加速帶電粒子對靶材的沖擊導致輻射的產(chǎn)生；以及通過靠近第二室的殼體所支撐的磁鐵，以提供磁場來在沖擊靶材之前偏轉(zhuǎn)被加速的帶電粒子束。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射源，其特征在于，磁鐵在操作的過程中提供時變磁場。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輻射源，其特征在于，磁鐵是電磁鐵。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的輻射源，其特征在于，電磁鐵包括限定第一和第二相對磁極表面的芯部，其中所述芯部包括其中可以感應磁場的材料；圍繞至少所述芯部的一部分的線圈；連接到所述線圈的電流源；以及連接到所述電流源的控制器。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的輻射源，其特征在于，所述芯部包括磁性材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的輻射源，其特征在于，控制器可選地導致所述電流在至少第一方向上流動以提供磁場來沿著第一軸偏轉(zhuǎn)所述射束。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的輻射源，其特征在于，控制器可選地導致所述電流在與第一方向相對的第二方向上流動以產(chǎn)生第二磁場來沿著第二軸偏轉(zhuǎn)所述射束。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的輻射源，其特征在于，控制器可選地沒有導致電流流動，以允許所述射束沿著第三軸未偏轉(zhuǎn)傳輸。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的輻射源，其特征在于，控制器被編程以在第一方向上導致電流流動、導致電流在第二方向上流動和沒有導致電流流動之中重復循環(huán)。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的輻射源，其特征在于，控制器可選地沒有導致電流流動，以允許所述射束沿著第二軸未偏轉(zhuǎn)傳輸。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射源，其特征在于，磁鐵提供恒定磁場。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的輻射源，其特征在于磁鐵具有相對磁極部分；帶電粒子束沿著相對磁極部分之間的路徑傳輸；帶電粒子束具有寬度；以及磁極部分被構(gòu)造，這樣射束的一部分具有通過橫過所述射束的寬度、在磁極部分之間設置的磁場的不同路徑長度。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的輻射源，其特征在于，磁極部分是不規(guī)則形狀的。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的輻射源，其特征在于，磁極部分是三角形的。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的輻射源，其特征在于，磁極部分通過變化的距離所分開。
16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的輻射源，其特征在于，磁鐵是永久磁鐵。
17.根據(jù)權(quán)利要求11所述的輻射源，其特征在于，磁鐵是電磁鐵。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射源，其特征在于第一室和第二室具有對齊的縱向軸，沿著所述縱向軸傳輸所述射束；以及靶與縱向軸對齊。
19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射源，其特征在于，還包括通過殼體所支撐的帶電粒子束源以將所述射束發(fā)射到第一室中。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的輻射源，其特征在于帶電粒子源是電子束源；以及通過所述射束對靶的沖擊導致X射線輻射的產(chǎn)生。
21.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射源，其特征在于，靶是鎢。
22.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射源，其特征在于，靶沿著射束的偏轉(zhuǎn)方向是細長的。
23.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射源，其特征在于殼體具有縱向軸；以及所述輻射沿著橫過縱向軸的中心射線所發(fā)射。
24.一種線性加速器，包括殼體；殼體之內(nèi)的加速室，所示室具有輸出部和與輸出部對齊的第一縱向軸；通過殼體所支撐的電子源，以沿著第一縱向軸發(fā)射電子；管，所述管包括具有第二縱向軸的通道，所述管具有第一端，所述第一端具有連接到所述室的輸出部的輸入部，這樣第二縱向軸與第一縱向軸對齊；在所述管之內(nèi)沿著電子的路徑所支撐的靶材，其中通過電子對靶的沖擊產(chǎn)生X射線輻射；以及通過殼體所支撐的磁鐵，所述磁鐵具有朝向所述管的相對磁極部分，以提供通過所述管的磁場，以在沖擊所述靶之前偏轉(zhuǎn)電子。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的線性加速器，其特征在于，磁鐵在操作的過程中提供時變磁場。
26.根據(jù)權(quán)利要求24所述的線性加速器，其特征在于，磁鐵在操作的過程中提供恒定磁場。
27.根據(jù)權(quán)利要求25所述的線性加速器，其特征在于，靶材包括難熔金屬。
28.一種輻射源，包括殼體；通過殼體所支撐的帶電粒子束源，以沿著路徑發(fā)射所述射束；通過所述殼體沿著所述射束的路徑所支撐的靶材，其中射束與靶的沖擊導致輻射的產(chǎn)生；以及通過源和靶之間的殼體所支撐的磁鐵。
29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的輻射源，其特征在于，磁鐵提供恒定磁場。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的輻射源，其特征在于，磁場橫過射束的寬度空間地變化。
31.根據(jù)權(quán)利要求28所述的輻射源，其特征在于，磁鐵提供時變磁場。
32.一種用于檢測物體的系統(tǒng)，包括用于將物體移動通過所述系統(tǒng)的傳輸系統(tǒng)；輻射源，包括殼體；通過殼體所支撐的帶電粒子束源，以沿著所述路徑發(fā)射射束；通過殼體沿著所述路徑支撐的靶材，其中射束與靶材的沖擊導致輻射的產(chǎn)生；以及通過源和靶之間的殼體所支撐的磁鐵，以提供磁場來在射束撞擊所述靶之前偏轉(zhuǎn)所述射束；以及被安置以在與物體交互作用之后接收輻射的檢測器；其中輻射源相對傳輸系統(tǒng)設置，這樣通過所述源所發(fā)射的輻射對傳輸系統(tǒng)上的用于檢測的物體進行輻射。
33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的系統(tǒng)，其特征在于，輻射源位于傳輸系統(tǒng)的第一側(cè)上，所述系統(tǒng)還包括傳輸系統(tǒng)的第二側(cè)上的檢測器，以檢測通過所述物體傳輸?shù)妮椛洹?br> 34.根據(jù)權(quán)利要求32所述的系統(tǒng)，其特征在于，磁鐵在操作的過程中提供時變磁場。
35.根據(jù)權(quán)利要求32所述的系統(tǒng)，其特征在于，磁鐵提供恒定磁場。
36.根據(jù)權(quán)利要求32所述的系統(tǒng)，其特征在于，磁場提供橫過所述射束的寬度空間變化的磁場。
37.根據(jù)權(quán)利要求36所述的系統(tǒng)，其特征在于，輻射用基本均勻的強度輻射所述物體。
38.根據(jù)權(quán)利要求32所述的系統(tǒng)，其特征在于所述帶電粒子源是電子源；以及靶材在通過電子沖擊時產(chǎn)生X射線輻射。
39.根據(jù)權(quán)利要求32所述的系統(tǒng)，其特征在于輻射源具有第一縱向軸；以及輻射沿著橫過縱向軸的中心射線所發(fā)射，以沿著中心射線輻射物體。
40.一種產(chǎn)生輻射的方法，包括將帶電粒子束朝向所述靶指引；偏轉(zhuǎn)所述束；以及通過被偏轉(zhuǎn)的射束沖擊靶。
41.根據(jù)權(quán)利要求40所述的方法，包括通過提供磁場來偏轉(zhuǎn)所述射束。
42.根據(jù)權(quán)利要求40所述的方法，包括通過提供時變磁場來偏轉(zhuǎn)所述射束。
43.根據(jù)權(quán)利要求40所述的方法，包括通過提供恒定磁場來偏轉(zhuǎn)所述射束。
44.根據(jù)權(quán)利要求43所述的方法，包括通過讓所述射束沿著射束的寬度通過空間變化的磁場來偏轉(zhuǎn)所述射束。
45.根據(jù)權(quán)利要求40所述的方法，包括沿著軸線偏轉(zhuǎn)電子束；沿著軸線沖擊靶；以及沿著軸線產(chǎn)生具有中心射線的輻射。
46.根據(jù)權(quán)利要求40所述的方法，包括在通過所述射束沖擊靶時產(chǎn)生X射線輻射。
47.一種用輻射源檢查物體所包含的內(nèi)容的方法，所述方法包括將帶電粒子束沿著路徑朝向靶指引；偏轉(zhuǎn)所述射束；通過偏轉(zhuǎn)的射束沖擊所述靶以提供輻射；將所述物體用輻射來進行輻射；以及檢測與物體的交互的輻射。
48.根據(jù)權(quán)利要求47所述的方法，包括通過時變磁場來偏轉(zhuǎn)所述射束。
49.根據(jù)權(quán)利要求47所述的方法，包括通過恒定磁場來偏轉(zhuǎn)所述射束。
50.根據(jù)權(quán)利要求49所述的方法，包括通過橫過所述射束的寬度的空間變化磁場來偏轉(zhuǎn)所述射束。
51.根據(jù)權(quán)利要求47所述的方法，其中所述射束是電子束，所述方法包括提供磁場用電子束沖擊靶來產(chǎn)生X射線輻射。
52.根據(jù)權(quán)利要求47所述的方法，包括從具有第一縱向軸的源發(fā)射輻射；以及用沿著橫過第一軸的第二軸的輻射對所述物體進行輻射。
全文摘要
公開了一種輻射源，包括帶電粒子源，所述帶電粒子沿著路徑傳輸。制靶材料沿著所述路徑放置以在通過所述束沖擊時產(chǎn)生輻射。磁鐵被提供用于在沖擊所述靶之前偏轉(zhuǎn)所述束。磁鐵可以產(chǎn)生時變磁場或者恒定磁場。恒定磁場可以橫過所述束而空間變化。磁鐵可以是電磁鐵或者永久磁鐵。在一個示例中，所述束的偏轉(zhuǎn)導致靶上的束沿著多個軸沖擊。在另外的示例中，所述束部分被不同地偏轉(zhuǎn)。所述源由此用更為均勻的輻射來輻射將被掃描的物體。帶電離子可以是電子或者質(zhì)子，所述輻射可以是X射線或者伽馬射線輻射，或者中子。并入這樣的源的掃描系統(tǒng)、產(chǎn)生輻射的方法和檢查物體的方法也被公開。
文檔編號G01B15/06GK1777788SQ200480010913
公開日2006年5月24日 申請日期2004年4月23日 優(yōu)先權(quán)日2003年4月25日
發(fā)明者鮑爾·比約克霍爾姆, 詹姆斯·E·克萊頓 申請人:創(chuàng)新醫(yī)療系統(tǒng)技術(shù)公司