專利名稱：弱限制多模光干涉器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種干涉器件，特別是一種光干涉器件。
多模光干涉器是由光干涉區(qū)、輸入光波導(dǎo)和輸出光波導(dǎo)構(gòu)成。在光功分器、光開關(guān)、波分復(fù)用器等器件中的應(yīng)用前景十分廣泛。目前，多模光干涉器是將光波導(dǎo)邊界近似視為鏡面反射，通稱強(qiáng)限制多模光干涉器。該干涉器由于干涉區(qū)內(nèi)模式過(guò)多，高階模失配相當(dāng)嚴(yán)重，造成損耗、均勻度及帶寬等指標(biāo)都不理想，一般的光波導(dǎo)路數(shù)只能在8路以下，這在現(xiàn)代通信系統(tǒng)中使用是有缺陷的。
本實(shí)用新型的目的是提供一種適應(yīng)現(xiàn)代通信系統(tǒng)要求的光波導(dǎo)路數(shù)超過(guò)8路的多模光干涉器。
本實(shí)用新型的目的是通下述措施實(shí)現(xiàn)的在由光干涉區(qū)、輸入光波導(dǎo)和輸出光波導(dǎo)構(gòu)成的多模光干涉器的外層增設(shè)一層包層，其折射率比芯層折射率小0.005～0.2。折射率相差多少是根據(jù)光干涉區(qū)的寬度決定的。光干涉區(qū)的寬度越寬，輸出光波導(dǎo)能做的越多。
本實(shí)用新型由于外層有一層折射率比芯層折射率稍小的包層，因此具有以下優(yōu)點(diǎn)①損耗小，如實(shí)現(xiàn)1×32光功分器時(shí)也只有0.09dB的損耗，而強(qiáng)限制光干涉器的損耗為0.8dB；②均勻度高，如1×32光功分器的均勻度為0.08dB，而強(qiáng)限制光干涉器的均勻度則為5.6dB；③帶寬及工作波長(zhǎng)范圍大，由于光干涉區(qū)內(nèi)模式少，帶寬和工作波長(zhǎng)范圍比強(qiáng)限制多模光干涉器提高1倍以上；④光波導(dǎo)路數(shù)能達(dá)64路以上。
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。


圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
參照?qǐng)D1，以1×32路多模光干涉器為實(shí)施例①制作掩膜版，其干涉區(qū)2為320.0×4630.9μm2，以及一路輸入光波導(dǎo)1和32路輸出光波導(dǎo)3的圖形；②在鈮酸鋰(LiNbO3)基片上蒸鋁，然后用上述掩膜版光刻出1×32路多模光干涉器的圖形，再將芯層所在位置的鋁腐蝕掉；③進(jìn)行質(zhì)子交換，形成折射率為2.22的芯層；④退火，腐蝕掉剩下的鋁，并作端面拋光。
權(quán)利要求1．一種弱限制多模光干涉器，由光干涉區(qū)[2]、輸入光波導(dǎo)[1]和輸出光波導(dǎo)[3]構(gòu)成，其特征在于所述光干涉區(qū)[2]、輸入光波導(dǎo)[1]和輸出光波導(dǎo)[3]的外層增設(shè)一層折射率小于芯層折射率0.005～0.2的包層。
專利摘要一種弱限制多模光干涉器,是在由光干涉區(qū)、輸入光波導(dǎo)和輸出光波導(dǎo)構(gòu)成的多模光干涉器的外層增設(shè)一層折射率小于多模光干涉器折射率0.005～0.2的包層。本光干涉器損耗小,均勻度高,帶寬及工作波長(zhǎng)范圍提高1倍以上,光波導(dǎo)路數(shù)能達(dá)到64路以上。
文檔編號(hào)G01J3/12GK2434661SQ0024265
公開日2001年6月13日 申請(qǐng)日期2000年7月26日 優(yōu)先權(quán)日2000年7月26日
發(fā)明者尹銳, 楊建義, 江曉清, 王明華 申請(qǐng)人:浙江大學(xué)半導(dǎo)體光電子技術(shù)與系統(tǒng)研究所