專利名稱：用于流體閥的閥座裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開概括而言涉及閥門，更具體而言涉及用于流體閥的閥座裝置。
背景技術(shù)：
過程控制系統(tǒng)中常用閥門來控制過程流體的流動?；瑮U閥(例如閘閥、截止閥、隔膜閥、夾管閥等)通常具有設(shè)置在流體路徑中的啟閉件(例如閥塞)。閥桿可操作地將啟閉件耦接到致動器，該致動器在開啟位置和閉合位置之間移動啟閉件以允許或限制閥門的入口和出口之間的流體流動。此外，為了提供期望的并且/或者實現(xiàn)特定的流體流動特性，閥門通常采用插在閥門入口和出口之間的流體流動路徑中的閥箱。閥箱可降低流量、減小噪音并且/或者降低或消除氣穴現(xiàn)象。通常，使用閥門大小、諸如工作溫度(例如溫度在-100 °卩到450 °F之間、溫度高于450 T等)等的工業(yè)過程條件來確定可使用的閥門類型或閥門元件類型，例如用于實現(xiàn)閥箱、閥座、閥體及/或啟閉件之間的密封的密封類型。此外，所用的密封類型通常決定閥座/密封結(jié)構(gòu)。例如，為了提供閥座和閥體間的密封，通常針對溫度低于450 T的過程流體在閥座和閥體間設(shè)置例如由聚四氟乙烯(例如PTFE或Tef1n )構(gòu)成的密封。例如，密封可設(shè)置在繞閥座外圍表面形成的環(huán)形凹陷內(nèi)。閥座耦接到閥箱(例如通過螺紋)，這使得當(dāng)閥體和閥箱耦接時閥座懸浮在閥體的流體流動路徑中。密封防止閥體和閥座間的流體泄漏。然而，溫度高于450 T的過程流體會使由聚四氟乙烯構(gòu)成的密封突出或故障。對于溫度高于450 T的過程流體，閥座/密封結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在閥座和閥體之間的墊圈。然而，這種閥座/密封結(jié)構(gòu)需要閥座固定(例如用螺栓固定)到閥體上。因而，用于高于450 T的過程溫度的閥門的閥座/密封結(jié)構(gòu)使用不同于用于溫度低于450 T的過程流體的閥座/密封結(jié)構(gòu)的閥體。

發(fā)明內(nèi)容
此處所述的示例性閥座裝置包括具有外表面的閥座圈，所述外表面包括第一環(huán)形凹陷和靠近第一環(huán)形凹陷的第二環(huán)形凹陷，以形成臺階輪廓。密封組件設(shè)置在第一環(huán)形凹陷中，保持件設(shè)置在第二環(huán)形凹陷中以把密封組件保持在閥座圈的第一環(huán)形凹陷中。在另一示例中，閥門包括限定入口和出口之間的流體流動通道的閥體。閥座耦接到閥箱并設(shè)置在入口和出口之間的流體流動通道內(nèi)。閥座的外圍表面包括密封容納區(qū)域和靠近密封容納區(qū)域的保持件容納區(qū)域。所述密封容納區(qū)域使得閥座能夠容納可與第二密封組件互換的第一密封組件，所述第一密封組件用于溫度低于600 °F的過程流體，所述第二密封組件用于溫度高于600 T的過程流體。保持件耦接到保持件容納區(qū)域以把第一密封組件或第二密封組件之一保持在密封容納區(qū)域中。


圖1是具有已知的密封組件的已知閥門的剖面視圖。圖2A是實現(xiàn)有另一已知密封組件的另一已知閥門的剖面視圖。圖2B是實現(xiàn)有另一已知密封組件的另一已知閥門的剖面視圖。圖3是實現(xiàn)有此處所述的示例性閥座裝置的閥門的剖面視圖。圖4A和4B是圖3的示例性閥座裝置的放大部分。圖5A示出了實現(xiàn)有此處所述的另一示例性閥座裝置的另一示例性閥門。圖5B是圖5A的示例性閥座裝置的放大部分。圖6是實現(xiàn)有此處所述的另一示例性閥座裝置的又一示例性流體閥的放大部分。
具體實施例方式此處所述的示例性閥座裝置可用于具有滑桿的閥門，例如控制閥、節(jié)流閥等，這種閥門包括閥內(nèi)件裝置(valve trim arrangement)(例如閥箱)。概括而言,此處所述的示例性閥座裝置提供組件式(modular)閥座，這種閥座使得可在用于溫度變化范圍很大(例如-325 T到1100 T )的過程流體的不同類型的密封組件之間的互換性。作為此處所述的閥座裝置提供的互換性的結(jié)果，總的只需要較少的元件來提供更多密封結(jié)構(gòu)形式以用于可用于大范圍過程流體溫度的流體閥。換句話說，利用此處所述的示例性閥座，不必如已知的閥座設(shè)計通常所需的那樣制造并庫存閥座結(jié)構(gòu)、閥箱結(jié)構(gòu)及/或閥體結(jié)構(gòu)的每種可能組合。因而，此處所述的閥座裝置使得能夠制造單一種閥體，這種閥體可以容納與不同密封組件或結(jié)構(gòu)一起使用時的閥座裝置。具體而言，此處所述的閥座裝置可容納用于具有第一溫度范圍，例如溫度在約-100 更低和450 °F 之間的過 程流體的第一密封組件、用于具有第二溫度范圍，例如溫度在約450 T和600 °F之間的過程流體的第二密封組件、或者用于具有第三溫度范圍，例如溫度在約600 ° 和1100 °F之間的過程流體的第三密封組件。例如，第一密封組件可包括聚四氟乙烯或超高分子量聚乙烯密封，第二密封組件可包括PTFE密封和防突圈，第三密封組件可包括內(nèi)孔密封(例如，諸如C形密封的金屬密封)。在所述示例中，保持件把密封組件和閥座裝置保持在一起。此外，在示例中，閥座裝置耦接到閥箱，這使得閥箱和閥體耦接時閥座、密封組件以及保持件懸浮在閥體內(nèi)。詳細描述示例性閥座裝置之前，下面結(jié)合圖1簡單地描述已知的流體閥100。圖1所示的流體閥100包括閥體102，閥體102限定入口 106和出口 108之間的流體流動通路104。閥塞110可滑動地設(shè)置在閥箱112內(nèi)，在開啟位置和閉合位置之間運動，以控制通過流體閥100的流體流動。閥桿114把閥塞110耦接到(未示出的)致動器，該致動器使閥塞110朝向或者遠離閥座116運動。閥座116耦接到閥箱112的第一端118 (例如通過螺紋)，閥箱112的第二端120包括設(shè)置在閥體102和閥帽124之間的法蘭122。當(dāng)被耦接到閥體102時，閥箱112將閥座116懸浮或保持在閥體102之中。工作時，致動器使閥塞110遠離閥座116運動，以允許流體流動通過流體閥100(例如開啟位置)，以及使閥塞110向閥座116運動，以限制通過流體閥100的流體流動。閥塞110與閥座116密封接合，以防止流體流過流體閥100 (例如閉合位置)。當(dāng)流體閥100處于圖1所示的閉合位置(即閥塞110與閥座116密封接合)時，閥塞密封組件126防止閥塞110和閥箱112之間的流體泄漏。
此外，由如聚四氟乙烯的彈性體材料構(gòu)成的密封128設(shè)置在形成于閥座116的外圍表面132上的通道或環(huán)形凹陷130中。閥座116包括逐漸變細的邊緣或表面134(例如倒角或?qū)氲谋砻婊蜻吘?，以使得能夠或有助于組裝密封128和閥座116。密封128 (如O型圈)防止閥座116和閥體102之間的流體泄漏。由于密封128由聚四氟乙烯材料構(gòu)成，圖1的示例性流體閥100可用于溫度在約-100 ° 和450 °F之間的過程流體。溫度大于450 0F的過程流體可能會使密封128突出和/或脫落。圖2A示出了可用于溫度在約325 ° 和600 °F之間的過程流體的另一已知的閥門200。圖2A所示的流體閥200包括閥體202，閥體202限定入口 206和出口 208之間的流體流動通路204。閥塞210可滑動地設(shè)置在閥箱212內(nèi)，在開啟位置和閉合位置之間運動，以控制通過流體閥200的流體流動。閥塞210包括密封組件214，以提供閥塞210和閥箱212之間的密封。閥桿216把閥塞210耦接到(未示出的)致動器，該致動器使閥塞210朝向或者遠離閥座218運動。閥座218包括法蘭220 (例如環(huán)形法蘭)，法蘭220容納多個緊固件222(例如螺栓)，以把閥座218耦接到閥體202。墊圈224設(shè)置在閥座218和閥體202之間，以減少或防止閥座218和閥體202之間的流體泄漏。

圖2A所示的閥座和閥體結(jié)構(gòu)通常用于溫度在約450 ° 和600 °F之間的過程流體。在過程流體溫度在約450 T和600 °F之間的應(yīng)用中，通常不使用由彈性體材料(例如聚四氟乙烯或PTFE)制成的密封來提供閥座218和閥體202之間的密封，這是由于該密封會由于過程流體的溫度而突出或脫落。此外，在過程流體溫度在約-325 T和-100 間的應(yīng)用中，通常不使用由彈性體材料制成的密封來提供閥座218和閥體202之間的密封，這是由于該密封太易碎。而且，流體閥200的閥座218和閥體202與圖1的流體閥100的閥座116和閥體102結(jié)構(gòu)不同。圖2B示出了實現(xiàn)有啟閉件230的圖2A的閥門200，啟閉件230具有用于溫度范圍在約600 ° 和1100 °F之間的過程液體的密封組件232。在本例中，啟閉件230的密封組件232包括石墨活塞環(huán)234和由金屬或任何其他材料制成的內(nèi)孔密封236 (例如C形密封)，以針對溫度相對高(例如溫度大于約600 T )的過程流體相對更好地抵抗過程流體在啟閉件230和閥箱212 (或閥體202)之間繞啟閉件230泄露或泄露經(jīng)過啟閉件230。因而，這樣，需要使用多個或不同閥體和閥座結(jié)構(gòu)的不同結(jié)構(gòu)來適應(yīng)不同的過程流體溫度范圍，這造成較大庫存并增加制造成本。圖3示出了實現(xiàn)有示例性閥座裝置302的示例性流體閥300。圖4A和4B示出圖3的示例性流體閥300的放大視圖。示例性流體閥300可容納可用于過程流體溫度在約-325 ° 和1100 °F或更高之間的應(yīng)用的密封組件。參看圖3，流體閥300包括閥體304，閥體304限定入口 308和出口 310之間的流體流動通路306。閥內(nèi)件組件312插在流體流動通路306之中，以控制入口 308和出口 310之間的流體流動。閥內(nèi)件組件312包括流體閥300的內(nèi)部元件，如閥箱314、啟閉件316 (例如閥塞)、閥座302和閥桿318。閥箱314設(shè)置在入口 308和出口 310之間，以提供通過閥體304的某些流體流動特性(例如降低由流體流動通過流體閥300所產(chǎn)生的噪音和/或氣穴現(xiàn)象)。閥箱314包括用于容納(如可滑動地容納)啟閉件316的內(nèi)孔320和至少一個開口 322，當(dāng)流體閥300處于開啟位置(即當(dāng)啟閉件316和閥座302隔開一定距離時)流體可流過開口 322。閥箱314可用不同方式的結(jié)構(gòu)(例如，具有各種形狀、大小或間隔的開口 322)，以提供流體的特定期望流體流動特性，例如以控制流動、降低噪音及/或氣穴現(xiàn)象、增強過程流體的減壓等。在所示例子中，閥箱314基本上是一個整體結(jié)構(gòu)。閥箱314的第一端324包括與閥體304的表面328接合的法蘭326。(未示出的)閥帽(如圖1的閥帽124)與法蘭326接合，以把閥箱314保持在閥體304內(nèi)。當(dāng)閥箱314和閥體304耦接時，閥箱314把閥座302懸浮或保持在閥體304內(nèi)。因而，閥箱314還有助于維護、拆卸及/或替換閥內(nèi)件組件312的其他元件。閥箱314導(dǎo)引啟閉件316，并在啟閉件316在開啟位置和閉合位置之間運動時提供橫向穩(wěn)定性、平衡以及對準，從而減少振動及其他機械應(yīng)力。啟閉件316在內(nèi)孔320內(nèi)嚴密貼合，并可在閥箱314內(nèi)在閉合位置和開啟位置間運動，其中在閉合位置，啟閉件316阻擋閥箱314開口 322，在開啟位置，啟閉件316離開(即不阻擋)開口 322的至少一部分。在所示例子中，啟閉件316被示為具有圓柱體330和密封表面332的閥塞。然而，在其他示例中，啟閉件316可以是閥瓣或任何其他結(jié)構(gòu)，以改變通過流體閥300的流體流動。閥桿318可操作地耦接啟閉件316和(未示出的)致動器。在本例中，啟閉件316包括通道或管道334，以平衡或均衡由過程流體作用于啟閉件316上的壓力而施加在啟閉件316上的力。這樣，較小的致動力可用于使啟閉件316在開啟和閉合位置之間運動。啟閉件316還包括凹陷部336，用于容納閥塞密封組件338。閥塞密封組件338接合閥箱314的內(nèi)表面340，以防止流體在閥箱314和啟閉件316的外表面342之間泄漏。閥塞密封組件338包括由彈性體材料構(gòu)成的密封件344 (例如O形圈)和防突環(huán)346。防突環(huán)346防止過程流體溫度位于約450 ° 和600 °F之間 時密封件344從啟閉件316的外表面342和閥箱314的內(nèi)表面340之間突出。閥塞密封組件338還可包括墊環(huán)或活塞環(huán)348。如圖4A和圖4B最清楚顯示的，閥座302是具有外圍邊緣或表面402以及內(nèi)表面404的閥座圈。外表面402包括靠近閥座302第一端408的第一凹陷部或肩部406,用于容納閥箱314的一部分或閥箱314的第二端410。在本例中，閥座302的第一端408通過螺紋耦接到閥箱314的第二端410。閥座302的外表面402還包括第一環(huán)形凹陷或密封容納區(qū)域414和靠近密封容納區(qū)域414的第二環(huán)形凹陷或保持件容納區(qū)域416，以限定或形成臺階部418 (例如通過機械加工而形成)。保持件容納區(qū)域416靠近閥座302的第二端420。密封組件422設(shè)置在閥座302的密封容納區(qū)域414中，保持件424設(shè)置在保持件容納區(qū)域416中，以把密封組件422保持在臺階部418的肩部或壁426和保持件424之間。如本例所示,保持件424通過螺紋428耦接到閥座302的保持件容納區(qū)域416。當(dāng)和閥座302耦接時，保持件424和肩部426限定了容納密封組件422的腔。密封組件422包括由彈性體或如聚四氟乙烯的含氟聚合物構(gòu)成的密封430 (例如O形圈)。防突圈432 (例如硬塑料)提供額外密封，以防止流體閥300用于溫度在約450 T和600 0F之間的過程流體時密封430從閥座302和閥體304之間突出。在一些例子中，對于溫度低于450 °F的過程流體，不能使用防突圈432。如圖所示，防突圈432設(shè)置在保持件424和密封430之間，密封430設(shè)置在防突圈432和臺階部418形成的肩部426之間。當(dāng)閥座302 (及閥箱314)和閥體304耦接時，密封430和閥體304的表面434 (圖4B)接合。工作時，致動器(例如氣動致動器)使閥桿318從而也使啟閉件316在閉合位置和全開或最大流速位置之間運動，其中在閉合位置，啟閉件316和閥座302密封接合，以限制或防止流體流動通過流體閥300，在全開或最大流速位置，啟閉件316遠離閥座302和閥箱314的開口 322，以允許流體流動通過流體閥300。在開啟位置，流體流過入口 308、通過閥箱的開口 322并通過出口 310。在閉合位置，啟閉件316阻擋閥箱314的開口 322，密封表面332與閥座302密封接合，以防止入口 308和出口 310之間的流體流動。密封組件422提供閥體304和閥座302之間的密封。閥體304和閥座302之間(以及啟閉件316和閥箱314之間)的泄漏會影響流體閥300的截斷分類。密封組件422設(shè)置在閥座302和閥體304之間，以在啟閉件316位于閉合位置時防止流體閥300的入口308和出口 310之間的泄漏，以改善流體閥300的截斷分類。圖5A示出了實現(xiàn)有圖3、圖4A和圖4B的閥座302但是具有另一示例性密封組件502的示例性流體閥500。圖5B示出了圖5B的流體閥500的放大部分。下文不對圖5A和5B的示例性閥門500中與上述示例性流體閥300基本上類似或相同的那些元件、以及功能基本上類似或相同的那些元件進行詳細描述。相反，請感興趣的讀者參考結(jié)合圖3、4A和4B的上述相應(yīng)描述。與結(jié)合圖3、4A和4B所述元件基本上相似或相同的元件將用相同參考標號表示。特別地，示例性流體閥500包括圖3的閥體304。示例性閥門500與圖3和圖4的示例性閥門300類似。然而，示例性閥門500可用于溫度高于約600 0F的過程流體。示例性閥門500的啟閉件504實現(xiàn)有閥塞密封組件506。在本例中，啟閉件504的閥塞密封組件506包括石墨活塞環(huán)508和由金屬或任何其他材料制成的內(nèi)孔密封510 (例如C形密封)，以針對溫度相對高(例如溫度高于約600 0F )的過程流體相對更好地抵抗過程流體在啟閉件504和閥體304之間的泄漏。和圖3、4A和4B的流體閥300類似，閥座302耦接到閥箱314并且設(shè)置在閥體304中。密封組件502設(shè)置在閥座302的密封容納區(qū)域414中。保持件424設(shè)置在保持件容納區(qū)域416中以把密封組件422保持在臺階部418的肩部或壁426和保持件424之間。在本例中，密封組件502包括由金屬或者可抵抗高于600 °F的溫度的任何其他材料制成的內(nèi)孔密封512 (例如C形密封)。內(nèi)孔密封512可抵抗這樣的高溫并提供閥座302和閥體304之間的密封。根據(jù)流體流過通路306的流向，內(nèi)孔密封512可設(shè)置在密封容納區(qū)域414中，其中內(nèi)孔密封512的開口朝向流體流動方向。圖6示出了另一示例性流體閥600的放大部分，該流體閥600實現(xiàn)有此處所述的包括另一示例性保持裝置604的另一示例性閥座602。不再詳細描述圖6的示例性閥門600中與上述示例性流體閥300或500的元件基本上類似或相同以及功能與之基本上類似或相同的那些部件。相反，請感興趣的讀者參考結(jié)合圖3、4A、4B、5A和5B的上述相應(yīng)描述。與結(jié)合圖3、4A、4B、5A和5B所述元件基本上相似或相同的元件將用相同參考標號表示。特別地，示例性流體閥600包括圖3、5A和5B的閥體304。如圖6所示，閥座602 (如閥座圈)包括內(nèi)表面606以及具有主直徑的外圍邊緣或表面608。外表面608包括靠近閥座602的第一端612的凹陷部610,用于容納閥箱314的一端410。在本例中，閥座602的第一端612通過螺紋耦接到閥箱314的一端410。閥座602的外表面608還包括第一環(huán)形凹陷或密封容納區(qū)域614以及靠近密封容納區(qū)域614的第二環(huán)形凹陷或保持件容納區(qū)域616 (例如腔)。密封容納區(qū)域614具有例如通過機械加工或任何其他適當(dāng)?shù)闹圃旃に囆纬傻臏p小外徑或密封外徑。保持件容納區(qū)域616是具有相對壁或肩部618a和618b以及壁618c的環(huán)形凹陷(例如具有C形截面形狀的環(huán)形凹陷)。保持件容納區(qū)域616靠近閥座602的第二端620。密封組件622設(shè)置在閥座602的密封容納區(qū)域614中或者滑動配合在密封容納區(qū)域614上，保持件624設(shè)置在保持件容納區(qū)域616中，以把密封組件622保持在肩部或壁616和保持件624之間。如本例所示，保持件624是設(shè)置在閥座602的保持件容納區(qū)域616之中的撳鈕圈。具體而言，保持件624至少部分設(shè)置或夾嵌在相對壁618a和618b之間?？砂▊溆萌?28，以在密封組件622設(shè)置在密封容納區(qū)域616中時對其提供進一步支撐。備用圈628可包括與密封容納區(qū)域614的外徑基本類似的內(nèi)徑，以及與閥座602的外表面608基本類似的外徑。當(dāng)和閥座602耦接時，保持件624及/或備用圈628和肩部626限定了用于容納密封組件622的腔。在所示例子中，密封組件622包括密封630 (例如O形圈)，密封630由彈性體材料或者含氟聚合物(例如聚四氟乙烯)構(gòu)成，其中設(shè)置了彈簧632a以使密封630的側(cè)面632b偏向閥座602的外表面608以及閥體304的表面434。提供防突圈634(例如硬塑料防突圈)，以在流體閥600用于溫度在約450 ° 和600 °F之間的過程流體時防止密封630從閥座602和閥體304之間突出。在一 些示例中，對于溫度低于450 °F的過程流體，不能使用防突圈634。如圖所示，防突圈634設(shè)置在備用圈628和密封630之間，密封630設(shè)置在防突圈634和肩部626之間。當(dāng)閥座602(及閥箱314)和閥體304耦接時，密封630和閥體304的表面434接合。在其他示例中，密封容納區(qū)域614可容納任何其他適當(dāng)?shù)拿芊饨M件，如密封組件422 (圖3、4A和4B)及/或密封組件502 (圖5A和5B)。示例性閥座302和602提供了可容納用于溫度在約_100 更低和450 °F之間的過程流體的第一密封組件(例如密封422、630)、用于溫度在450 ° 和600 間的過程流體的第二密封組件(例如密封422、630和防突圈424、634)和用于溫度在約600 °卩和1100 °F或更高之間的過程流體的第三密封組件(例如密封組件502)的組件式閥座。這樣，此處所述的示例性閥座極大降低了例如分別與圖1和圖2的流體閥100和200關(guān)聯(lián)的制造成本與庫存成本。因而，此處所述的閥座裝置使得不同密封組件可用于相同的閥座/閥體結(jié)構(gòu)。雖然描述了某些裝置，但是本專利的覆蓋范圍不限于此。相反，本專利覆蓋根據(jù)字面意義或者根據(jù)等價條件公平地落入所附權(quán)利要求范圍內(nèi)的所有裝置。
權(quán)利要求
1.一種用于流體閥的閥座裝置，包括: 具有外表面的閥座圈，所述外表面包括第一環(huán)形凹陷和靠近所述第一環(huán)形凹陷的第二環(huán)形凹陷，以形成臺階輪廓； 密封組件，其設(shè)置在所述第一環(huán)形凹陷中；以及 保持件，其設(shè)置在所述第二環(huán)形凹陷中以把所述密封組件保持在所述閥座圈的第一環(huán)形凹陷中。
2.按權(quán)利要求1所述的閥座裝置，其中所述閥座圈的第二端要通過螺紋與閥箱耦接。
3.按權(quán)利要求2所述的閥座裝置，其中所述閥座圈的第二端包括用于容納所述閥箱的一部分的凹陷部。
4.按權(quán)利要求1所述的閥座裝置，其中所述保持件通過螺紋與所述閥座圈耦接。
5.按權(quán)利要求1所述的閥座裝置，其中所述閥座圈的第一環(huán)形凹陷和所述保持件使得所述閥座圈能夠容納第一密封組件或與所述第一密封組件不同的第二密封組件。
6.按權(quán)利要求1所述的閥座裝置，其中所述密封組件包括聚四氟乙烯密封和防突圈。
7.按權(quán)利要求6所述的閥座裝置，其中所述第一密封組件用于溫度在約-100T和600 °F之間的過程流體。
8.按權(quán)利要求1所述的閥座裝置，其中所述密封組件包括金屬密封。
9.按權(quán)利要求8所述的閥座裝置，其中內(nèi)孔密封用于溫度高于600°F的過程流體。
10.一種閥門，包括: 閥體，其限定入口和出口之間的流體流動通道； 閥座，其耦接到閥箱并設(shè)置在所述入口和出口之間的流體流動通道內(nèi)，其中所述閥座的外圍表面包括密封容納區(qū)域和靠近所述密封容納區(qū)域的保持件容納區(qū)域，其中所述密封容納區(qū)域使得所述閥座能夠容納可與第二密封組件互換的第一密封組件，其中所述第一密封組件用于溫度低于600 T的過程流體，所述第二密封組件用于溫度高于600 T的過程流體；以及 保持件，其耦接到所述保持件容納區(qū)域以把所述第一密封組件或所述第二密封組件保持在所述密封容納區(qū)域中。
11.按權(quán)利要求10所述的閥門，其中所述密封容納區(qū)域由第一環(huán)形凹陷限定，所述保持件容納區(qū)域由靠近所述第一環(huán)形凹陷的第二環(huán)形凹陷限定，其中所述第二環(huán)形凹陷靠近所述閥座的一端。
12.按權(quán)利要求10所述的閥門，其中所述保持件通過螺紋與所述閥座耦接。
13.按權(quán)利要求10所述的閥門，其中所述第一密封組件包括用于溫度在約-100T和450 間的過程流體的聚四氟乙烯密封。
14.按權(quán)利要求10所述的閥門，其中所述第一密封組件包括用于溫度在約450T和600 °F之間的過程流體的聚四氟乙烯密封和防突圈。
15.按權(quán)利要求10所述的閥門，其中所述第二密封組件包括用于溫度在約600T和1100 間的過程流體的內(nèi)孔密封。
16.按權(quán)利要求15所述的閥門，其中所述內(nèi)孔密封包括具有C形截面的金屬密封。
17.按權(quán)利要求10所述的閥門，其中所述閥座通過螺紋與流體閥的閥箱耦接。
18.按權(quán)利要求17所述的閥門，其中所述閥箱在與所述閥體耦接時使所述閥座懸浮在所述閥體內(nèi)。
19.按權(quán)利要求10所述的閥門，保持件容納區(qū)域包括形成相對壁的環(huán)形凹陷。
20.一種用于閥門的閥座,包括: 容納裝置，用于可交換地容納可與第二密封裝置交換的第一密封裝置，其中所述第一密封裝置用于具有第一溫度范圍的過程流體，所述第二密封裝置用于具有第二溫度范圍的過程流體；以及 保持裝置，用于把所述第一密封裝置或第二密封裝置和所述容納裝置保持在一起。
21.按權(quán)利要求20所述的閥門，還包括用于把所述閥座耦接到閥箱的裝置。
22.按權(quán)利要求20所述的閥 門，其中所述第一溫度范圍在約-100°F和600 °F之間，所述第二溫度范圍在約600下和1100 °F之間。
全文摘要
提供了一種用于流體閥的閥座裝置。閥座裝置(302)包括閥座圈(302)、密封組件(422)和保持件(424)。閥座圈(302)具有外表面(402)，其包括第一環(huán)形凹陷(414)和靠近第一環(huán)形凹陷(414)的第二環(huán)形凹陷(416)，以形成臺階輪廓(418)。密封組件(422)設(shè)置在第一環(huán)形凹陷(414)中，保持件(424)設(shè)置在第二環(huán)形凹陷(416)中，以保持密封組件(422)。閥座裝置與閥箱(314)以及閥體(304)接合。當(dāng)閥桿(318)被致動器上下移動時，啟閉件(316)可開啟或閉合閥箱(314)的開口(322)，以允許或阻擋流體在入口(308)和出口(310)之間流動。
文檔編號F16K1/42GK103097785SQ201080068351
公開日2013年5月8日 申請日期2010年7月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月30日
發(fā)明者E·R·多布斯, T·P·吉爾哈特, T·A·邁克瑪杭, P·T·阿爾曼, 邱彥 申請人:費希爾控制國際公司