專利名稱：一種真空吸盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于真空吸盤領(lǐng)域，特別適用于吸附很薄的硬脆材料。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體材料硅片，是一種很薄的硬脆材料，它的兩個面都要進(jìn)行磨削、拋光等加工。對這種工件的定位夾緊通常采用真空吸盤來吸附。
目前，常用的真空吸盤是由兩種陶瓷材料粘接而成。其中，傳遞真空的部分使用多孔陶瓷板，多孔陶瓷的微孔孔徑為2～50μm；多孔陶瓷板裝配在底座的沉孔中，其周邊與底座粘結(jié)密封；底座是不透氣的密實(shí)陶瓷材料加工而成。兩部分陶瓷雖然在材質(zhì)上不同，但它們有相近的耐磨性和其它機(jī)械性能，這樣才能使陶瓷吸盤表面經(jīng)磨削修整后能達(dá)到所要求的平整度。傳統(tǒng)的真空吸盤存在如下缺點(diǎn)底座全部采用整體的精細(xì)密實(shí)陶瓷，當(dāng)多孔陶瓷板經(jīng)磨削修整到一定厚度而不能再用時(shí)，密實(shí)陶瓷底座隨之報(bào)廢，精細(xì)陶瓷材料利用率低，真空吸盤的材料成本高；整體的密實(shí)陶瓷底座結(jié)構(gòu)較復(fù)雜，需要加工裝配多孔陶瓷板的沉孔，以及安裝用的定位孔和面，而且加工精度要求較高，陶瓷可加工性差，加工費(fèi)時(shí)費(fèi)力，所以吸盤的制造成本高；陶瓷脆性大，以陶瓷作為底座直接與機(jī)床工作臺連接，容易產(chǎn)生破碎損壞。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有吸盤的不足，以降低加工難度，降低成本，改善加工工藝。
本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是一種真空吸盤由吸盤底板2和多孔陶瓷上板3組成，真空吸盤采用分體式結(jié)構(gòu)，陶瓷密封環(huán)4裝在多孔陶瓷上板3的外圈，兩者之間用環(huán)氧樹脂6粘牢，安放在吸盤底板2上面；在吸盤底板2的上平面外圈安裝有金屬吸盤上環(huán)1，用螺釘5將金屬吸盤上環(huán)1固定在吸盤底板2上；金屬吸盤上環(huán)1和陶瓷密封環(huán)4與吸盤底板2相接觸的徑向部分采用粘合劑7粘牢；在吸盤底板2的中間開有一個小孔A，吸盤底板2的上平面上開有多個環(huán)形溝槽B和輻射狀的徑向溝槽C。
本實(shí)用新型的有益效果是，真空吸盤采用分體式結(jié)構(gòu)，吸盤底座由金屬材料制作，精細(xì)陶瓷僅用來做密封環(huán)，當(dāng)多孔陶瓷板經(jīng)磨削修整到一定厚度而不能再用時(shí)，整個陶瓷部分可以更換，精細(xì)陶瓷材料得到充分利用，從材料上降低真空吸盤的成本，并延長了使用壽命；傳統(tǒng)真空吸盤要對陶瓷進(jìn)行復(fù)雜的加工，本實(shí)用新型把這些精度要求較高的工藝轉(zhuǎn)移到對金屬加工上來，大大地降低了加工的難度。節(jié)約制造成本；含有金屬底座的真空吸盤與機(jī)床工作臺連接方便，且易拆卸和更換。本實(shí)用新型特別適用于吸附很薄的硬脆材料，如半導(dǎo)體硅片。


附圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)圖，其中1-吸盤上環(huán)，2-吸盤底板，3-多孔陶瓷上板，4-陶瓷密封環(huán)，5-螺釘，6-環(huán)氧樹脂，7-粘合劑，A-小孔，B-環(huán)形溝槽，C-徑向溝槽。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明其實(shí)施方式。
磨削加工時(shí)，硅片放在多孔陶瓷上板3和陶瓷密封環(huán)4之上，真空負(fù)壓通過吸盤底板2中央的小孔A，經(jīng)過徑向溝槽C和環(huán)形溝槽B，均勻地傳到多孔陶瓷上板3上，并在多孔陶瓷上板3內(nèi)部形成真空室。于是，硅片在其上下壓力差的作用下牢牢地被吸附在吸盤上。多孔陶瓷上板3的外徑略小于硅片直徑，以防止真空外泄。吸盤上環(huán)1和吸盤底板2之間在端面由4個螺釘連接，起固定作用；徑向采用粘合劑粘接，主要起密封作用，防止真空外泄。吸盤上環(huán)1和陶瓷密封環(huán)4之間采用同樣粘合劑粘接，起密封和連接固定作用。
真空吸盤使用時(shí)，每隔一定的時(shí)間，都要求對吸盤進(jìn)行修整，以保證吸盤的平整度。這樣，當(dāng)多孔陶瓷上板3和陶瓷密封環(huán)4被修整到不能使用時(shí)，本實(shí)用新型可以更換多孔陶瓷和密封環(huán)陶瓷，延長了真空吸盤的使用壽命。
權(quán)利要求1.一種真空吸盤由吸盤底板[2]和多孔陶瓷上板[3]組成，其特征是，真空吸盤采用分體式結(jié)構(gòu)，陶瓷密封環(huán)[4]裝在多孔陶瓷上板[3]的外圈，兩者之間用環(huán)氧樹脂[6]粘牢，安放在吸盤底板[2]上面；在吸盤底板[2]的上平面外圈安裝有金屬吸盤上環(huán)[1]，用螺釘[5]將金屬吸盤上環(huán)[1]固定在吸盤底板[2]上；金屬吸盤上環(huán)[1]和陶瓷密封環(huán)[4]與吸盤底板[2]相接觸的徑向部分采用粘合劑[7]粘牢；在吸盤底板[2]的中間開有一個小孔[A]，吸盤底板[2]的上平面上開有多個環(huán)形溝槽[B]和輻射狀的徑向溝槽[C]。
專利摘要本實(shí)用新型一種真空吸盤屬于真空吸盤領(lǐng)域，適用于吸附很薄的硬脆材料。真空吸盤由吸盤底板和多孔陶瓷上板組成，真空吸盤采用分體式結(jié)構(gòu)，陶瓷密封環(huán)裝在多孔陶瓷上板的外圈，兩者之間用環(huán)氧樹脂粘牢，安放在吸盤底板上面；在吸盤底板的上平面外圈安裝有金屬吸盤上環(huán)，用螺釘將金屬吸盤上環(huán)固定在吸盤底板上；金屬吸盤上環(huán)和陶瓷密封環(huán)與吸盤底板相接觸的徑向部分采用粘合劑粘牢。本實(shí)用新型降低了加工難度，壽命長，特別適用于吸附半導(dǎo)體硅片材料。
文檔編號F16B47/00GK2746181SQ20042005540
公開日2005年12月14日 申請日期2004年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月30日
發(fā)明者金洙吉, 郭東明, 康仁科, 楊利軍, 李忠信, 張士軍, 李偉健 申請人:大連理工大學(xué)