渦旋壓縮的制造方法
【專利摘要】一種渦旋壓縮機，包括防旋轉構件。由于防旋轉構件的一個或多個側表面被形成為沒有鍵的平面形，因此可以容易制造防旋轉構件、主框架和繞動渦盤。在各種各樣的情況下，可防止由鍵所引起的局部摩擦和噪聲。此外，由于繞動渦盤由防旋轉構件的環(huán)部穩(wěn)定地支撐，因此可減少繞動渦盤的傾翻力矩的產生。這樣可以提高渦旋壓縮機的穩(wěn)定性和性能。
【專利說明】渦旋壓縮機
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及渦旋壓縮機，并更具體地涉及渦旋壓縮機的防旋轉構件。
【背景技術】
[0002]通常，壓縮機是壓縮例如制冷劑氣體之類的流體的裝置，并可根據(jù)流體壓縮方法分類為旋轉壓縮機、往復式壓縮機、渦旋壓縮機等等。
[0003]渦旋壓縮機具有許多優(yōu)點，例如高效率和低噪聲，因此渦旋壓縮機廣泛地用于空調系統(tǒng)。在渦旋壓縮機中，在兩個渦盤之間形成多個壓縮室，其中一個渦盤進行相對于另一個渦盤的繞動運動，并同時朝向中心連續(xù)地運動，兩個渦盤使這些壓縮室具有減小的體積。兩個渦盤的動作使得制冷劑隨著制冷循環(huán)而被吸入、壓縮然后排出。
[0004]圖1是示出根據(jù)現(xiàn)有技術的渦旋壓縮機的一個示例的縱向剖視圖，圖2是示出圖1的十字滑環(huán)已從主框架及繞動渦盤分離的狀態(tài)的立體圖。
[0005]如圖所示，在傳統(tǒng)的渦旋壓縮機中，主框架2和子框架3以在其間沿水平方向有預定間隙的方式布置在外殼I的內部空間11。用于產生旋轉力的驅動電機4安裝在主框架2與子框架3之間。曲軸5聯(lián)接到驅動電機4的轉子42的中心并穿過主框架2，并且通過聯(lián)接到繞動渦盤7 (稍后將說明)而被配置為將驅動電機4的旋轉力傳遞到繞動渦盤7。主框架2被強制地聯(lián)接到外殼I，而子框架3與外殼I一體地形成。
[0006]固定渦盤6固定安裝在主框架2之上，繞動渦盤7聯(lián)接到固定渦盤6，通過與固定渦盤5接合而形成一對連續(xù)移動的壓縮室(P)。在繞動渦盤7與主框架2之間安裝有十字滑環(huán)8，用以在允許繞動渦盤7進行繞動運動的同時防止繞動渦盤7旋轉。
[0007]吸入管12和排放管13聯(lián)接到外殼I。吸入管12經(jīng)由外殼I直接與吸入口(圖中未示)連通，而排放管13與外殼I的內部空間11連通。固定渦盤6的排放口 63允許排放制冷劑以與外殼I的內部空間11連通。
[0008]主框架2的中心形成有用于徑向支撐曲軸5的軸容置孔21，用于沿徑向支撐曲軸5的第一軸承22安裝在軸容置孔21中。
[0009]曲軸5被強制地插入電機4的轉子42的中心，其上側和下側分別由主框架2和子框架3支撐。在曲軸5內側沿軸的方向縱向地形成油路，使得外殼I的油可經(jīng)由該油路被抽入，用以潤滑每個支承面。
[0010]用以形成一對壓縮室(P)的固定渦卷62以漸開線形狀形成在固定渦盤6的端板61的底表面。在端板61的側表面上形成吸入口(圖中未示)，該吸入口直接連接至吸入管13并將制冷劑吸入壓縮室(P)。端板61的上表面的中心處形成排放口 63，在壓縮室(P)中被壓縮的壓縮氣體通過排放口 63排放到外殼I的內部空間11。止回閥9設置在固定渦盤6的上表面，止回閥9打開或關閉排放口 63并防止制冷劑氣體的回流。
[0011]繞動渦盤7的端板71的上表面形成漸開線形狀的繞動渦卷，以便與固定渦盤6的固定渦卷62—起形成一對壓縮室(P)。端板71的底表面的中心形成凸臺部73，其聯(lián)接到曲軸5并接收驅動電機4的驅動力。凸臺部73的內周面上安裝用于沿徑向支撐曲軸5和凸臺部73的第二軸承74。
[0012]如圖2所示，十字滑環(huán)8的本體，即環(huán)部81形成為環(huán)形。在環(huán)部81的上表面的兩側突設有多個第一鍵82，以便可滑動地插入繞動渦盤7的端板71的底表面上所設置的第一鍵槽75。在環(huán)部81的底表面的兩側突設有第二鍵83，以便沿與第一鍵82垂直的方向可滑動地插入主框架的第二鍵槽23。
[0013]附圖標記31表示用于徑向支撐曲軸的第三軸承，附圖標記41表示驅動電機4的定子。
[0014]傳統(tǒng)的渦旋壓縮機的操作如下:
[0015]當驅動電機4被加電時，繞動渦盤7由于十字滑環(huán)8的作用而借助偏心距在主框架2的上表面上進行繞動運動，同時曲軸5與驅動電機4的轉子42 —起旋轉。而且，在固定渦卷62與繞動渦卷72之間形成的一對壓縮室(P)連續(xù)地移動。壓縮室(P)由于繞動渦盤7的連續(xù)繞動運動而朝向中心移動，因此具有減小的容積。因此，制冷劑被抽吸、壓縮然后排出。
[0016]布置在主框架2的上表面與繞動渦盤7的底表面之間的十字滑環(huán)8的第一鍵82和第二鍵83分別可滑動地插入沿相互垂直的方向布置的繞動渦盤7的第一鍵槽75和主框架2的第二鍵槽23。這樣，即使繞動渦盤7接收了驅動電機4的旋轉力，也能夠防止繞動渦盤7相對于固定渦盤6旋轉。

【發(fā)明內容】

[0017]技術問題
[0018]然而，在傳統(tǒng)的渦旋壓縮機中，由于第一鍵82和第二鍵83的存在，制造十字滑環(huán)8較為困難。此外，供第一鍵82和第二鍵83可滑動地插入的第一鍵槽75和第二鍵槽23必須在繞動渦盤7和主框架2上分別形成。這樣會增加繞動渦盤7和主框架2的制造成本。
[0019]此外，由于繞動渦盤7和主框架2由十字滑環(huán)8的第一鍵82和第二鍵83支撐，因此可支持的區(qū)域較窄。因此，在繞動渦盤7上會產生由十字滑環(huán)8引起的傾翻力矩，十字滑環(huán)8可能容易傾斜，從而使繞動渦盤7傾斜。這樣會降低渦旋壓縮機的穩(wěn)定性與性能，并且可能使繞動渦盤7與主框架2之間或者繞動渦盤7與固定渦盤6之間的局部摩擦和噪聲增加。
[0020]解決方案
[0021]因此，一個方案是提供一種渦旋壓縮機，由于防旋轉構件的簡化的結構能夠有助于制造，并且能夠降低防旋轉構件和與該防旋轉構件接觸的部件的制造成本。
[0022]另一個方案是提供一種能夠有效克服產生在繞動渦盤上的傾翻力矩的渦旋壓縮機。
[0023]為獲得這些和其它的優(yōu)點，并且根據(jù)本發(fā)明的目的，如本文所具體化并寬泛描述的，提供一種渦旋壓縮機，其包括:防旋轉構件，布置在固定構件與可動構件之間，并配置為用以防止可動構件的旋轉，以及被配置為用以允許可動構件進行相對于固定構件的繞動運動，其中防旋轉構件包括形成為環(huán)形的環(huán)部；一個或多個第一滑動表面，沿第一方向形成在環(huán)部的內周面或外周面，并且可滑動地聯(lián)接到可動構件；以及一個或多個第二滑動表面，沿第二方向形成在未形成第一滑動表面的環(huán)部的內周面和外周面之一上，并且可滑動地聯(lián)接到固定構件，其中從第一滑動表面延伸的虛擬線和從第二滑動表面延伸的虛擬線形成為彼此相交。
[0024]根據(jù)本發(fā)明的另一個方案，提供一種渦旋壓縮機，其包括:外殼；包括轉子和定子的驅動電機；固定安裝在外殼的內部空間的框架；固定渦盤，固定安裝于該框架；繞動渦盤，安裝為相對于固定渦盤可移動，并且聯(lián)接到驅動電機的轉子；以及防旋轉構件，布置在框架與繞動渦盤之間或者固定渦盤與繞動渦盤之間，并配置為用以防止繞動渦盤旋轉，其中在框架或固定渦盤處形成第一引導表面，在繞動渦盤處形成第二引導表面，在防旋轉構件的內周面和外周面之一上形成第一滑動表面，以便可滑動地接觸第一引導表面，在防旋轉構件的未形成第一滑動表面的內周面與外周面之一上形成第二引導表面，以便可滑動地接觸第二引導表面。
[0025]本發(fā)明的有益效果
[0026]在本發(fā)明的實施例中，防旋轉構件的上下表面不僅形成為平面，而且形成為設有滑動表面。這樣可防止繞動渦盤旋轉，從而便于以簡單的方式制造防旋轉構件。此外，即使繞動渦盤產生傾翻力矩，防旋轉構件也不會傾斜。這樣可有效防止繞動渦盤的傾斜，由此減小了局部摩擦和噪聲。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0027]圖1是示出根據(jù)現(xiàn)有技術的渦旋壓縮機的一個示例的縱向剖視圖；
[0028]圖2是示出十字滑環(huán)已與圖1的主框架和繞動渦盤分離的狀態(tài)的立體圖；
[0029]圖3是示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的渦旋壓縮機的一個示例的縱向剖視圖；
[0030]圖4是示出防旋轉構件已與圖3的渦旋壓縮機的主框架和繞動渦盤分離的狀態(tài)的立體圖；
[0031]圖5是示出防旋轉構件已插設在圖3的渦旋壓縮機的主框架和繞動渦盤之間的狀態(tài)的立體圖；
[0032]圖6是沿圖5中的線1-1截取的剖視圖，其示出防旋轉構件已插設在主框架和繞動渦盤之間的狀態(tài)；
[0033]圖7a-圖7d是示出圖3的渦旋壓縮機的處于運動中的繞動渦盤被防旋轉構件防止旋轉的過程的平面圖；以及
[0034]圖8是示出圖3的渦旋壓縮機的防旋轉構件的安裝位置的另一實施例的縱向剖視圖。
【具體實施方式】
[0035]現(xiàn)在將具體介紹本發(fā)明的優(yōu)選實施例，在附圖中示出了這些實施例的示例。對本領域技術人員而言將顯而易見的是，能夠在不背離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，對本發(fā)明進行各種更改和變型。因此，這些更改和變型理應被隨附的權利要求書及其等同物所涵
至JHL ο
[0036]現(xiàn)在將參照附圖詳細描述具有根據(jù)多種實施例的防旋轉構件和具有該防旋轉構件的渦旋壓縮機。
[0037]在下文中，將參照附圖更詳細地說明根據(jù)本發(fā)明的實施例的渦旋壓縮機。[0038]圖3是示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的渦旋壓縮機的一個示例的縱向剖視圖，圖4是示出防旋轉構件已與圖3的渦旋壓縮機的主框架和繞動渦盤分離的狀態(tài)的立體圖，圖5是示出防旋轉構件已插設在圖3的渦旋壓縮機的主框架與繞動渦盤之間的狀態(tài)的縱向剖視圖，以及圖6是沿圖5的線“Ι-1”截取的剖視圖，其示出了防旋轉構件已插設在主框架與繞動渦盤之間的狀態(tài)。
[0039]如圖所示，具有根據(jù)本發(fā)明的實施例的防旋轉構件的渦旋壓縮機包括主框架120和子框架130，主框架120固定安裝在密閉外殼110的內部空間111，子框架130沿水平方向固定到主框架120的一側。子框架130可聯(lián)接到外殼110的內周面，或者可與外殼110一體地形成。
[0040]主框架120的中心形成用于沿徑向支撐曲軸150的軸容置孔121，用于沿徑向支撐曲軸150的第一軸承122安裝在軸容置孔121中。
[0041]驅動電機140在外殼110的內部空間111中固定地安裝在主框架120與子框架130之間。在驅動電機140的定子141上可以集中的方式纏繞有線圈。驅動電機140可被實施為轉子142旋轉速度相同的恒速電機。或者，考慮渦旋壓縮機所應用的制冷空氣調節(jié)設備的多種功能，驅動電機140可被實施為轉子142的旋轉速度可變的變頻電機。聯(lián)接到轉子142的曲柄軸150可旋轉地聯(lián)接到繞動渦盤170 (稍后將說明)并將驅動電機140的旋轉力傳遞到繞動渦盤170。曲軸150由分別固定安裝在外殼110的左右側的主框架120和子框架130支撐。
[0042]固定潤盤160固定聯(lián)接到主框架120的一側表面。固定潤盤160設有圓盤形端板161，以便固定到主框架120，形成壓縮室(P)的固定渦卷162被形成在端板161的底表面上。端板161的邊緣形成直接連接至吸入管113的吸入凹部(圖中未示)，端板161的中心形成排放口 163。
[0043]繞動渦盤170 (其與固定渦盤160 —起形成一對壓縮室(P))被安裝在主框架120的上表面與固定渦盤160的底表面之間。繞動渦盤170設有圓盤形端板，以便在主框架120與固定渦盤160之間進行繞動運動。在端板171的一側表面形成繞動渦卷172，該繞動渦卷通過與固定渦卷162接合而形成壓縮室(P)。從端板171的另一側表面突出形成有凸臺部173，該凸臺部聯(lián)接到曲軸150。
[0044]在繞動渦盤170與主框架120之間安裝有防旋轉構件180，該防旋轉構件用于防止繞動渦盤170旋轉、但允許借助從驅動電機140接收的旋轉力而進行繞動運動。
[0045]如圖4至圖6所示，防旋轉構件180設有形成為環(huán)形的環(huán)部181，該環(huán)部181具有預定厚度與寬度。在主框架120的一側表面處(即軸容置孔121的周緣處)從推力支承表面以階形形成環(huán)形安裝部123，使得防旋轉構件180被插入其中進而可在平面上移動。安裝部123包括:底表面1231，防旋轉構件180布置在底表面1231上；以及側壁表面1232，其從底表面1231延伸到推力支承表面的方向，并且構成安裝部123的內周面，從而形成第一引導表面125 (稍后將說明)。
[0046]環(huán)部181的沿軸向的兩個側表面，即與主框架120的安裝部123以及繞動渦盤170的推力表面175滑動接觸的第一推力表面182和第二推力表面183并不像現(xiàn)有技術那樣分別設有附加的鍵，而是形成為平面狀。
[0047]環(huán)部181的沿軸向的一個側表面設有接觸主框架120的第一推力表面182，環(huán)部181的沿軸向面向第一推力表面182的另一個側表面設有接觸繞動渦盤170的第二推力表面183。因此，主框架120的安裝部123和繞動渦盤170的分別面向第一推力表面182和第二推力表面183的推力表面175形成為平面，而并不具有像現(xiàn)有技術那樣的附加的鍵槽。
[0048]在環(huán)部181的外周面的兩側形成有多個第一滑動表面184，以便在平面上相對于主框架120的安裝部123的內周面(即側壁表面1232)沿第一方向滑動。而且，在安裝部123的內周面的兩側形成有多個第一引導表面125，使得防旋轉構件180的第一滑動表面184可在平面上沿第一方向滑動。這些第一引導表面125在平面上與第一方向(圖6中的上下方向)平行地形成。如圖5和圖6所不,第一滑動表面184和第一引導表面125可形成為基于水平的部分具有重疊的高度，更優(yōu)選地可形成在相同的平面上。這里，從第一引導表面125延伸的虛線和從第二引導表面176 (稍后說明)延伸的虛線可彼此相交。
[0049]在環(huán)部181的內周面的兩側形成有多個第二滑動表面185，以便在平面上相對于繞動渦盤170沿第二方向滑動。而且，在繞動渦盤170的凸臺部173的外周面的兩側形成有多個第二引導表面176，使得防旋轉構件180的第二滑動表面185可在平面上沿第二方向滑動。第二引導表面176在平面上與第二方向(圖6中的左右方向)平行地形成。如圖5和圖6所示，滑動表面185和第二引導表面176可形成為基于水平的部分具有與第一滑動表面184和第一引導表面125重疊的高度，更優(yōu)選地可形成在相同的平面上。
[0050]從第二滑動表面185延伸的虛線沿著垂直于從第一滑動表面184延伸的虛線的方向形成。然而，從第二滑動表面185延伸的虛線并非必須沿著垂直于從第一滑動表面184延伸的虛線的方向形成，而是可與從第一滑動表面184延伸的虛線形成交叉。
[0051]第一滑動表面184形成為具有比第一引導表面125短的長度,第二滑動表面185形成為具有比第二引導表面176短的長度。這樣，在防旋轉構件180相對于主框架120和繞動渦盤170進行滑移運動時可防止繞動渦盤170旋轉。
[0052]如圖6所示，多個第一滑動表面184形成為基于沿第一方向通過環(huán)部181的中心線而彼此對稱。而且，多個第二滑動表面185形成為基于沿第二方向通過環(huán)部181的中心線而彼此對稱。
[0053]附圖標記112表示吸入管，附圖標記113表示排放管，附圖標記122、131和174指代軸承，附圖標記190表示止回閥。
[0054]以下將說明該渦旋壓縮機的操作:
[0055]當驅動電機140被供電時，曲軸150與轉子142 —起旋轉，以將旋轉力傳遞到繞動渦盤170。
[0056]然后，繞動渦盤170借助防旋轉構件而在主框架120的推力支承表面上以一偏心距離進行繞動運動。因此，在固定渦卷162與繞動渦卷172之間形成的一對壓縮室(P)連續(xù)地移動。
[0057]由于繞動渦盤170連續(xù)的繞動運動，壓縮室(P)移動到中心從而具有減小的容積。因此，通過吸入管112抽吸到壓縮室(P)的制冷劑被壓縮，然后通過排放口 163被排放到外殼110的內部空間，排放口 163與最后的壓縮室連通。被排放的制冷劑經(jīng)由排放管113隨著制冷循環(huán)被移動。
[0058]環(huán)形的防旋轉構件180被設置在主框架120與繞動渦盤170之間，從而防止繞動渦盤170從驅動電機140接收旋轉力而旋轉，但是允許繞動渦盤170進行繞動運動。[0059]圖7是示出圖3的渦旋壓縮機的處于運動中的繞動渦盤被防旋轉構件防止旋轉的過程的平面圖。
[0060]如圖7所示，繞動渦盤170在從曲軸150的中心偏心的狀態(tài)下被可旋轉地聯(lián)接到曲軸150，并從曲軸150接收旋轉力。因此，在主框架120的上表面上，繞動渦盤170趨于旋轉以及繞曲軸150對中的繞動運動。
[0061]第一滑動表面184在防旋轉構件180的兩個外側面形成為平直形狀并且平行，并且插入到主框架120的安裝部123。而且，第一引導表面125在安裝部123的內周面的兩側上形成為平直形狀并且平行。這樣可防止繞動渦盤160旋轉，并且使繞動渦盤170沿第一滑動表面184和第一引導表面125相交的第一方向(即上下方向)滑動。
[0062]同時，第二滑動表面185在防旋轉構件180的內周面沿垂直于第一滑動表面184的方向形成為平直形狀并且平行。而且，第二引導表面176在凸臺部173的外周面上形成為平直形狀并且平行，與第二滑動表面185對應地，凸臺部173與防旋轉構件180 —起插入安裝部123。這樣可防止繞動渦盤170旋轉，并可使繞動渦盤170沿第二滑動表面185與第二引導表面176相交的第二方向(即左右方向)滑動。
[0063]如圖7a至圖7d所示，在這些構造中，雖然從驅動電機140接收了旋轉力，但繞動渦盤170被防旋轉構件180防止旋轉，而進行繞動運動。在圖7a至圖7d中，Oa指代曲軸的中心，而Ob指代繞動渦盤的凸臺部的中心。
[0064]在現(xiàn)有技術中，防旋轉構件的上下表面形成有多個鍵，主框架和繞動渦盤形成有多個鍵槽。這樣可能造成防旋轉構件的制造較為困難，并且可能導致繞動渦盤性能不穩(wěn)定。然而，在本發(fā)明的實施例中，防旋轉構件的上下表面不僅被形成為平面形，而且還被形成為設有滑動表面。這樣可防止繞動渦盤旋轉，由此便于以簡單的方式制造防旋轉構件。此外，即使在繞動渦盤中產生傾翻力矩，防旋轉構件也不會傾斜。這樣可有效防止繞動渦盤的傾斜，從而減小了局部摩擦和噪聲。
[0065]以下將說明根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例的渦旋壓縮機。
[0066]在上述的實施例中，防旋轉構件被安裝在主框架與繞動渦盤之間。然而，在本實施例中，如圖8所示，防旋轉構件180可被安裝在固定渦盤160與繞動渦盤170之間。
[0067]在此情況下，防旋轉構件180的環(huán)部181可形成為環(huán)形，而第一推力表面182和第二推力表面183分別形成在環(huán)部181的上表面和底表面。第一滑動表面184和第二滑動表面185可分別形成在環(huán)部181的外側表面和內側表面。在固定渦盤160的推力支承表面上可形成安裝部165，在安裝部165的內周面上可形成第一引導表面166。而且，在繞動渦盤170的推力支承表面上可形成呈凸臺部形式的安裝部177，在安裝部177的外周面上可形成第二引導表面178。
[0068]在本實施例中，除了防旋轉構件被布置在固定渦盤與繞動渦盤之間之外，渦旋壓縮機具有與上述的實施例相同的構造和效果。這樣可允許繞動渦盤通過被主框架穩(wěn)定地支撐而具有更穩(wěn)定的性能。
【權利要求】
1.一種渦旋壓縮機，包括: 防旋轉構件，布置在固定構件與可動構件之間，并配置為用以防止所述可動構件的旋轉，以及配置為用以允許所述可動構件進行相對于所述固定構件的繞動運動， 其中所述防旋轉構件包括: 環(huán)部，形成為環(huán)形； 一個或多個第一滑動表面，沿第一方向形成在所述環(huán)部的內周面或外周面上，并可滑動地聯(lián)接到所述可動構件；以及 一個或多個第二滑動表面，沿第二方向形成在未形成所述第一滑動表面的所述環(huán)部的內周面和外周面之一上，并可滑動地聯(lián)接到所述固定構件， 其中從所述第一滑動表面延伸的虛擬線和從所述第二滑動表面延伸的虛擬線形成為彼此相交。
2.根據(jù)權利要求1所述的渦旋壓縮機，其中每個所述第一滑動表面和第二滑動表面形成為多個， 其中多個第一滑動表面在基于沿所述第一方向通過所述環(huán)部的中心線相互對稱的周面上平行地形成，而多個第二滑動表面在基于沿所述第二方向通過所述環(huán)部的中心線相互對稱的周面上平行地形成。
3.根據(jù)權利要求2所述的渦旋壓縮機，其中所述環(huán)部具有接觸所述固定構件的第一推力表面，以及在所述第一推力表面的相對側形成并接觸所述可動構件的第二推力表面， 其中所述第一推力表面與第二推力表面形成為平面。
4.根據(jù)權利要求1所述的渦旋壓縮機，其中所述第一滑動表面和第二滑動表面形成在基于一水平部分具有重疊高度的平面上。
5.一種渦旋壓縮機，包括: 外殼; 驅動電機，包括轉子和定子； 框架，固定安裝在所述外殼的內部空間； 固定渦盤，固定安裝于所述框架； 繞動渦盤，安裝為能相對于所述固定渦盤移動，并且聯(lián)接到所述驅動電機的轉子；以及防旋轉構件，布置在所述框架與所述繞動渦盤之間或者所述固定渦盤與所述繞動渦盤之間，并配置為用以防止所述繞動渦盤旋轉， 其中在所述框架或所述固定渦盤處形成第一引導表面，在所述繞動渦盤處形成第二引導表面，在所述防旋轉構件的內周面和外周面之一上形成第一滑動表面，以便可滑動地接觸所述第一引導表面，并且在所述防旋轉構件的未形成所述第一滑動表面的內周面與外周面之一上形成第二滑動表面，以便可滑動地接觸所述第二引導表面。
6.根據(jù)權利要求5所述的渦旋壓縮機，其中從所述第一滑動表面延伸的虛擬線和從所述第二滑動表面延伸的虛擬線形成為彼此相交。
7.根據(jù)權利要求6所述的渦旋壓縮機，其中在所述框架處形成有被配置為用以安裝所述防旋轉構件的安裝部，并且在所述繞動渦盤處形成有被配置為用以接納所述防旋轉構件的凸臺部， 其中所述第一引導表面形成在所述安裝部的內周面上，而所述第二引導表面形成在所述凸臺部的外周面上， 其中從所述第一引導表面延伸的虛擬線和從所述第二引導表面延伸的虛擬線形成為彼此相交。
8.根據(jù)權利要求6所述的渦旋壓縮機，其中所述固定渦盤和所述繞動渦盤各自具有被配置為用以安裝所述防旋轉構件的安裝部， 其中所述第一引導表面形成在所述固定渦盤的安裝部的內周面上，而所述第二引導表面形成在所述繞動渦盤的安裝部的外周面上， 其中從所述第一引導表面延伸的虛擬線和從所述第二引導表面延伸的虛擬線形成為彼此相交。
9.根據(jù)權利要求6所述的渦旋壓縮機，其中所述第一滑動表面和所述第二滑動表面形成為相互垂直，以及 其中所述第一引導表面和所述第二引導表面形成為相互垂直。
10.根據(jù)權利要求7所述的渦旋壓縮機，其中所述第一引導表面形成為比所述第一滑動表面要長，以及 其中所述第二引導表面形成為比所述第二滑動表面要長。
11.根據(jù)權利要求7所述的渦旋壓縮機，其中所述防旋轉構件的推力表面形成為平面， 其中與所述防旋轉構件的推力表面或者所述固定渦盤和繞動渦盤各自的推力表面相接觸的框架，與所述防旋轉構件的推力表面對應地，形成為平面。
12.根據(jù)權利要求8所述的渦旋壓縮`機，其中所述第一引導表面形成為比所述第一滑動表面要長， 其中所述第二引導表面形成為比所述第二滑動表面要長，
13.根據(jù)權利要求8所述的渦旋壓縮機，其中所述防旋轉構件的推力表面形成為平面， 其中與所述防旋轉構件的推力表面或者所述固定渦盤和繞動渦盤各自的推力表面相接觸的框架，與所述防旋轉構件的推力表面對應地，形成為平面。
14.根據(jù)權利要求5所述的渦旋壓縮機，其中所述第一引導表面、所述第二引導表面、所述第一滑動表面和所述第二滑動表面形成在基于一水平部分具有重疊高度的平面上。
【文檔編號】F04C18/02GK103635693SQ201280033053
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2012年2月22日 優(yōu)先權日:2011年7月1日
【發(fā)明者】金明均, 樸益緒, 崔泰洵 申請人:Lg電子株式會社