過規(guī)定時(shí)間的加熱形成 析出物，通過利用濾紙進(jìn)行過濾而被與鍍液分離、除去。通過規(guī)定時(shí)間的加熱也沒有形成析 出物的稀土類雜質(zhì)以上述分析結(jié)果所示的比例保持離子狀態(tài)殘留于鍍液中。根據(jù)上述分析 結(jié)果明顯可知，加熱時(shí)間越長，則以析出物的形式被分離、除去的稀土類雜質(zhì)的量越多，其 結(jié)果是鍍液中處于離子狀態(tài)的稀土類雜質(zhì)的量減少。可知，通過實(shí)施例1的處理方法，作為 稀土類元素的Nd的雜質(zhì)量減少，同時(shí)Pr和Dy的雜質(zhì)量也減少。
[0071] 實(shí)施例2
[0072] 將具有由250g/L的硫酸鎳、50g/L的氯化鎳、45g/L的硼酸構(gòu)成的組成且pH4. 5的 鍍液加熱至50°C，對R-Fe-B系燒結(jié)磁鐵（使用與實(shí)施例1相同組成范圍的燒結(jié)磁鐵）的表 面實(shí)施電鍍鎳。進(jìn)行幾天鍍敷處理后，對鎳電鍍液中的Nd雜質(zhì)進(jìn)行分析，結(jié)果為576ppm。
[0073] 在從50°C到95°C的6個(gè)條件（其中，以10°C為一個(gè)刻度，從50°C到90°C為5個(gè)條 件）下對上述處理后的鍍液進(jìn)行加熱，各個(gè)條件下采集上述鍍液保持于3升的燒杯中。加 熱中利用磁鐵式攪拌機(jī)（磁力攪拌器）進(jìn)行攪拌。加熱中補(bǔ)給水使得鍍液的濃度恒定，同 時(shí)每隔一定時(shí)間采集足夠用于ICP發(fā)光分析的量的鍍液。采集的鍍液用濾紙進(jìn)行過濾后， 使用ICP發(fā)光分析裝置對鍍液中的Nd雜質(zhì)的含量（濃度）進(jìn)行分析。將從50°C到90°C的 分析結(jié)果示于表1中，并且示于圖3中。
[0074] 表 1
[0075]
[0078] 液溫為50°C的情況下，經(jīng)過168小時(shí)后Nd雜質(zhì)濃度變?yōu)?18ppm。液溫為60°C時(shí)， 24小時(shí)以后Nd雜質(zhì)濃度降低，經(jīng)過216小時(shí)后變?yōu)?77ppm。液溫為70°C時(shí)，與60°C相比， Nd雜質(zhì)濃度在24小時(shí)以后顯示出始終較低的趨勢。液溫為80°C時(shí)，Nd雜質(zhì)濃度從加熱不 久后開始降低，經(jīng)過96小時(shí)后變?yōu)?25ppm。液溫為90°C時(shí)，Nd雜質(zhì)濃度在經(jīng)過24小時(shí)后 變?yōu)?34ppm、經(jīng)過48小時(shí)后變?yōu)?4ppm、經(jīng)過96小時(shí)后變?yōu)?9ppm。液溫為95°C時(shí)，對經(jīng) 過24小時(shí)后和經(jīng)過96小時(shí)后進(jìn)行分析，結(jié)果Nd雜質(zhì)濃度與在90°C進(jìn)行加熱的情況大致相 同。
[0079] 根據(jù)以上結(jié)果可知，對于在60°C以上加熱一定時(shí)間并過濾掉析出物后的鍍液而 言，Nd雜質(zhì)的量減少，并且，加熱溫度越高，減少效果越大。
[0080] 可知：以使Nd雜質(zhì)的量減少至觀察不到鍍膜的雙重鍍敷、剝離的產(chǎn)生的200ppm以 下為目的的情況下，加熱溫度為60°C時(shí)用1個(gè)星期（168小時(shí)）減少至約200ppm，70°C時(shí)用 5天（120小時(shí)）、80°C時(shí)用3天（72小時(shí)）、90°C和95°C時(shí)用24小時(shí)（1天）可得到大致相 同程度的效果。因此，例如，將1個(gè)星期設(shè)為生產(chǎn)的單位期間時(shí)，在60°C保持1個(gè)星期（168 小時(shí)）之后過濾后的鍍液能夠足以用于鍍敷處理，另外，在70°C時(shí)用5天（120小時(shí)）能夠 減少至可鍍敷的雜質(zhì)量。同樣地在80°C、90°C以及95°C時(shí)能夠以更短的時(shí)間減少鍍液中的 雜質(zhì)。即，加熱溫度和保持時(shí)間可以根據(jù)有無可將鍍液加熱至上述溫度的設(shè)備、生產(chǎn)規(guī)模來 選擇。
[0081] 實(shí)施例3
[0082] 將實(shí)施例1和實(shí)施例2中進(jìn)行加熱處理后的鍍液通過濾紙進(jìn)行過濾，回收從鍍液 析出的析出物。將上述析出物在恒溫槽中干燥。性狀為粉體（固體）。用能量色散型X射 線分析裝置（EDX)對該析出物進(jìn)行分析，結(jié)果具有如下組成：Nd為32. 532、Pr為11. 967、 Dy為 1. 581、A1 為 0. 402、Ni為 7. 986、C為 0. 319 以及 0 為 45. 213 (質(zhì)量％ )。根據(jù)該結(jié) 果確認(rèn)到，通過加熱處理，鍍液中的稀土類雜質(zhì)以紛體（固體）的方式析出。
[0083] 實(shí)施例4
[0084] 將具有由250g/L的硫酸鎳、50g/L的氯化鎳、45g/L的硼酸構(gòu)成的組成且pH4. 5的 鍍液加熱至50°C，對R-Fe-B系燒結(jié)磁鐵（使用與實(shí)施例1相同組成范圍的燒結(jié)磁鐵）的表 面實(shí)施電鍍鎳。進(jìn)行幾天鍍敷處理后，使用ICP發(fā)光分析裝置對鎳電鍍液中的Nd雜質(zhì)進(jìn)行 分析，結(jié)果為544ppm。
[0085] 將上述含有雜質(zhì)的鍍液采集分配至5個(gè)燒杯中，每個(gè)燒杯3升，其中，利用硫酸將 pH調(diào)整為4. 0的鍍液準(zhǔn)備2個(gè)樣品，利用碳酸鎳將pH調(diào)整為5. 1的鍍液準(zhǔn)備2個(gè)樣品，pH 為4. 5的鍍液準(zhǔn)備1個(gè)樣品。
[0086] 將各樣品在加熱至90°C的狀態(tài)下保持一定時(shí)間。需要說明的是，加熱中利用磁鐵 式攪拌機(jī)（磁力攪拌器）進(jìn)行攪拌。加熱中補(bǔ)給水使得鍍液的濃度恒定。在24、48、72以 及96小時(shí)后分別采集用于ICP發(fā)光分析所需量的鍍液，利用濾紙進(jìn)行過濾后，利用ICP發(fā) 光分析裝置對鍍液中所含的Nd的量進(jìn)行測定。將結(jié)果示于表2和圖4中。
[0087]表2
[0088]
[0089] 對于pH5. 1的樣品而言，雖然Nd雜質(zhì)的析出速度略慢，但任一樣品都是Nd雜質(zhì)量 隨著時(shí)間的推移而降低，在經(jīng)過96小時(shí)后的時(shí)刻達(dá)到大致相同的雜質(zhì)量。因此可知，在通 過加熱除去鎳電鍍液中的稀土類雜質(zhì)的方法中，在鍍液的pH為4. 0~5. 1的范圍內(nèi)，Nd雜 質(zhì)的析出速度沒有發(fā)現(xiàn)顯著差異，實(shí)用上得到了充分的稀土類雜質(zhì)的析出、除去效果。因 此，只要在pH4. 0~5. 1的范圍內(nèi)進(jìn)行鎳電鍍，則能夠在不進(jìn)行pH調(diào)整的情況下進(jìn)行稀土 類雜質(zhì)的除去處理。即，基本上不需要以往從鎳電鍍液除去金屬雜質(zhì)時(shí)經(jīng)常進(jìn)行的pH調(diào)整 (使pH升高），能夠削減成本以及提高作業(yè)效率。
[0090] 在以上的實(shí)施例中，能夠確認(rèn)到Nd、Pr以及Dy的雜質(zhì)降低效果，此外，可認(rèn)為也能 夠降低Tb、其他稀土類雜質(zhì)、以及鍍液中的Fe雜質(zhì)、Cu雜質(zhì)。
[0091] 產(chǎn)業(yè)上的可利用性
[0092] 本發(fā)明能夠高效地除去在鍍敷稀土類磁鐵時(shí)溶解于鍍液中的、導(dǎo)致所謂的鍍敷不 良的鎳電鍍液中的稀土類雜質(zhì)，因此具有產(chǎn)業(yè)上的可利用性。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種鎳電鍍液中的稀土類雜質(zhì)的除去方法，其特征在于，將含有稀土類雜質(zhì)的pH為 4. O~5. 1的鎳電鍍液在加熱至60°C以上的狀態(tài)下保持一定時(shí)間后，通過沉降和/或過濾 將因所述加熱而析出的析出物從所述鎳電鍍液中除去。2. 如權(quán)利要求1所述的鎳電鍍液中的稀土類雜質(zhì)的除去方法，其特征在于，所述加熱 前的鎳電鍍液的pH為4. 0~4. 5。3. 如權(quán)利要求1或2所述的鎳電鍍液中的稀土類雜質(zhì)的除去方法，其特征在于，在所述 鎳電鍍液的加熱時(shí)，對鎳電鍍液進(jìn)行攪拌。4. 如權(quán)利要求3所述的鎳電鍍液中的稀土類雜質(zhì)的除去方法，其特征在于，所述攪拌 為通過空氣而進(jìn)行的攪拌、通過攪拌葉片的旋轉(zhuǎn)而進(jìn)行的攪拌、或者通過利用栗使液體循 環(huán)而進(jìn)行的攪拌。
【專利摘要】一種鎳電鍍液中的稀土類雜質(zhì)的除去方法，其特征在于，將含有稀土類雜質(zhì)的pH為4.0～5.1的鎳電鍍液在加熱至60℃以上的狀態(tài)下保持一定時(shí)間后，通過沉降和/或過濾將因所述加熱而析出的析出物從所述鎳電鍍液中除去。
【IPC分類】C25D21/18
【公開號】CN105051263
【申請?zhí)枴緾N201480017674
【發(fā)明人】蒲池政直
【申請人】日立金屬株式會(huì)社
【公開日】2015年11月11日
【申請日】2014年3月17日
【公告號】WO2014156767A1