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一種光解水制氫用多層BiVO4/CuWO4復(fù)合膜及其制備方法與流程

文檔序號:12099656閱讀:944來源:國知局
一種光解水制氫用多層BiVO4/CuWO4復(fù)合膜及其制備方法與流程

本發(fā)明屬于無機功能薄膜材料制備領(lǐng)域,特別涉及一種用于光解水制氫的、基于復(fù)合氧化物半導(dǎo)體的多層復(fù)合薄膜及其制備方法。



背景技術(shù):

新能源之一的氫能在使用過程中不產(chǎn)生污染,為人類應(yīng)對環(huán)境污染和能源短缺的挑戰(zhàn)帶來了無限的希望。但目前氫能主要來源于化石燃料的提煉(約96%),其生產(chǎn)過程造成環(huán)境污染,還不能說是百分之百的清潔能源。1972年A.Fujishims等報道了發(fā)生在TiO2單晶電極表面的光致分解水生成H2和O2的現(xiàn)象,說明可以利用太陽能這種用之不竭的綠色能源獲取氫能,有望使其成為真正意義上的清潔能源,因此引起了世人的關(guān)注和重視。

光解水制氫過程是一光催化作用下的氧化還原過程,半導(dǎo)體光電極吸收光子能量,使價帶電子躍遷至導(dǎo)帶,產(chǎn)生光生電子-空穴,電子與空穴分離并分別遷移到催化劑表面,與吸附于表面的H+發(fā)生還原反應(yīng)形成H2,與OH-發(fā)生氧化反應(yīng)形成O2。因此,實現(xiàn)光解水制氫的前提條件是光電極能吸收光能。最早報道的簡單氧化物TiO2能隙為3.1~3.2eV,可以實現(xiàn)紫外光響應(yīng)分解水制氫,但只能吸收太陽能中5~6%的紫外光,能量利用效率很低。光電極材料的能隙既要大于1.23eV,但不能過寬,一般小于3.0eV時,才能吸收415nm以上的光線,具有可見光催化特性。

通式為ABO3、ABO4、A2B2O7、AB2O4等類型的復(fù)合氧化物具有可見光響應(yīng)的特點。例如,BiVO4能隙為2.4eV,理論上應(yīng)具有吸收可見光的能力,但實際上的光吸收能力受材料的表面質(zhì)量、內(nèi)部缺陷等諸多因素的影響,吸收效率不高,往往達不到這種理論效果。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于提供一種用于光解水制氫的多層復(fù)合氧化物薄膜電極材料及其制備方法。

為提高光電極對光的整體吸收效果,薄膜材料的尺寸不宜過小;為確保光生電子、空穴能順利分離并遷移到催化劑表面,減小在遷移過程中的復(fù)合,尺寸不宜大,這是相互矛盾的。本發(fā)明的基本思路是:設(shè)置由一種或兩種的復(fù)合氧化物組成的多層膜結(jié)構(gòu),利用光子在界面的反復(fù)折射提高對光的吸收率,以克服上述的矛盾。通過溶膠-凝膠法,提拉工藝制備多層復(fù)合薄膜,通過優(yōu)化工藝確保實現(xiàn)上述目的。

本發(fā)明所提供的多層復(fù)合氧化物薄膜具有如下特點。一是由BiVO4和CuWO4兩種材料中的一種或兩種組成,復(fù)合薄膜至少為五層結(jié)構(gòu)。二是可以通過改變組合方式,得到不同吸收光譜的光催化電極材料。例如,相對于單層CuWO4而言,由至少五層CuWO4組成時,可見光響應(yīng)范圍明顯拓寬;由至少五層BiVO4組成時,可見光響應(yīng)范圍進一步拓寬;當(dāng)由不同層數(shù)的BiVO4膜和CuWO4膜組合而成,總層數(shù)不少于五層,兩種材料可以交替組合,但不僅限于這種組合方式時,除可見光響應(yīng)范圍拓寬外,吸收系數(shù)明顯提高。

本發(fā)明提供一種用于光解水制氫的多層復(fù)合氧化物薄膜的制備方法,其制備步驟如下:

1)采用溶膠-凝膠法制備CuWO4和BiVO4濕溶膠;

2)在清洗干凈的FTO基體上,采用提拉法制備BiVO4、CuWO4凝膠薄膜;

3)將步驟2)的凝膠薄膜置于40~80℃溫度下干燥1~3小時;

4)用無水乙醇和去離子水依次清洗步驟3)的干凝膠薄膜,并放置至自然干燥;

5)對步驟4)所得薄膜進行退火,退火溫度為500~600℃,保溫時間為80~280min,可以直接從室溫升至退火溫度,也可分兩段升溫,中間保溫溫度為80~200℃,保溫時間為50~180min;

6)退火工序完成后,用無水乙醇和去離子水依次清洗薄膜,待自然干燥后,再重復(fù)步驟2~5,制備出所需結(jié)構(gòu)的多層復(fù)合薄膜。

本發(fā)明所提供的多層膜及其制備方法具有如下顯著效果:一是可見光響應(yīng)范圍顯著拓寬,二是制備方法簡單、易于實施。

附圖說明

圖1為實施例1的多層復(fù)合薄膜及其對比樣的紫外-可見光譜。

圖2為實施例2的多層復(fù)合薄膜及其對比樣的紫外-可見光譜。

圖3為實施例3的多層復(fù)合薄膜及其對比樣的紫外-可見光譜。

圖4為對比例的雙層復(fù)合薄膜及其對比樣的紫外-可見光譜。

具體實施方式

下面通過實施例,進一步闡明本發(fā)明的特點和進步,僅在于說明本發(fā)明而不限于本發(fā)明。

實施例1

1)采用溶膠-凝膠法制備CuWO4濕溶膠;

2)在清洗干凈的FTO基體上,采用提拉法制備CuWO4凝膠薄膜;

3)將步驟2)的凝膠薄膜置于60℃溫度下干燥2小時;

4)用無水乙醇和去離子水依次清洗步驟3)的干凝膠薄膜,并放置至自然干燥;

5)對步驟4)所得薄膜進行退火,退火溫度為550℃,保溫時間為180min,分兩段升溫,中間保溫溫度為100℃,保溫時間為100min;

6)退火工序完成后,用無水乙醇和去離子水依次清洗薄膜,待自然干燥后,再重復(fù)步驟2~5,制備出5層結(jié)構(gòu)的CuWO4薄膜。

圖1說明5層結(jié)構(gòu)的CuWO4薄膜的吸收邊紅移,吸收率有所提高。

實施例2

1)采用溶膠-凝膠法制備BiVO4濕溶膠;

2)在清洗干凈的FTO基體上,采用提拉法制備BiVO4凝膠薄膜;

3)將步驟2)的凝膠薄膜置于65℃溫度下干燥2.1小時;

4)用無水乙醇和去離子水依次清洗步驟3)的干凝膠薄膜,并放置至自然干燥;

5)對步驟4)所得薄膜進行退火,退火溫度為570℃,保溫時間為160min,分兩段升溫,中間保溫溫度為100℃,保溫時間為100min;

6)退火工序完成后,用無水乙醇和去離子水依次清洗薄膜,待自然干燥后,再重復(fù)步驟2~5,制備出5層結(jié)構(gòu)的BiVO4薄膜。

圖2說明5層結(jié)構(gòu)的BiVO4薄膜的吸收邊大幅度紅移,在430nm以下的吸收率大幅度提高。

實施例3

1)分別采用溶膠-凝膠法制備CuWO4和BiVO4濕溶膠;

2)在清洗干凈的FTO基體上,采用提拉法制備CuWO4凝膠薄膜;

3)將步驟2)的凝膠薄膜置于60℃溫度下干燥2小時;

4)用無水乙醇和去離子水依次清洗步驟3)的干凝膠薄膜,并放置至自然干燥;

5)對步驟4)所得薄膜進行退火,退火溫度為550℃,保溫時間為180min,分兩段升溫,中間保溫溫度為100℃,保溫時間為100min;

6)退火工序完成后,用無水乙醇和去離子水依次清洗薄膜,自然干燥。

7)在步驟6)所得薄膜上,采用提拉法制備BiVO4凝膠薄膜;

8)將步驟7)的凝膠薄膜置于65℃溫度下干燥2.1小時;

9)用無水乙醇和去離子水依次清洗步驟8)的干凝膠薄膜,并放置至自然干燥;

10)對步驟9)所得薄膜進行退火,退火溫度為570℃,保溫時間為160min,分兩段升溫,中間保溫溫度為100℃,保溫時間為100min;

6)退火工序完成后,用無水乙醇和去離子水依次清洗薄膜,待自然干燥后,再重復(fù)步驟7~10,制備出結(jié)構(gòu)為四層BiVO4+一層CuWO4的多層復(fù)合薄膜。

圖3說明四層BiVO4+一層CuWO4的多層復(fù)合薄膜的吸收邊紅移,在可見光范圍內(nèi)的吸收率有所提高。

對比例

1)分別采用溶膠-凝膠法制備CuWO4和BiVO4濕溶膠;

2)在清洗干凈的FTO基體上,采用提拉法制備CuWO4凝膠薄膜;

3)將步驟2)的凝膠薄膜置于60℃溫度下干燥2小時;

4)用無水乙醇和去離子水依次清洗步驟3)的干凝膠薄膜,并放置至自然干燥;

5)對步驟4)所得薄膜進行退火,退火溫度為550℃,保溫時間為180min,分兩段升溫,中間保溫溫度為100℃,保溫時間為100min;

6)退火工序完成后,用無水乙醇和去離子水依次清洗薄膜,自然干燥。

7)在步驟6)所得薄膜上,采用提拉法制備BiVO4凝膠薄膜;

8)將步驟7)的凝膠薄膜置于65℃溫度下干燥2.1小時;

9)用無水乙醇和去離子水依次清洗步驟8)的干凝膠薄膜,并放置至自然干燥;

10)對步驟9)所得薄膜進行退火,退火溫度為570℃,保溫時間為160min,分兩段升溫,中間保溫溫度為100℃,保溫時間為100min;

6)退火工序完成后,用無水乙醇和去離子水依次清洗薄膜,自然干燥后,即可制備出結(jié)構(gòu)為一層BiVO4+一層CuWO4的雙層復(fù)合薄膜。

圖4說明一層BiVO4+一層CuWO4的雙層復(fù)合薄膜的吸收邊紅移,但在450nm可見光范圍內(nèi)的吸收率明顯下降。

綜合而言,五層復(fù)合薄膜在可見光范圍內(nèi)的吸收率較高。

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