專利名稱：一種鈦及鈦合金拋光液及拋光方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種電解拋光液及拋光方法，尤其涉及一種鈦及鈦合金電解拋光液及 拋光方法。
背景技術：
鈦及鈦合金因為具有質量輕、強度高、抗腐蝕性能優(yōu)異，并且對人體皮膚不會產(chǎn)生 過敏等特性成為繼鋼、鋁、鎂之后的21世紀的新型金屬，被廣泛的應用在飛機、導彈、輪船、 汽車、石油、化工、生物醫(yī)學等領域。而且由于鈦的無極性、鈦鈮合金的超導性、鈦鐵合金的 儲氫能力等特性等使鈦合金在尖端科學和高科技領域發(fā)揮著極其重要的作用。由于鈦及鈦合金的廣泛應用，鈦及鈦合金的加工也日益受到重視。其中，鈦及鈦合 金的拋光可以處理鈦及鈦合金在加工過程所形成的粗糙面，因此鈦及鈦合金的拋光是整個 鈦及鈦合金加工過程中不可或缺的加工程序。鈦及鈦合金的拋光方法可分為三種，即機械拋光、化學拋光和電解拋光。機械拋光，是指拋光輪高速旋轉，拋光件與拋光輪摩擦產(chǎn)生高溫，使拋光件金屬塑 性提高，在拋光力的作用下，拋光件表面產(chǎn)生塑性變形，凸起的部分被壓入并流動，凹進的 部分被填平，從而使不平的表面得到改善。但是一般的機械拋光后有比較嚴重的拋光紋的 弊端。化學拋光即酸腐蝕，所采用的主要物質為氫氟酸或氟離子的溶液。其機理為金屬 在化學拋光液中，由于酸的氧化作用，表面形成一層較厚的粘液膜，這層粘液膜在金屬表面 較凸的部位較薄，較凹的部分較厚。同時，由于酸的還原作用，使金屬表面發(fā)生溶解反應，溶 解的金屬離子向溶液中擴散時，在金屬表面較凸的部位則相反，這種化學反應反復進行，從 而金屬表面達到整平的目的。對鈦或鈦合金基體進行化學拋光處理時會發(fā)生劇烈反應，氟 離子與鈦離子的絡合物穩(wěn)定性很強，能夠緊密吸附在鈦或鈦合金的表面，使鈦或鈦合金基 體與空氣隔絕，因此鈦或鈦合金基體表面也就無法生成鈍化膜，這也是大部分鈦及鈦合金 的電鍍及其他表面處理用含有氫氟酸的溶液腐蝕作為前處理的原因。但是，氫氟酸是一種 高毒物質，極易揮發(fā)到空氣中。電解拋光，與機械拋光相比，電解拋光可大大減小拋光件內部和表面的應力，適用 于任何硬度的金屬和合金，它依靠選擇性溶解材料表面微小的凸出部分使表面光滑，其拋 光后的光潔度與表面平整度比機械拋光保持得更長久?，F(xiàn)有技術中公開了一種不含有氫氟酸的鈦合金拋光液，給鈦合金拋光液包括無水乙醇275_550g/L乳酸360_600g/L高氯酸35_260g/L高氯酸鹽2_20g/L但是由于鈦及鈦合金基體表面容易生成氧化膜，且氧化膜硬度高，拋光難度大，該 鈦合金拋光液容易產(chǎn)生拋光紋路，難以達到鏡面光的效果。

發(fā)明內容
本發(fā)明要解決的技術問題是現(xiàn)有的鈦及鈦合金的拋光液拋光后會在鈦及鈦合金 表面產(chǎn)生拋光紋路，難以得到鏡面光效果的鈦合金表面的缺陷，從而提供一種不產(chǎn)生紋路， 可以得到鏡面光效果的鈦及鈦合金拋光液。本發(fā)明提供了一種鈦及鈦合金拋光液，該拋光液包括乳酸、甲醇、丙三醇、氟的無 機鹽和光亮劑。本發(fā)明要解決的另一個技術問題是現(xiàn)有的拋光技術對鈦及鈦合金的拋光難度大， 容易產(chǎn)生拋光紋路，難以達到鏡面光的效果的缺陷，從而提供一種容易拋光，不產(chǎn)生拋光紋 路，可以達到鏡面光的效果的鈦及鈦合金拋光方法，該方法為先將鈦或鈦合金進行機械拋 光，然后進行電解拋光，所述電解拋光的拋光液為本發(fā)明所述的拋光液。本發(fā)明所用的電解拋光液及拋光方法克服了現(xiàn)有的電解拋光液和拋光方法拋光 難度大，容易產(chǎn)生拋光紋路，難以達到鏡面光的效果的弊端，從而擁有容易拋光，不產(chǎn)生拋 光紋路，可以達到鏡面光的效果。
具體實施例方式本發(fā)明提供了一種鈦及鈦合金拋光液，該拋光液包括乳酸、甲醇、丙三醇、氟的無 機鹽和光亮劑。根據(jù)本發(fā)明提供的鈦及鈦合金拋光液，在優(yōu)選情況下，所述乳酸的含量為 200-450ml/L。在本發(fā)明中，拋光液選用了相對粘性低的乳酸，使電流密度較低，陽極溶解緩 慢，以達到緩慢拋光的目的。同時，所述乳酸是一種弱電解質，在溶液中可以電離出氫離子。 在拋光過程中，隨著反應的進行，氫離子會消耗，濃度會降低，乳酸則可以電離出氫離子補 充反應中消耗的氫離子。當乳酸的含量小于200ml/L，拋光速度太慢，需要的時間太長；當 乳酸的含量大于450ml/L時，拋光得到的鏡面光效果差。根據(jù)本發(fā)明提供的鈦及鈦合金拋光液，在優(yōu)選情況下，所述甲醇的含量為 300-500ml/L。所述甲醇的主要作用是作為溶劑，使用甲醇作為溶劑可以最大限度地減少溶 液中水分的含量，因為水分的存在會增加鈦合金表面鈍化膜的穩(wěn)定性，不利于拋光的進行。 但是當甲醇的含量小于300ml/L時，拋光液中水分所占的比例相對較大，鈦合金表面的鈍 化膜相對會比較穩(wěn)定，因此如上所說，不利于拋光的進行；當甲醇的含量大于500ml/L時， 甲醇作為溶劑，會使拋光液中其余的有效成分的含量降低，不利于拋光的進行。根據(jù)本發(fā)明提供的拋光液，在優(yōu)選情況下，所述的丙三醇含量為30_50ml/L。所述 丙三醇是緩蝕劑，從丙三醇的分子結構式看，極性機體上的氧元素為共用的電子對與酸液 中的氫離子成鍵形成陽離子并吸附在鈦或鈦合金的表面腐蝕微電池的陰極區(qū)域，改變了鈦 合金表面的雙層電層結構，提高了鈦合金離子化過程的活化能，而非極性基團遠離金屬表 面作定向排布，形成一層疏水的薄膜，產(chǎn)生了覆蓋效應。成為氫離子擴散的屏障，因而增加 了氫離子的還原過電位，即產(chǎn)生了陰極極化而降低腐蝕，這樣就使腐蝕反應在一定程度上 受到抑制，起到緩蝕劑的作用。經(jīng)過大量試驗發(fā)現(xiàn)，丙三醇含量在30-50ml/L范圍內，鈦及 鈦合金表面不產(chǎn)生拋光紋路，鏡面光的效果最好。根據(jù)本發(fā)明提供的拋光液，在優(yōu)選情況下，所述氟的無機鹽的含量為3_6g/L。所述氟的無機鹽為氟化鋇、氟化鈉、氟化鉀中的一種或多種。所述拋光液中的氟離子能與鈦表面 形成的氧化膜發(fā)生反應，使其迅速活化。且氟離子與鈦離子的絡合物穩(wěn)定性很強，能夠緊密 吸附在鈦及鈦合金的表面，使鈦及鈦合金與空氣隔絕，抑制氧化膜的產(chǎn)生。當氟的無機鹽的 含量小于3g/L，氟離子在拋光液中的含量相對較低，不能快速有效地祛除鈦和鈦合金表面 的氧化膜，不利于拋光的進行；當氟的無機鹽的含量大于6g/L，氟離子過量，對實驗效果變 化不明顯。根據(jù)本發(fā)明提供的拋光液，所述拋光液中的在優(yōu)選情況下，所述光亮劑的含量為 3_12g/L，所述光亮劑為糖精、明膠、硬脂酸鈉、苯駢三氮唑等中的一種或多種。所述光亮劑 的作用是使鈦及鈦合金的表面更光亮，能夠得到光亮的鏡面效果。當光亮劑的含量小于3g/ L，不利于鈦及鈦合金表面的出光；當光亮劑的含量大于12g/L，對產(chǎn)品的出光效果沒有明 顯的提升。根據(jù)本發(fā)明提供的拋光液適合鈦及各種型號的鈦合金，如TC4、TA15、TA10、TB6。本發(fā)明還提供了一種鈦及鈦合金拋光方法，其中，先將鈦或鈦合金進行機械拋光， 然后進行電解拋光，所述電解拋光的拋光液為本發(fā)明所述的拋光液。本發(fā)明提供的拋光方法是利用機械拋光和電解拋光的有效結合，同時電解拋光的 拋光液是本發(fā)明所述的拋光液，使鈦合金基體表面無拋光紋路并且達到鏡面光的效果。根據(jù)本發(fā)明提供的拋光方法，在優(yōu)選情況下，所述電解拋光是將待拋光的鈦或鈦 合金作為陽極，鈦板作為陰極進行電解拋光，所述電解拋光的溫度為20-30°C，電流密度為 10-30A/dm2，拋光時間為 10_20min。電解拋光的溫度對拋光過程有很大的影響，當溫度低于20°C時，拋光液的粘度較 高，金屬溶解慢，溶液的導電性不好，達不到好的拋光效果；電解拋光的溫度升高，拋光液的 粘度低，金屬溶解速度加快，效率高。但若溫度高于30°C時，易使金屬表面產(chǎn)生腐蝕麻點而 降低拋光質量。電流密度對待拋光件表面的粗糙度的影響也非常敏感，隨著電流密度的增 加，腐蝕速度增大，拋光質量提高；電流密度低于ΙΟΑ/dm2，拋光質量下降。但是若電流密度 高于30A/dm2，將導致陽極析出大量的氧氣，同時產(chǎn)生的熱量不能及時擴散，電極表面的溫 度很快升高，導致金屬表面產(chǎn)生麻點，影響表面的光亮度。根據(jù)本發(fā)明提供的拋光方法，在優(yōu)選情況下，所述陰極與陽極表面積之比為 1-4 1。陰極表面積大于陽極表面，有利于提高電流利用率，有助于提高拋光的效果，但 是如陰極面積過大，即大于陽極表面積的4倍，導致電流效率過高，致使素材表面發(fā)生過腐 蝕，起不到拋光的效果。所述機械拋光時將鈦或鈦合金先用粗布輪進行粗拋，然后用風輪進行半精拋，最 后用白布輪進行精拋，進行拋光可以去除鈦或鈦合金本身在壓鑄過程中產(chǎn)生的毛刺、氧化 皮等，減小表面的粗糙度，提高表面光亮效果并增強后續(xù)電鍍的結合力。根據(jù)本發(fā)明提供的拋光方法，在優(yōu)選情況下，將經(jīng)電解拋光處理后的鈦或鈦合金 用無水乙醇清洗2-5min后取出，即可得到表面平整光亮的鏡面拋光效果，可以直接進行后 續(xù)的電鍍處理工序。本發(fā)明的拋光液中不含有氫氟酸，不會產(chǎn)生對人體不利的揮發(fā)物質及強烈刺激性 氣味，是一種環(huán)保安全的拋光液，使用本發(fā)明的拋光液對鈦及鈦合金進行拋光，可以使鈦及 鈦合金表面不產(chǎn)生紋路，可以得到鏡面光的效果。本發(fā)明中機械拋光部分選用了特定的拋光輪進行初步處理，去除素材表面的毛刺，氧化膜等。傳統(tǒng)的機械拋光很容易使素材表面產(chǎn) 生拋光紋，嚴重影響素材表面的外觀效果。本發(fā)明所選用機械拋光雖然可以一定程度上減 少拋光紋的產(chǎn)生，但是仍不能完全消除拋光紋。故本發(fā)明選擇在機械拋光后增加一步電解 拋光，補充了機械拋光的缺陷，使素材表面更加均勻，光亮度更高，甚至產(chǎn)生鏡面光的效果。 采用本發(fā)明拋光方法處理后的鈦及鈦合金基體表面平整光亮，進行后續(xù)的電鍍工藝，得到 的電鍍層覆蓋均勻，結合力好，金屬光澤度高，表面呈鏡面光效果。以下將以具體實施例對本發(fā)明做進一步說明。實施例1以40 X 60 X 3mm3的TC4鈦合金為實驗樣品進行拋光處理。(1)機械拋光將TC4鈦合金分別用粗布輪進行粗拋、用風輪進行半精拋和用白布輪進行精拋以 除原素材本身在沖壓過程中產(chǎn)生的毛刺、氧化膜，減小表面的粗糙度，提高鏡面光亮效果并 增強后續(xù)電鍍的結合力。(2)電解拋光1)配制電解拋光液將乳酸250ml，甲醇450ml，丙三醇50ml，氟化鋇5g，硬脂酸鈉4g和苯駢三氮唑3g 混合均勻制成IL溶液即得到本實施例的拋光液。2)電解拋光處理將經(jīng)過機械拋光的鈦合金與直流穩(wěn)流電源的正極相連，一鈦板與直流穩(wěn)流電源的 負極相連，放入裝有步驟1)得到的拋光液的電解槽中進行電解處理，待處理的鈦合金作為 陽極，鈦板作為陰極。鈦板與鈦合金的表面積之比為2 1。拋光溫度為20°C，電流密度 15A/dm2，處理時間 15min。(3)清洗將經(jīng)電解拋光處理后的鈦合金用無水乙醇清洗5min后取出，可得到表面平整光 亮的鏡面拋光效果的鈦合金。將經(jīng)過上述拋光處理的TC4鈦合金進行拋光前后的電化學顯微鏡(三目體顯微成 像系統(tǒng)，型號為SDZ-TR)照片對比，拋光前的TC4鈦合金表面平整，但是存在大量平行的打 磨痕跡，經(jīng)過上述拋光處理后的TC4鈦合金表面平整、沒有拋光紋路、光滑如鏡面。實施例2 以40 X 60 X 3mm3的TB6鈦合金為實驗樣品進行拋光處理。(1)機械拋光同實施例1。(2)電化學拋光1)配制電化學拋光液將乳酸220ml，甲醇400ml，丙三醇40ml，氟化鋇4g，硬脂酸鈉2g和苯駢三氮唑Ig 混合均勻制成IL溶液即得到本實施例的拋光液。2)電解拋光處理將經(jīng)過機械拋光的鈦合金與直流穩(wěn)流電源的正極相連，一鈦板與直流穩(wěn)流電源的 負極相連，放入裝有步驟1)得到的拋光液的電解槽中進行電解處理，待處理的鈦合金作為陽極，鈦板作為陰極。鈦板與鈦合金的表面積之比為4 1。拋光溫度為25°C，電流密度 12A/dm2，處理時間 12min。(3)清洗將經(jīng)電解拋光處理后的鈦合金用無水乙醇清洗5min后取出，可得到表面平整光 亮的鏡面拋光效果的鈦合金。將經(jīng)過上述拋光處理的TB6鈦合金進行拋光前后的電化學顯微鏡(三目體顯微成 像系統(tǒng)，型號為SDZ-TR)照片對比，拋光前的TB6鈦合金表面存在大量平行的打磨痕跡；經(jīng) 過上述拋光處理后的TB6鈦合金表面平整、沒有拋光紋路、光滑如鏡面。實施例3以40 X 60 X 3mm3的TAlO鈦合金為實驗樣品進行拋光處理。(1)機械拋光同實施例1。(2)電化學拋光1)配制電解拋光液將乳酸200ml，甲醇400ml，丙三醇40ml，氟化鋇4. 5g，硬脂酸鈉5g和苯駢三氮唑 4g混合均勻制成IL溶液即得到本實施例的拋光液。2)電解拋光處理將經(jīng)過機械拋光的鈦合金與直流穩(wěn)流電源的正極相連，一鈦板與直流穩(wěn)流電源的 負極相連，放入裝有步驟1)得到的拋光液的電解槽中進行電解處理，待處理的鈦合金作為 陽極，鈦板作為陰極。鈦板與鈦合金的表面積之比為3 1。拋光溫度為20°C，電流密度 20A/dm2，處理時間 15min。(3)清洗將經(jīng)電解拋光處理后的鈦合金用無水乙醇清洗5min后取出，可得到表面平整光 亮的鏡面拋光效果的鈦合金。將經(jīng)過上述拋光處理的TAlO鈦合金進行拋光前后的電化學顯微鏡(三目體顯微 成像系統(tǒng)，型號為SDZ-TR)照片對比，拋光前的TAlO鈦合金表面存在大量平行的打磨痕 跡；經(jīng)過上述拋光處理后的TAlO鈦合金表面平整、沒有拋光紋路、光滑如鏡面。實施例4以40X60X 3mm3的TA15鈦合金為實驗樣品進行拋光處理。(1)機械拋光同實施例1。(2)電解拋光1)配制電化學拋光液。將乳酸300ml，甲醇300ml，丙三醇30ml，氟化鋇3g和糖精5g混合均勻制成IL溶 液即得到本實施例的拋光液。2)電解拋光處理將經(jīng)過機械拋光的鈦合金與直流穩(wěn)流電源的正極相連，一鈦板與直流穩(wěn)流電源的 負極相連，放入裝有步驟1)得到的拋光液的電解槽中進行電解處理，待處理的鈦合金作為 陽極，鈦板作為陰極。鈦板與鈦合金的表面積之比為1 1。拋光溫度為30°c，電流密度ΙΟΑ/dm2，處理時間 20min。(3)清洗將經(jīng)電解拋光處理后的鈦合金用無水乙醇清洗5min后取出，可得到表面平整光 亮的鏡面拋光效果的鈦合金。將經(jīng)過上述拋光處理的TA15鈦合金進行拋光前后的電化學顯微鏡(三目體顯微 成像系統(tǒng)，型號為SDZ-TR)照片對比，拋光前的TA15鈦合金表面存在大量平行的打磨痕 跡；經(jīng)過上述拋光處理后的TA15鈦合金表面平整、沒有拋光紋路、光滑如鏡面。實施例5以40 X 60 X 3mm3的TAlO鈦合金為實驗樣品進行拋光處理。(1)機械拋光同實施例1。(2)電解拋光1)配制電解拋光液將乳酸450ml，甲醇500ml，丙三醇45ml，氟化鋇6g和苯駢三氮唑5g混合均勻制成 IL溶液即得到本實施例的拋光液。2)電解拋光處理將經(jīng)過機械拋光的鈦合金與直流穩(wěn)流電源的正極相連，一鈦板與直流穩(wěn)流電源的 負極相連，放入裝有步驟1)得到的拋光液的電解槽中進行電解處理，待處理的鈦合金作為 陽極，鈦板作為陰極。鈦板與鈦合金的表面積之比為2 1。拋光溫度為20°C，電流密度 30A/dm2，處理時間 lOmin。⑶清洗將經(jīng)電解拋光處理后的鈦合金用無水乙醇清洗5min后取出，可得到表面平整光 亮的鏡面拋光效果的鈦合金。將經(jīng)過上述拋光處理的TAlO鈦合金進行拋光前后的電化學顯微鏡(三目體顯微 成像系統(tǒng)，型號為SDZ-TR)照片對比，拋光前的TAlO鈦合金表面存在大量平行的打磨痕 跡；經(jīng)過上述拋光處理后的TAlO鈦合金表面平整、沒有拋光紋路、光滑如鏡面。實施例6以40 X 60 X 3mm3的TAlO鈦合金為實驗樣品進行拋光處理。(1)機械拋光同實施例1。(2)電解拋光1)配制電解拋光液。將乳酸400ml，甲醇400ml，丙三醇40ml，氟化鋇4. 5g，明膠4g、硬脂酸鈉5g和苯駢 三氮唑3g混合均勻制成IL溶液即得到本實施例的拋光液。2)電解拋光處理將經(jīng)過機械拋光的鈦合金與直流穩(wěn)流電源的正極相連，一鈦板與直流穩(wěn)流電源的 負極相連，放入裝有步驟1)得到的拋光液的電解槽中進行電解處理，待處理的鈦合金作為 陽極，鈦板作為陰極。鈦板與鈦合金的表面積之比為2 1。拋光溫度為20°C，電流密度 25A/dm2，處理時間 20min。
(3)清洗將經(jīng)電解拋光處理后的鈦合金用無水乙醇清洗5min后取出，可得到表面平整光 亮的鏡面拋光效果的鈦合金。將經(jīng)過上述拋光處理的TAlO鈦合金進行拋光前后的電化學顯微鏡(三目體顯微 成像系統(tǒng)，型號為SDZ-TR)照片對比，拋光前的TAlO鈦合金表面存在大量平行的打磨痕 跡；經(jīng)過上述拋光處理后的TAlO鈦合金表面平整、沒有拋光紋路、光滑如鏡面。對比例1以40 X 60 X 3mm3的TC4鈦合金為實驗樣品進行拋光處理。(1)機械拋光同實施例1。(2)電解拋光1)配制電解拋光液將乳酸600g，無水乙醇275g，高氯酸35g，高氯酸鉀2g混合均勻制成IL溶液即得 到本對比例的拋光液。2)電解拋光處理將經(jīng)過機械拋光的鈦合金與直流穩(wěn)流電源的正極相連，一鈦板與直流穩(wěn)流電源的 負極相連，放入裝有步驟1)得到的拋光液的電解槽中進行電解處理，待處理的鈦合金作為 陽極，鈦板作為陰極。鈦板與鈦合金的表面積之比為2 1。拋光溫度為20°C，電流密度 20A/dm2，處理時間 15min。(3)清洗將經(jīng)電解拋光處理后的鈦合金用無水乙醇清洗5min后取出，可發(fā)現(xiàn)鈦合金表面 光亮度比較差。將經(jīng)過上述拋光處理的TC4鈦合金進行拋光前后的電化學顯微鏡(三目體顯微成 像系統(tǒng)，型號為SDZ-TR)照片對比，拋光前的TC4鈦合金表面存在大量平行的打磨痕跡；經(jīng) 過上述拋光處理后的TC4鈦合金表面仍有明顯的拋光紋，表面光澤度也比實施例1差。對比例2以40 X 60 X 3mm3的TC4鈦合金為實驗樣品進行拋光處理。(1)機械拋光同實施例1。(2)電解拋光1)配制電解拋光液將氫氟酸200ml和鉻酸酐500g混合均勻制成IL溶液即得到本對比例的拋光液。2)拋光處理將經(jīng)過機械拋光的鈦合金與直流穩(wěn)流電源的正極相連，一鈦板與直流穩(wěn)流電源的 負極相連，放入裝有步驟1)得到的拋光液的電解槽中進行電解處理，待處理的鈦合金作為 陽極，鈦板作為陰極。鈦板與鈦合金的表面積之比為2 1。拋光溫度為30°C，電流密度 30A/dm2，處理時間 lOmin。(3)清洗將經(jīng)電解拋光處理后的鈦合金用無水乙醇清洗5min后取出，發(fā)現(xiàn)經(jīng)此方法拋光處理后的鈦合金表面呈現(xiàn)霧蒙蒙的狀態(tài)，沒有光亮度。將經(jīng)過上述拋光處理的TC4鈦合金進行拋光前后的電化學顯微鏡(三目體顯微成 像系統(tǒng)，型號為SDZ-TR)照片對比，拋光前的TC4鈦合金表面存在大量平行的打磨痕跡；經(jīng) 過上述拋光處理后的TC4鈦合金表面仍有明顯的拋光紋，表面光澤度也比實施例1差。由實施例1-6與對比例1-2進行比較得出，用本發(fā)明的拋光液及拋光方法得到的 鈦合金產(chǎn)品的表面平整，沒有拋光紋路、光滑如鏡面。但是對比例1-2得到的拋光產(chǎn)品有明 顯的拋光紋，表面光澤度也比實施例差。綜上所述，本發(fā)明的拋光液及拋光方法使拋光產(chǎn)品 的表面平整、沒有紋路、光滑如鏡。
權利要求
1.一種鈦及鈦合金拋光液，其特征在于該拋光液包括乳酸、甲醇、丙三醇、氟的無機 鹽和光亮劑。
2.根據(jù)權利要求1所述的鈦及鈦合金拋光液，所述乳酸的含量為200-450ml/L。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的鈦及鈦合金拋光液，所述甲醇的含量為300-500ml/L。
4.根據(jù)權利要求3所述的鈦及鈦合金拋光液，所述的丙三醇含量為30-50ml/L。
5.根據(jù)權利要求4所述的鈦及鈦合金拋光液，所述氟的無機鹽的含量為3-6g/L。
6.根據(jù)權利要求5所述的鈦及鈦合金拋光液，所述光亮劑的含量為3-12g/L。
7.根據(jù)權利要求1所述的鈦及鈦合金拋光液，所述氟的無機鹽為氟化鋇、氟化鈉、氟化 鉀中的一種或多種。
8.根據(jù)權利要求1所述的鈦及鈦合金拋光液，所述光亮劑為糖精、明膠、硬脂酸鈉、苯 駢三氮唑中的一種或多種。
9.一種鈦及鈦合金拋光方法，其特征在于先將鈦或鈦合金進行機械拋光，然后進行 電解拋光，所述電解拋光的拋光液為權利要求1-8任意一項所述的拋光液。
10.根據(jù)權利要求9所述的拋光方法，所述電解拋光是將待拋光的鈦或鈦合金作為陽 極，鈦板作為陰極進行電解拋光，所述電解拋光的溫度為20-30°C，電流密度為10-30A/dm2， 拋光時間為10-20min。
11.根據(jù)權利要求10所述的拋光方法，所述陰極與陽極表面積之比為1-4 1。
全文摘要
本發(fā)明屬于表面處理技術領域，涉及一種鈦及鈦合金拋光液，該拋光液包括該拋光液包括乳酸、甲醇、丙三醇、氟的無機鹽和光亮劑。本發(fā)明的拋光液中不含有氫氟酸，不會產(chǎn)生對人體不利的揮發(fā)物質及強烈刺激性氣味，是一種環(huán)保安全的拋光液，使用本發(fā)明的拋光液對鈦及鈦合金進行拋光，可以使鈦及鈦合金表面不產(chǎn)生紋路，可以得到鏡面光的效果。本發(fā)明還提供了一種拋光方法。
文檔編號C25F3/26GK101994148SQ200910189619
公開日2011年3月30日 申請日期2009年8月22日 優(yōu)先權日2009年8月22日
發(fā)明者廖秀娟, 李愛華, 瞿義生 申請人:比亞迪股份有限公司