漿汁加熱循環(huán)研磨裝置的制造方法
【技術領域】
[0001 ]本實用新型涉及漿汁加熱循環(huán)研磨裝置。
【背景技術】
[0002]傳統(tǒng)的漿汁加熱研磨裝置的加熱裝置大多裝在儲料缸的內(nèi)部，通過加熱裝置直接給儲料缸的磨料加熱，具有以下缺點:1.磨料不能集中研磨、分散、磨料在缸內(nèi)翻滾、效率低;2.加熱裝置大多裝在磨料缸的內(nèi)部，通過加熱裝置直接給料缸的磨料加熱，容易造成受熱不均，糊底等現(xiàn)象。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型所要解決的技術問題在于提供磨料能集中研磨，磨料在缸內(nèi)不翻滾分散，受熱均勻，不糊底，無生水混雜的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置。
[0004]本實用新型提供一種漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，包括儲料缸，所述儲料缸底部通過變徑缸連通研磨機的入口，所述變徑缸的上部呈正梯形。所述變徑缸的下部呈倒梯形，所述變徑缸置于水煲內(nèi)。
[0005]進一步地，所述水煲通過開水管連通儲料缸。
[0006]進一步地，所述變徑缸內(nèi)的物料經(jīng)過所述水煲受熱進入研磨機，由循環(huán)栗通過循環(huán)管道栗回所述儲料缸。
[0007]采用本實用新型給出的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，由于采用在儲料缸底部設置變徑缸，且變徑缸的上部呈正梯形，可以有效防止物料往儲料缸內(nèi)翻滾，并且待研磨的物料可以得到水煲內(nèi)的水有效的加熱，受熱均勻，不糊底，無生水混雜，漿汁煮沸時無泡，衛(wèi)生，機動性大。
【附圖說明】
[0008]此處所說明的附圖用來提供對本實用新型的進一步理解，構(gòu)成本申請的一部分，本實用新型的示意性實施例及其說明用于解釋本實用新型，并不構(gòu)成對本實用新型的不當限定。在附圖中:
[0009]圖1示意性示意出本實用新型實施例給出的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；
[0010]圖2示意性示意出本實用新型實施例給出的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011]圖3示意性示意出本實用新型實施例給出的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置的立體圖。
【具體實施方式】
[0012]下面將參考附圖并結(jié)合實施例，來詳細說明本實用新型。
[0013]參照附圖，本實用新型實施例提供一種漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，包括儲料缸I，儲料缸I底部通過變徑缸2連通研磨機3的入口，變徑缸2的上部呈正梯形，變徑缸2的下部呈倒梯形，變徑缸2置于水煲4內(nèi)，水煲4里面的水通過加熱部件加熱，變徑缸2內(nèi)的物料經(jīng)過水煲4受熱進入研磨機3，研磨機3內(nèi)的物料由循環(huán)栗通過循環(huán)管道5栗回儲料缸I，待漿汁符合生產(chǎn)要求，研磨機3停止工作，通過循環(huán)管道5出料。水煲4通過開水管6連通儲料缸I。
[0014]通過進水閥往水煲4內(nèi)注水，水進到水煲4設定的水位上限之后，閥門關閉，同時加熱部件工作對水煲4內(nèi)的水進行加熱，當水加熱到沸點時，通過開水管6進入儲料缸I內(nèi)部與物料混合，當水煲4內(nèi)的水位到達設定的水位下限，閥門開始進水，如此循環(huán)。
[0015]該裝置針對生產(chǎn)不同量值，在儲料缸I內(nèi)設置液位量程選擇，選擇某一個量程，開水進入到達所需的量程之后，便停止給水。
[0016]采用本實用新型實施例給出的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，由于采用在儲料缸I底部設置變徑缸2，且變徑缸2的上部呈正梯形，可以有效防止物料往儲料缸I內(nèi)翻滾，并且待研磨的物料可以得到水煲4內(nèi)的水有效的加熱，受熱均勻，不糊底，無生水混雜，漿汁煮沸時無泡，衛(wèi)生，機動性大。
[0017]以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本實用新型，對于本領域的技術人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，其特征在于，包括儲料缸，所述儲料缸底部通過變徑缸連通研磨機的入口，所述變徑缸的上部呈正梯形，所述變徑缸的下部呈倒梯形，所述變徑缸置于水堡內(nèi)。2.如權(quán)利要求1所述的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，其特征在于，所述水煲通過開水管連通儲料缸。3.如權(quán)利要求1或2所述的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，其特征在于，所述變徑缸內(nèi)的物料經(jīng)過所述水煲受熱進入所述研磨機，所述研磨機內(nèi)的物料由循環(huán)栗通過循環(huán)管道栗回所述儲料缸。
【專利摘要】本實用新型提供一種漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，包括儲料缸，所述儲料缸底部通過變徑缸連通研磨機的入口，所述變徑缸的上部呈正梯形。所述變徑缸的下部呈倒梯形，所述變徑缸置于水煲內(nèi)。采用本實用新型給出的漿汁加熱循環(huán)研磨裝置，由于采用在儲料缸底部設置變徑缸，且變徑缸的上部呈正梯形，可以有效防止物料往儲料缸內(nèi)翻滾，并且待研磨的物料可以得到水煲內(nèi)的水有效的加熱，受熱均勻，不糊底，無生水混雜，漿汁煮沸時無泡，衛(wèi)生，機動性大。
【IPC分類】B02C23/00
【公開號】CN205109827
【申請?zhí)枴緾N201520857332
【發(fā)明人】唐安校
【申請人】唐安校
【公開日】2016年3月30日
【申請日】2015年10月29日