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靜電噴涂粉體循環(huán)回收裝置的制造方法

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靜電噴涂粉體循環(huán)回收裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種靜電噴涂系統(tǒng),尤其是涉及一種靜電噴涂粉體循環(huán)回收裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]靜電噴涂是利用高壓靜電電場(chǎng)使帶負(fù)電的涂料微粒沿著電場(chǎng)相反的方向定向運(yùn)動(dòng),并將涂料微粒吸附在工件表面的一種噴涂方法。基本原理為在噴槍與工件之間形成一個(gè)高壓電暈放電電場(chǎng),當(dāng)粉末粒子由噴槍口噴出經(jīng)過(guò)放電區(qū)時(shí),便補(bǔ)集了大量的電子,成為帶負(fù)電的微粒,在靜電吸引的作用下,被吸附到帶正電荷的工件上去。當(dāng)粉末附著到一定厚度時(shí),則會(huì)發(fā)生“同性相斥”的作用,不能再吸附粉末,從而使各部分的粉層厚度均勻,然后經(jīng)加溫烘烤固化后粉層流平成為均勻的膜層。粉末靜電噴涂設(shè)備主要包括:噴粉室、高壓靜電發(fā)生器、靜電噴涂槍、供粉器、粉末回收裝置、工件旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。
[0003]申請(qǐng)?zhí)枮?01410072576.9的中國(guó)專利公開(kāi)了一種粉末回收裝置,包括,用于吸取粉末的吸取機(jī)構(gòu);旋風(fēng)送料器,該旋風(fēng)送料器包括內(nèi)置的引風(fēng)機(jī)構(gòu)、連接于引風(fēng)機(jī)構(gòu)進(jìn)風(fēng)端并與吸取機(jī)構(gòu)連通的進(jìn)風(fēng)口、連接于引風(fēng)機(jī)構(gòu)出風(fēng)端的出風(fēng)口 ;粉末分離倉(cāng),該粉末分離倉(cāng)包括一個(gè)呈倒U形的分離通道、以及分別位于分離通道兩端的粉末進(jìn)口和粉末出口,粉末進(jìn)口與出風(fēng)口連通;料倉(cāng),該料倉(cāng)包括殼體、以及封蓋在殼體頂端部的倉(cāng)蓋,料倉(cāng)內(nèi)部設(shè)置有一位于倉(cāng)蓋下方的格柵,倉(cāng)蓋上設(shè)置有一位于格柵上方且與粉末出口連通的進(jìn)料口。這種結(jié)構(gòu)的粉末回收裝置均為通過(guò)風(fēng)機(jī)的吸入,然后直接進(jìn)行回收,這樣直接回收的粉末中參雜著空氣中的灰塵,使回收的粉末純度不夠,容易使二次加工的質(zhì)量下降。
[0004]申請(qǐng)?zhí)枮?01420368474.7的中國(guó)專利公開(kāi)了一種靜電噴涂粉末回收裝置,包括噴淋室、加熱室A、加熱室B,所述收集管道上設(shè)有吸風(fēng)機(jī)且一端設(shè)有吸風(fēng)罩,所述噴淋室內(nèi)部的頂部設(shè)有噴淋管道,所述噴淋管道的下方設(shè)有紅外傳感器,所述紅外傳感器固定在噴淋室的內(nèi)壁上且與固定在噴淋室外壁上的報(bào)警器連接,所述紅外傳感器的下方設(shè)有篩板A,所述噴淋室底部中間向下凹陷,凹陷處設(shè)有篩板B且連接有排液管道,所述加熱室A連接有循環(huán)管道,所述排液管道與循環(huán)管道相通,所述加熱室A的內(nèi)部側(cè)壁設(shè)有加熱器A,所述加熱室A內(nèi)設(shè)有攪拌軸,所述加熱室A的底部一側(cè)向下傾斜,所述加熱室B的兩側(cè)也與循環(huán)管道相通,所述加熱室B內(nèi)設(shè)有加熱器B。該粉末回收裝置采用晶體結(jié)晶的方法來(lái)使粉塵溶解后再結(jié)晶成晶體的方式進(jìn)行回收,其存在的缺陷在于:1、裝置較為復(fù)雜,需要溶解后采用蒸發(fā)結(jié)晶的方法進(jìn)行結(jié)晶,同時(shí)需要兩個(gè)加熱器對(duì)溶劑進(jìn)行加熱蒸發(fā),使得工藝較長(zhǎng),2、該裝置只是將粉體變成晶體的形式進(jìn)行回收,而結(jié)晶箱中的晶體缺乏后續(xù)處理回收的步驟。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型的目的就是為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷而提供一種結(jié)構(gòu)設(shè)置簡(jiǎn)單、粉體回收純度高、且回收粉體可直接用于噴槍噴射、基于結(jié)晶回收方式的靜電噴涂粉體循環(huán)回收裝置。
[0006]本實(shí)用新型的目的可以通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn):
[0007]一種靜電噴涂粉體循環(huán)回收裝置,包括吸風(fēng)罩、與吸風(fēng)罩連接的吸風(fēng)管道、與吸風(fēng)管道連接的噴淋室,以及連接在噴淋室出口的結(jié)晶單元,所述的吸風(fēng)管道上設(shè)有吸風(fēng)機(jī),所述的噴淋室的頂部設(shè)有噴淋管道,該噴淋管道向噴淋室內(nèi)噴出溶解液,所述的噴淋室為帶夾套的加熱釜,在噴淋室的出口處設(shè)有排液閥,粉體在噴淋室內(nèi)被溶解液溶解后,噴淋室對(duì)溶解液加熱,增加粉體在溶解液中的濃度后由排液閥排出進(jìn)入結(jié)晶單元進(jìn)行粉體的結(jié)晶回收。
[0008]所述的噴淋室內(nèi)中上部設(shè)有監(jiān)測(cè)噴淋室內(nèi)液位的紅外傳感器,在噴淋室外部設(shè)有與紅外傳感器連接的控制器,所述的控制器聯(lián)動(dòng)控制排液閥的開(kāi)啟。
[0009]所述的結(jié)晶單元包括分離室、結(jié)晶室及晶體箱,所述的噴淋室的出口連接分離室入口,分離室出口通過(guò)排液管道連接結(jié)晶室,所述的結(jié)晶室的出口通過(guò)結(jié)晶管道連接晶體箱。
[0010]所述的分離室出口處設(shè)有截留空氣中雜質(zhì)的篩板。
[0011 ] 所述的結(jié)晶室內(nèi)設(shè)有加熱器,加熱器對(duì)結(jié)晶室內(nèi)的物質(zhì)進(jìn)行蒸發(fā)結(jié)晶,所述的結(jié)晶室的下部?jī)A斜設(shè)置,并形成晶體流化床,所述的結(jié)晶管道連接在結(jié)晶室的最低處,所述的結(jié)晶室內(nèi)設(shè)有攪拌槳,該攪拌槳外接攪拌機(jī)。
[0012]所述的晶體箱順序連接干燥箱與粉碎機(jī),分別對(duì)粉體晶體干燥、粉碎,所述的粉碎機(jī)連接循環(huán)通道,通過(guò)循環(huán)通道將粉碎后的粉體回用于噴槍。
[0013]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)及有益效果:
[0014](I)本實(shí)用新型對(duì)噴淋室結(jié)構(gòu)進(jìn)行改進(jìn),將噴淋室改成可加熱的夾套式加熱釜,直接對(duì)噴淋室內(nèi)的溶解液進(jìn)行加熱,提高溶解液中粉體的濃度,并且可以使得蒸發(fā)的溶解液排出回用于噴淋管道,在第一步工序中就進(jìn)行加熱處理一方面能夠提高粉體溶解的速度,另一方面能夠減少后續(xù)加熱工序,節(jié)省能耗;
[0015](2)本實(shí)用新型對(duì)結(jié)晶單元的結(jié)構(gòu)進(jìn)行修改,只是在結(jié)晶室進(jìn)行加熱處理,從噴淋室至結(jié)晶室的過(guò)程中不設(shè)置加熱單元,由于現(xiàn)有的結(jié)構(gòu)一般在噴淋室與結(jié)晶室之間也設(shè)置加熱單元,存在加熱效果差,能耗浪費(fèi)的問(wèn)題,而改進(jìn)后,直接在結(jié)晶室中進(jìn)行加熱蒸發(fā)結(jié)晶,提高結(jié)晶速率,并且使得蒸發(fā)的溶解液排出回用于噴淋管道中;
[0016](3)在噴淋室出口處設(shè)置排液閥,并且通過(guò)紅外傳感器與控制器來(lái)控制排液閥的開(kāi)啟,因此,可以在噴淋室內(nèi)進(jìn)行批次間隔排放,相比于連續(xù)排液過(guò)程,間歇排液有利于后續(xù)結(jié)晶工序的順利進(jìn)行,因?yàn)楹罄m(xù)的結(jié)晶室內(nèi)溶液的濃度較高,便于結(jié)晶,而噴淋室內(nèi)溶液濃度較低不利于結(jié)晶,因此,間歇式處理整體上能夠提高結(jié)晶速度,并能節(jié)約能耗。
[0017](4)在結(jié)晶單元后續(xù)設(shè)置干燥箱與粉碎機(jī),直接將粉體晶體干燥、粉碎后通過(guò)循環(huán)通道將粉碎后的粉體回用于噴槍。
[0018](5)采用結(jié)晶回收的工藝,回收的粉體精度高可直接回用于噴槍,且通過(guò)粉體的回收,降低了粉體的消耗,節(jié)約了資源,降低了成本。
【附圖說(shuō)明】
[0019]圖1為本實(shí)用新型的靜電噴涂粉體循環(huán)回收裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]圖中標(biāo)號(hào):I為吸風(fēng)罩,2為吸風(fēng)機(jī),3為吸風(fēng)管道,4為噴淋管道,5為紅外傳感器,6為控制器,7為噴淋室,8為分離室,9為篩板,10為攪拌機(jī),11為結(jié)晶室,12為加熱器,13為攪拌槳,14為結(jié)晶管道,15為晶體箱,16為干燥箱,17為粉碎機(jī),18為循環(huán)管道,19為晶體流化床,20
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