技術(shù)領(lǐng)域：

本發(fā)明屬于水處理的沉淀設(shè)備。

背景技術(shù)：
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側(cè)向流斜板沉淀設(shè)備是水處理工藝中常用泥水分離設(shè)備，反應(yīng)后水中的膠體、懸浮物等物質(zhì)會(huì)形成絮狀團(tuán)，通常稱為礬花，含礬花的水流進(jìn)入側(cè)向流沉淀設(shè)備后，沿著傾斜的斜板間構(gòu)成的通道側(cè)向流動(dòng)。礬花沉降在斜板上，并沿斜板滑下沉降在積泥斗中排出，澄清水由沉淀池的集水槽收集，并匯集到出水管流走。側(cè)向流斜板沉淀設(shè)備水流方向是側(cè)向流動(dòng)，水流對(duì)污泥礬花沒有頂托力。逆向流斜板沉淀設(shè)備水流是由下往上流，水流中礬花是向下沉淀在斜板上，然后沿斜板滑下被排出，因此上升水流對(duì)污泥礬花的沉降是有頂托。從沉淀動(dòng)力學(xué)機(jī)理來看，側(cè)向流斜板沉淀設(shè)備更科學(xué)。但是目前的側(cè)向流斜板沉淀設(shè)備與逆向流斜板沉淀設(shè)備運(yùn)行效果沒有明顯區(qū)別，主要是因?yàn)楝F(xiàn)在常用的側(cè)向流斜板存在二個(gè)缺點(diǎn)。一是水流短路問題，水流流經(jīng)斜板區(qū)域時(shí)受斜板壁面約束，流動(dòng)阻力很大，導(dǎo)致部分水流向下運(yùn)動(dòng)進(jìn)入斜板下部的礬花沉降區(qū)，再水平流動(dòng)，經(jīng)擋水墻時(shí)再向上流經(jīng)斜板。此區(qū)域沒有斜板的約束，阻力很小，流速大于斜板內(nèi)水流流速，相當(dāng)于水深較淺的平流沉淀池，故沉降效果差。二是目前側(cè)向流斜板為保證斜板內(nèi)水流速度，一般設(shè)置兩折三層斜板，相鄰兩層斜板的轉(zhuǎn)彎處，增大了礬花下降的距離，同時(shí)壁面礬花下滑對(duì)轉(zhuǎn)彎處礬花下降造成了干擾，影響礬花沉淀效果。

發(fā)明專利內(nèi)容：

本發(fā)明目的在于提供一種有錐式排泥模塊單層側(cè)向流斜板沉淀設(shè)備，能夠 有效提高設(shè)備的沉淀效率。

技術(shù)方案：一種有錐式排泥模塊的單層側(cè)向流斜板沉淀設(shè)備，由斜板(1)、錐式排泥模塊(2)、板材固定件(3)、間距控制件(4)、斜板框架(5)組成，其特征在于：在該沉淀設(shè)備的底部設(shè)置多個(gè)方形漏斗，漏斗口總面積遠(yuǎn)小于斜板底面積；斜板為單層斜板，斜板長(zhǎng)度為目前側(cè)向流斜板長(zhǎng)度的3倍。

有益效果：錐式排泥模塊的下端最小尺度是斜板面積的百分之幾。而水流沿斜板通道流動(dòng)產(chǎn)生的水力阻力是沿程阻力，其水頭損失很小，因?yàn)槠淞魉僦挥忻棵?厘米左右，而水要從錐式排泥口流出側(cè)向流斜板，再到下一個(gè)擋水墻(也是有漏斗側(cè)向流斜板沉淀設(shè)備的支撐墻)前再進(jìn)入錐式排泥口，需要克服兩個(gè)局部阻力，要產(chǎn)生兩個(gè)局部水頭損失，第一個(gè)是流出錐式排泥口時(shí)的逐漸收縮和出口時(shí)的突然擴(kuò)大，第二個(gè)是進(jìn)入錐式排泥口時(shí)突然縮小和逐漸擴(kuò)大，這兩個(gè)都是局部水頭損失，加之錐式排泥模塊的出口的尺寸只是側(cè)向斜板通道間距的百分之幾，因此這兩個(gè)局部阻力之和要比斜板通道中運(yùn)動(dòng)的水力阻力幾個(gè)數(shù)量級(jí)以上，因此通過排泥漏斗短路的水基本可以忽略不計(jì)。同時(shí)減少了礬花在多層斜板中下降的距離，減輕了水流對(duì)礬花在斜板上下滑的擾動(dòng)。

也就是說有錐式約束排泥的單層側(cè)向流斜板沉淀設(shè)備的主要優(yōu)勢(shì)是，既克服了逆向流斜板沉淀設(shè)備上升水流對(duì)污泥礬花沉淀的頂托作用，又克服了多層側(cè)向流斜板沉淀設(shè)備的水流沿底部短流和局部礬花沉降距離長(zhǎng)的問題。其沉后出水質(zhì)同逆向流斜板沉淀設(shè)備相比有質(zhì)的提高。

附圖說明：

圖1是錐式約束排泥單層側(cè)向流斜板沉淀設(shè)備實(shí)施例1的立面圖，斜板方向是垂直紙面的，水流沿著斜板之間所構(gòu)成的通道垂直紙面流動(dòng)；

圖2是錐式約束排泥單層側(cè)向流斜板沉淀設(shè)備實(shí)施例2的平面圖；

具體實(shí)施方式：

錐式約束排泥單層側(cè)向流斜板沉淀設(shè)備其最下一層是由斜板(1)、錐式排泥模塊(2)、板材固定件(3)、間距控制件(4)、斜板框架(5)組成。

斜板(1)、間距控制件(4)是塑料材料制成，斜板傾斜放置，間距控制件垂直板材安裝。

錐式排泥模塊(2)、板材固定件(3)、斜板框架(5)鋼制材料制成，角形板焊接在框架底部，板材固定件焊接在框架頂部。

按設(shè)計(jì)尺寸焊接斜板框架(5)，在框架底部焊接錐式排泥模塊(2)，將板材固定件(3)焊接在框架頂部，控制固定件間的距離。用間距控制件(4)將單張斜板(1)相互連接形成整體。將整體斜板放入斜板框架(5)內(nèi)，斜板上部與板材固定件(3)連接，下部與錐式排泥模塊保持間距。整體沉淀設(shè)備制作完畢。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種有錐形排泥模塊的單層側(cè)向流斜板沉淀設(shè)備，由斜板(1)、錐式排泥模塊(2)、板材固定件(3)、間距控制件(4)、斜板框架(5)組成。在斜板框架(5)焊接錐式排泥模塊(2)，這樣就在沉淀設(shè)備底部形成了排泥漏斗。該設(shè)備克服了逆向流斜板沉淀設(shè)備上升水流對(duì)污泥礬花沉淀的頂托作用，又克服了多層側(cè)向流斜板沉淀設(shè)備的水流沿底部短流和局部礬花沉降距離長(zhǎng)的問題。

技術(shù)研發(fā)人員：孫士東;張海鵬;黃偉
受保護(hù)的技術(shù)使用者：哈爾濱市多相水處理技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2016.03.08
技術(shù)公布日：2017.09.15