專(zhuān)利名稱(chēng)：一種用于漿態(tài)床反應(yīng)器的氣體分布器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于氣液固三相漿態(tài)床反應(yīng)器的氣體分布器。
背景技術(shù)：
氣液固三相漿態(tài)床反應(yīng)器在費(fèi)托合成反應(yīng)過(guò)程中大量使用。對(duì)于反應(yīng)熱很大的反應(yīng)過(guò)程，使用三相漿態(tài)床反應(yīng)器可以有效地移走反應(yīng)熱量，實(shí)現(xiàn)反應(yīng)器的等溫操作，保證反應(yīng)器的正常運(yùn)行。在三相漿態(tài)床反應(yīng)器中，氣體分布器是保證氣體進(jìn)料在漿態(tài)床層中均勻分布和提高漿液氣含率的重要部件。目前文獻(xiàn)中提到的關(guān)于漿態(tài)床反應(yīng)器的氣體分布器，主要包括孔板分布器、填充式分布器、燒結(jié)金屬板分布器、噴嘴分布器、管式分布器和泡帽分布器等，它們各有自身的使用條件和使用范圍。中國(guó)專(zhuān)利CN201735386U公開(kāi)了一種用于費(fèi)托合成的漿態(tài)床反應(yīng)器，使用的是泡帽分布器；泡帽分布器均勻地布置在合成氣分布板上。該專(zhuān)利沒(méi)有對(duì)泡帽分布器的具體結(jié)構(gòu)和功能做詳細(xì)說(shuō)明。美國(guó)專(zhuān)利US4874583公開(kāi)了一種泡帽分布器，主要由泡帽、上升管、止逆球和閥芯等部件組成。泡帽筒體的底部開(kāi)設(shè)有條縫，上升管上部和閥芯中部設(shè)有流體出口，閥芯下部設(shè)有閥座，閥座帶有閥座孔；多個(gè)泡帽分布器均勻地設(shè)置于分布板上。這種泡帽分布器是用于沸騰床反應(yīng)器的氣液分布器，進(jìn)料為氣液混合進(jìn)料。因此，上升管的下部為帶有進(jìn)氣槽的氣液預(yù)混合結(jié)構(gòu)，上升管內(nèi)設(shè)有用于氣液混合的孔板混合器。如果將這種泡帽分布器直接引用到漿態(tài)床反應(yīng)器以分配氣體進(jìn)料(去掉氣液預(yù)混合結(jié)構(gòu)和孔板混合器)，則會(huì)產(chǎn)生如下問(wèn)題:(1)僅依靠泡帽筒體底部的條縫破碎氣泡，在進(jìn)氣量較大的情況下，不能很好地破碎氣泡并使氣體進(jìn)料均勻分布；來(lái)不及破碎的大氣泡將進(jìn)入漿液中。(2)止逆球正常浮起時(shí)，球體的大部分處于流體出口上方的閥芯內(nèi)腔。閥芯內(nèi)腔的頂端是封閉的，進(jìn)入到浮起的止逆球上方、閥芯內(nèi)腔頂部死區(qū)的氣體會(huì)形成回旋流(氣體向下回旋流動(dòng))，沖擊止逆球的上部；止逆·球?qū)⒃跉饬髦蓄l繁跳動(dòng)，引起氣體進(jìn)料流量的波動(dòng)，并造成止逆球與閥芯之間的碰撞損傷。(3)止逆球在正常浮起位置時(shí)，若氣體進(jìn)料進(jìn)氣中斷或進(jìn)氣壓力降低，漿液將從流體出口進(jìn)入止逆球下方的閥芯內(nèi)腔；止逆球會(huì)因下方逆流漿液瞬間壓力過(guò)大而不能迅速落回密封位置實(shí)現(xiàn)密封。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種用于漿態(tài)床反應(yīng)器的氣體分布器，以解決現(xiàn)有的泡帽分布器用于漿態(tài)床反應(yīng)器分配氣體進(jìn)料時(shí)所存在的在進(jìn)氣量較大的情況下不能很好地破碎氣泡并使氣體均勻分布、止逆球會(huì)在氣流中頻繁跳動(dòng)等問(wèn)題。為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種用于漿態(tài)床反應(yīng)器的氣體分布器，設(shè)有泡帽、上升管、止逆球，泡帽筒體的底部開(kāi)設(shè)有條縫，上升管上設(shè)有流體出口，泡帽的筒體與上升管之間形成環(huán)形通道，其特征在于:泡帽的筒體上傾斜向上設(shè)置有布?xì)饪祝仙転檫M(jìn)氣管，進(jìn)氣管由進(jìn)氣管上段和進(jìn)氣管下段組成，所述的環(huán)形通道，為形成于泡帽的筒體與進(jìn)氣管上段之間的環(huán)形通道，所述的流體出口，包括進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔和進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔，進(jìn)氣管下段的內(nèi)腔，自上而下由倒置截頭圓錐形的進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔、進(jìn)氣管下段喉道和截頭圓錐形的進(jìn)氣管下段下內(nèi)腔組成，止逆球處于密封位置時(shí)支承于進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔的表面。采用本發(fā)明，具有如下的有益效果:(I)泡帽筒體底部的條縫和泡帽上的布?xì)饪?，都可以破碎氣泡；在氣體進(jìn)料進(jìn)氣量較大的情況下，也能夠很好地破碎大氣泡和細(xì)化氣泡，使更多的微氣泡均勻分布、擴(kuò)散到漿態(tài)床的漿液中，從而提高漿液的氣含率以及傳熱傳質(zhì)效率。(2)在止逆球浮起時(shí)，進(jìn)入到止逆球上方、進(jìn)氣管上段內(nèi)腔頂部的氣體，可以經(jīng)進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔流出(至環(huán)形通道)，不會(huì)形成回旋流沖擊止逆球的上部，因而進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔可以使氣流保持得較為穩(wěn)定。止逆球不會(huì)在氣流中頻繁跳動(dòng)，其懸浮狀態(tài)穩(wěn)定，不會(huì)引起氣體進(jìn)料流量的波動(dòng)并造成止逆球與進(jìn)氣管上段內(nèi)腔和進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔之間的碰撞損傷。(3)止逆球處于正常浮起位置時(shí)，若氣體進(jìn)料進(jìn)氣中斷或進(jìn)氣壓力降低，進(jìn)入環(huán)形通道內(nèi)的一部分漿液將從進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔逆流進(jìn)入止逆球上方的進(jìn)氣管上段內(nèi)腔，抵消了從進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔逆流進(jìn)入止逆球下方的進(jìn)氣管上段內(nèi)腔的漿液所形成的瞬間過(guò)大壓力。因此，止逆球可以迅速落回密封位置，與進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔的表面接觸實(shí)現(xiàn)密封。(4)布?xì)饪缀瓦M(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔，可以降低氣體進(jìn)料通過(guò)本發(fā)明氣體分布器時(shí)的壓力降。本發(fā)明的氣體分布器，氣體擴(kuò)散面積廣、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單合理、使用安全可靠；可用于漿態(tài)床反應(yīng)器、分配氣體進(jìn)料。下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。附圖和具體實(shí)施方式
并不限制本發(fā)明要求保護(hù)的范圍。


圖1是本發(fā)明的一種用于漿態(tài)床反應(yīng)器的氣體分布器的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本發(fā)明的另一種用于漿態(tài)床反應(yīng)器的氣體分布器的結(jié)構(gòu)示意圖。圖1和圖2中， 相同附圖標(biāo)記表示相同的技術(shù)特征。
具體實(shí)施例方式參見(jiàn)圖1、圖2，本發(fā)明用于漿態(tài)床反應(yīng)器的氣體分布器(簡(jiǎn)稱(chēng)為氣體分布器)，設(shè)有泡帽3、進(jìn)氣管1、止逆球2。泡帽3的筒體上傾斜向上設(shè)置有布?xì)饪?2，泡帽3筒體的底部開(kāi)設(shè)有條縫31。進(jìn)氣管I由進(jìn)氣管上段和進(jìn)氣管下段組成，泡帽3的筒體與進(jìn)氣管上段之間形成環(huán)形通道9。進(jìn)氣管I的頂端(亦即進(jìn)氣管上段的頂端)設(shè)有連接板8 ;連接板8一般為圓形，與進(jìn)氣管I的頂端固定連接(例如焊接在一起)。泡帽3的頂板與連接板8之間，可以采用焊接、卡接或螺桿螺母連接等方式固定在一起。圖1、圖2所示，泡帽3的頂板與連接板8之間采用螺桿螺母4固定在一起，其中螺桿固定在連接板8上。進(jìn)氣管上段設(shè)有進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔5和進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔6。進(jìn)氣管下段的內(nèi)腔，自上而下由倒置截頭圓錐形的進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔、進(jìn)氣管下段喉道和截頭圓錐形的進(jìn)氣管下段下內(nèi)腔組成；止逆球2處于密封位置時(shí)(如圖1、圖2所示)支承于進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔的表面。進(jìn)氣管下段下內(nèi)腔采用所述的形狀，主要是為了擴(kuò)大氣體進(jìn)料的進(jìn)氣面積。進(jìn)氣管下段喉道通常為圓柱形(如圖1、圖2所示)，但該喉道的長(zhǎng)度也可以為零、成為一個(gè)圓形孔(圖略)。本發(fā)明的進(jìn)氣管下段和進(jìn)氣管下段喉道，在結(jié)構(gòu)上分別相當(dāng)于US4874583所述的閥座和閥座孔。本發(fā)明的氣體分布器還可以在泡帽3的頂板上垂直設(shè)置布?xì)饪?2，該布?xì)饪?2與環(huán)形通道9相連通。泡帽3的筒體一般為圓筒形，如圖1所示。泡帽3的筒體還可以是截頭圓錐面形(如圖2所示)，以擴(kuò)大環(huán)形通道9底部出口的氣體分布面積。泡帽3的筒體為截頭圓錐面形時(shí)，其圓錐頂角Y —般為30 60度。進(jìn)氣管上段為圓管形，進(jìn)氣管下段的外側(cè)面為圓柱面形。泡帽3、進(jìn)氣管上段、進(jìn)氣管下段，以及進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔、進(jìn)氣管下段喉道和進(jìn)氣管下段下內(nèi)腔，一般是同軸設(shè)置。本發(fā)明的氣體分布器，布?xì)饪?2 —般為圓形孔(指其橫截面形狀為圓形)，直徑一般為0.5 6毫米(最好為I 3毫米)。泡帽3的筒體上沿高度方向一般是均勻設(shè)置4 6圈布?xì)饪?2 ;每圈布?xì)饪滓话阍O(shè)置6 20個(gè)布?xì)饪?2,均勻分布。泡帽3的筒體上所設(shè)的布?xì)饪?2與水平面之間的夾角δ —般為10 60度。泡帽3的頂板上設(shè)置布?xì)饪?2時(shí)，一般是同圓心(與泡帽3-進(jìn)氣管I同軸)設(shè)置I 2圈；每圈布?xì)饪自O(shè)置6 20個(gè)布?xì)饪?2,均勻分布。上述布?xì)饪?2的設(shè)置圈數(shù)、每圈布?xì)饪字胁細(xì)饪?2的個(gè)數(shù)以及布?xì)饪?2的直徑，一般應(yīng)使進(jìn)入進(jìn)氣管下段下內(nèi)腔的·氣體進(jìn)料按體積流量計(jì)有20% 50%從布?xì)饪?2流出(至漿態(tài)床)。所述的布?xì)饪?2，當(dāng)泡帽3的頂板上未設(shè)置布?xì)饪?2時(shí)，僅指設(shè)置于泡帽3筒體上的布?xì)饪?2 ;當(dāng)泡帽3的頂板上設(shè)置布?xì)饪?2時(shí)，則包括設(shè)置于泡帽3筒體上的布?xì)饪?2和設(shè)置于泡帽3頂板上的布?xì)饪?2。泡帽3筒體的底部，一般開(kāi)設(shè)6 20個(gè)條縫31，均勻分布。條縫31的寬度一般均為I 5毫米，優(yōu)選I 2毫米。進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔的圓錐頂角β —般為45 150度，進(jìn)氣管下段下內(nèi)腔的圓錐頂角α —般為45 150度。β最好為60 90度，α最好為90 120度。進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔5可以是長(zhǎng)方形、正方形、圓形、橢圓形等形狀的孔，進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔6可以是長(zhǎng)方形、正方形、開(kāi)口向上的半圓形、開(kāi)口向上的半橢圓形等形狀的孔。所述孔的形狀，是指單個(gè)進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔5或進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔6在與其自身正對(duì)著的垂直平面上投影的形狀。圖1和圖2所示的進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔5和進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔6均為豎置的長(zhǎng)方形，其中進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔6開(kāi)通至進(jìn)氣管上段的頂端。進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔5和進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔6通常分別設(shè)置2 8個(gè)(最好是分別設(shè)置4 6個(gè))，均勻分布。進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔5和進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔6的最大寬度，應(yīng)小于止逆球2的直徑。進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔6的總面積一般為進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔5總面積的20% 50%。止逆球2為一圓形球，可以是空心球或?qū)嵭那?。止逆?的材料一般為陶瓷或金屬(例如不銹鋼)，材料的比重一般為1.5 10克/立方厘米。止逆球2的直徑(空心球時(shí)為外直徑)一般為進(jìn)氣管下段喉道直徑a的1.1 1.5倍，進(jìn)氣管上段的內(nèi)直徑b —般為止逆球2直徑的1.1 2倍。本發(fā)明氣體分布器其余部件的材料一般為金屬，例如不銹鋼。
多個(gè)本發(fā)明的氣體分布器可以采用各種常用的方法、按正三角形或正方形網(wǎng)格排列方式固定于分布板10上，其中進(jìn)氣管下段插入分布板10上的安裝孔內(nèi)。本發(fā)明推薦的方法是，在進(jìn)氣管下段外側(cè)面的頂部設(shè)置定位凸臺(tái)7(其外邊緣在水平面上的投影為圓形)，定位凸臺(tái)7的下表面支承于分布板10的上表面上；進(jìn)氣管下段位于定位凸臺(tái)7下方的管段插入分布板10上的安裝孔內(nèi)(并由安裝孔位于分布板10下表面上的孔口伸出一小段)、與安裝孔緊配合，以此將本發(fā)明的氣體分布器固定于分布板10上。設(shè)有本發(fā)明氣體分布器的分布板10安裝于靠近漿態(tài)床反應(yīng)器底部的位置，與CN201735386U所述的基本相同；詳細(xì)說(shuō)明及附圖省略。圖1、圖2所示的氣體分布器，除泡帽3筒體的形狀之外，其余部件的形狀、結(jié)構(gòu)和結(jié)構(gòu)參數(shù)相同。其中進(jìn)氣管I可以使用圓管整體加工而成，較容易制造。下面結(jié)合圖1、圖2，說(shuō)明本發(fā)明氣體分布器的工作原理。正常工作時(shí)，氣體進(jìn)料進(jìn)入進(jìn)氣管下段下內(nèi)腔，經(jīng)進(jìn)氣管下段喉道加速后進(jìn)入進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔以及進(jìn)氣管上段內(nèi)腔，在氣流作用下止逆球2浮起。止逆球2正常的浮起位置，在進(jìn)氣管上段內(nèi)腔位于進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔6的底端與進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔5頂端之間的區(qū)域。進(jìn)入進(jìn)氣管上段內(nèi)腔中的大部分氣體進(jìn)料經(jīng)進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔5進(jìn)入環(huán)形通道9 ;少部分氣體進(jìn)料通過(guò)止逆球2與進(jìn)氣管上段內(nèi)壁之間的間隙進(jìn)入進(jìn)氣管上段內(nèi)腔的頂部，再經(jīng)進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔6進(jìn)入環(huán)形通道9。進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔5是進(jìn)氣管上段內(nèi)腔中的氣體進(jìn)料進(jìn)入環(huán)形通道9的主要通道。進(jìn)入到環(huán)形通道9內(nèi)的氣體進(jìn)料，一部分經(jīng)過(guò)泡帽3筒體和頂板上的布?xì)饪?2破碎、形成小氣泡或微氣泡后進(jìn)入漿態(tài)床；另一部分從環(huán)形通道9的底部流出，經(jīng)泡帽3筒體底部的條縫31破碎、形成小氣泡或微氣泡后向上折流進(jìn)入漿態(tài)床。止逆球2處于正常浮起位置時(shí)，若進(jìn)入進(jìn)氣管下段下內(nèi)腔的氣體進(jìn)料進(jìn)氣中斷或進(jìn)氣壓力降低，漿態(tài)床中的漿液會(huì)從環(huán)形通道9的底部和布?xì)饪?2逆流進(jìn)入環(huán)形通道9內(nèi)。進(jìn)入環(huán)形通道9內(nèi)的一部分漿液將從進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔6逆流進(jìn)入止逆球2上方的進(jìn)氣管上段內(nèi)腔，可以抵消從進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔5逆流進(jìn)入止逆球2下方的進(jìn)氣管上段內(nèi)腔的漿液所形成的瞬間過(guò)大壓力。止逆球2可以迅速落回密封位置，與進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔的表面接觸實(shí)現(xiàn)密封，防止或緩解漿液經(jīng)進(jìn)氣管下段內(nèi)腔繼續(xù)向下逆流并造成堵塞。止逆球2與進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔表面之間的密封為線密封。止逆球2處于密封位置時(shí)，其頂部位于進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔5底端的下方。環(huán)形通道9內(nèi)的一部分氣體從環(huán)形通道9的底部流出、經(jīng)泡帽3筒體底部的條縫31破碎后向上折流進(jìn)入漿態(tài)床時(shí)，可以防止?jié){態(tài)床中的固體催化劑顆粒在分布板10的上表面沉積、形成高溫死區(qū)，保證漿態(tài)床反應(yīng)器安全運(yùn)行。

本發(fā)明所述的氣和氣體，均是指氣體進(jìn)料。氣體進(jìn)料為合成氣，主要成分為一氧化碳和氫氣。
權(quán)利要求
1.一種用于漿態(tài)床反應(yīng)器的氣體分布器，設(shè)有泡帽(3)、上升管、止逆球(2)，泡帽(3)筒體的底部開(kāi)設(shè)有條縫(31)，上升管上設(shè)有流體出口，泡帽(3)的筒體與上升管之間形成環(huán)形通道，其特征在于:泡帽(3)的筒體上傾斜向上設(shè)置有布?xì)饪?32)，上升管為進(jìn)氣管(1)，進(jìn)氣管(I)由進(jìn)氣管上段和進(jìn)氣管下段組成，所述的環(huán)形通道，為形成于泡帽(3)的筒體與進(jìn)氣管上段之間的環(huán)形通道(9)，所述的流體出口，包括進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔(5)和進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔￠)，進(jìn)氣管下段的內(nèi)腔，自上而下由倒置截頭圓錐形的進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔、進(jìn)氣管下段喉道和截頭圓錐形的進(jìn)氣管下段下內(nèi)腔組成，止逆球(2)處于密封位置時(shí)支承于進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔的表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體分布器，其特征在于:泡帽(3)的頂板上垂直設(shè)置有布?xì)饪?32)，該布?xì)饪?32)與環(huán)形通道(9)相連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氣體分布器，其特征在于:泡帽(3)的筒體為圓筒形或截頭圓錐面形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣體分布器，其特征在于:布?xì)饪?32)為圓形孔，直徑為 0.5 6毫米，泡帽(3)的筒體上沿高度方向設(shè)置有4 6圈布?xì)饪?32)，每圈布?xì)饪自O(shè)置6 20個(gè)布?xì)饪?32)，該布?xì)饪?32)與水平面之間的夾角δ為10 60度，泡帽(3)的頂板上設(shè)置布?xì)饪?32)時(shí)，同圓心設(shè)置I 2圈，每圈布?xì)饪自O(shè)置6 20個(gè)布?xì)饪?32)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氣體分布器，其特征在于:進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔的圓錐頂角β為45 150度,進(jìn)氣管下段下內(nèi)腔的圓錐頂角α為45 150度。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣體分布器，其特征在于:進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔(5)和進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔(6)均為豎置長(zhǎng)方形，分別設(shè)置2 8個(gè)，進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔￠)的總面積為進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔(5)總面積的20% 50%。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣體分布器，其特征在于:進(jìn)氣管下段外側(cè)面的頂部設(shè)有定位凸臺(tái)(7)。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種用于漿態(tài)床反應(yīng)器的氣體分布器，以解決現(xiàn)有的泡帽分布器用于漿態(tài)床反應(yīng)器分配氣體進(jìn)料時(shí)所存在的在進(jìn)氣量較大的情況下不能很好地破碎氣泡并使氣體均勻分布、止逆球會(huì)在氣流中頻繁跳動(dòng)等問(wèn)題。本發(fā)明設(shè)有泡帽(3)、進(jìn)氣管(1)、止逆球(2)，泡帽的筒體上傾斜向上設(shè)置有布?xì)饪?32)。進(jìn)氣管由進(jìn)氣管上段和進(jìn)氣管下段組成，進(jìn)氣管上段設(shè)有進(jìn)氣管上段中下部開(kāi)孔(5)和進(jìn)氣管上段頂部開(kāi)孔(6)。進(jìn)氣管下段的內(nèi)腔，自上而下由倒置截頭圓錐形的進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔、進(jìn)氣管下段喉道和截頭圓錐形的進(jìn)氣管下段下內(nèi)腔組成；止逆球處于密封位置時(shí)支承于進(jìn)氣管下段上內(nèi)腔的表面。本發(fā)明可用于漿態(tài)床反應(yīng)器，分配氣體進(jìn)料。
文檔編號(hào)B01J8/22GK103240038SQ20121002890
公開(kāi)日2013年8月14日 申請(qǐng)日期2012年2月3日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月3日
發(fā)明者蔡連波, 薛皓, 陳強(qiáng), 李保鋒, 盛維武, 趙曉青, 龐晶晶 申請(qǐng)人:中國(guó)石油化工股份有限公司, 中國(guó)石化集團(tuán)洛陽(yáng)石油化工工程公司