專利名稱:低溫沸騰氯化系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及低溫沸騰氯化系統(tǒng)。
背景技術(shù):
目前,進(jìn)行低溫沸騰氯化處理時(shí),需要對(duì)氯化爐加入固體物料和流化氣體。氯化爐 包括固體物料入口和流化氣體入口,固體物料和流化氣體(例如氯氣和氮?dú)獾幕旌蠚怏w) 分別通過(guò)固體物料入口和流化氣體入口提供到氯化爐中。其中,氯化爐的固體物料加料方 式多為絞籠加料,也稱為螺旋加料,具體為使用螺旋輸送機(jī)構(gòu)將固體物料輸送到固體物料 入口。當(dāng)使用碳化渣作為固體物料時(shí),由于碳化渣中TiC顆粒的硬度很大(其顯微硬度 達(dá)到28600 32000MPa),造成TiC富集程度高的顆粒難以破碎,從而以大顆粒形式存在于 固體物料中。使用螺旋加料時(shí),硬度很大的固體物料(尤其是大顆粒物料)對(duì)螺旋輸送機(jī) 構(gòu)的螺桿的磨損相當(dāng)嚴(yán)重,并且在輸送過(guò)程中存在很嚴(yán)重的粘結(jié)現(xiàn)象,因而很難長(zhǎng)時(shí)間順 利進(jìn)行螺旋輸送。另外,這種螺旋輸送方式無(wú)法保證輸送過(guò)程的密封性,容易造成氯化爐外 部的裝置被氯氣污染,例如氯氣會(huì)腐蝕螺桿。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是穩(wěn)定、順暢、密封地對(duì)氯化爐提供固體物料。為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型提供一種低溫沸騰氯化系統(tǒng),該低溫沸騰氯化 系統(tǒng)包括氯化爐,該氯化爐包括物料入口,其中,所述低溫沸騰氯化系統(tǒng)還包括送料裝置、 送氣裝置和噴射倉(cāng),所述送料裝置和所述送氣裝置分別向所述噴射倉(cāng)輸送物料和輸送氣 體,所述噴射倉(cāng)向所述物料入口噴射包括所述物料和所述氣體的流體。優(yōu)選地,所述送料裝置包括加料倉(cāng)和輸料機(jī)構(gòu),該輸料機(jī)構(gòu)從所述加料倉(cāng)向所述 進(jìn)料口送料。優(yōu)選地,所述輸料機(jī)構(gòu)為螺旋輸送機(jī)構(gòu)。優(yōu)選地,所述送氣裝置包括氣源和連接所述氣源與所述噴射倉(cāng)的送氣管。優(yōu)選地,所述噴射倉(cāng)通過(guò)輸料管與所述物料入口連通。更優(yōu)選地,所述輸料管內(nèi)安 裝有調(diào)節(jié)閥。優(yōu)選地,所述氯化爐包括流化氣體入口和排渣口,所述流化氣體入口位于所述氯 化爐的底部,所述排渣口位于所述氯化爐的上部,所述低溫沸騰氯化系統(tǒng)包括分別連接于 所述流化氣體入口和所述排渣口的流化氣體進(jìn)氣管和排渣管。更優(yōu)選地,所述物料入口位 于所述流化氣體入口和所述排渣口之間且位于所述氯化爐的下部。通過(guò)本實(shí)用新型的上述技術(shù)方案,可以在噴射倉(cāng)中將固體物料和氣體(例如氯化 反應(yīng)的保護(hù)氣體)混合并使固體物料隨氣體從氯化爐的物料入口噴射到氯化爐內(nèi)。通過(guò)噴 射方式提供固體物料時(shí),可以在較長(zhǎng)的輸送路徑內(nèi)實(shí)現(xiàn)噴射,因而在這部分路徑上可以避 免使用螺旋機(jī)構(gòu),從而提高了輸送的穩(wěn)定和連續(xù)性。另外,使用噴射方式提供物料時(shí),一方面能夠使固體物料迅速在氯化爐內(nèi)均勻分散,另一方面可以通過(guò)噴射的流體對(duì)噴射倉(cāng)起到 密封作用,從而避免氯化爐中的氯氣等腐蝕氣氛對(duì)氯化爐外的裝置造成污染。本實(shí)用新型的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的具體實(shí)施方式
部分予以詳細(xì)說(shuō)明。
附圖是用來(lái)提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解,并且構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分,與本實(shí) 用新型的具體實(shí)施方式
一起用于解釋本實(shí)用新型,但并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的限制。在附 圖中圖1是說(shuō)明本實(shí)用新型的低溫沸騰氯化系統(tǒng)的一種實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖。 附圖標(biāo)記說(shuō)明1:氯化爐 2:加料倉(cāng) 3:輸料機(jī)構(gòu) 4:送氣管5:噴射倉(cāng) 6:輸料管 7:流化氣體進(jìn)氣管8:排渣管
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解的是,此處 所描述的具體實(shí)施方式
僅用于說(shuō)明和解釋本實(shí)用新型,并不用于限制本實(shí)用新型。本實(shí)用新型的低溫沸騰氯化系統(tǒng)包括氯化爐1,該氯化爐1包括物料入口,其中, 所述低溫沸騰氯化系統(tǒng)還包括送料裝置、送氣裝置和噴射倉(cāng)5,所述送料裝置和所述送氣裝 置分別向所述噴射倉(cāng)5輸送物料和輸送氣體,所述噴射倉(cāng)5向所述物料入口噴射包括所述 物料和所述氣體的流體。如上所述,通過(guò)送料裝置和送氣裝置輸送到噴射倉(cāng)5中的固體物料(例如碳化渣) 和氣體(例如保護(hù)氣體,如氮?dú)?可以在噴射倉(cāng)5中均勻混合成攜載有固體物料的流體并 將該攜載有固體物料的流體通過(guò)噴射方式提供到氯化爐1中。噴射作用可以幫助固體物料 在氯化爐1中迅速擴(kuò)散,從而與正在氯化爐1中反應(yīng)的物料迅速混合,以提高反應(yīng)效率。另外,在噴射攜載有固體物料的流體的同時(shí),可以避免氯化爐1中的氯氣等腐蝕 性氣體和物質(zhì)從氯化爐1泄漏并污染噴射倉(cāng)5及其上游的部件(例如送料裝置和送氣裝 置)。其中,送料裝置和送氣裝置可以采用各種適當(dāng)?shù)牟考徒Y(jié)構(gòu),只要能夠向噴射倉(cāng)5 輸送物料和氣體即可。另外,噴射倉(cāng)5可以具有進(jìn)料口和進(jìn)氣口,從而送料裝置和送氣裝置 分別通過(guò)進(jìn)料口和進(jìn)氣口向噴射倉(cāng)5提供固體物料和氣體。在本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式中,如圖1所示,所述送料裝置可以包括加料倉(cāng)2和 輸料機(jī)構(gòu)3,該輸料機(jī)構(gòu)3從所述加料倉(cāng)2向所述噴射倉(cāng)(5)送料。根據(jù)加料倉(cāng)2和噴射倉(cāng) 5的位置關(guān)系,可以選用適當(dāng)類型的輸料機(jī)構(gòu)3。例如,當(dāng)加料倉(cāng)2位于噴射倉(cāng)5的上方時(shí), 輸料機(jī)構(gòu)3可以包括位于加料倉(cāng)2和噴射倉(cāng)5之間的管道和設(shè)置在該管道內(nèi)的閥門(mén)。通過(guò) 控制該閥門(mén)的打開(kāi)和關(guān)閉即可進(jìn)行送料和停止送料。優(yōu)選地,如圖1所示,所述輸料機(jī)構(gòu)3為螺旋輸送機(jī)構(gòu),從而能夠以可控的量向噴 射倉(cāng)5送料。雖然在此處使用了螺旋輸送機(jī)構(gòu),但輸送距離僅僅是從加料倉(cāng)2輸送到噴射 倉(cāng)5的距離,這相比從加料倉(cāng)2直接輸送到物料入口來(lái)說(shuō),顯著地縮短了輸送距離,因而螺 桿的磨損不會(huì)十分嚴(yán)重。另外,如圖1所示,所述送氣裝置可以包括氣源(圖未示)和連接所述氣源與所述噴射倉(cāng)5的送氣管4。其中,可以通過(guò)所述送氣裝置提供預(yù)定壓力的氣體。具體地,氣源可 以是具有預(yù)定壓力的氣源,或者可以在送氣管4上設(shè)置壓力調(diào)節(jié)閥以調(diào)節(jié)所需的壓力。通 過(guò)這種結(jié)構(gòu),可以在通過(guò)所述送氣裝置向所述噴射倉(cāng)5提供氣體的同時(shí)提供從噴射倉(cāng)5向 物料入口噴射流體所需的噴射壓力。另外,如圖1所示,所述噴射倉(cāng)5可以通過(guò)輸料管6與所述物料入口連通。優(yōu)選 地,所述輸料管6內(nèi)可以安裝有調(diào)節(jié)閥,以調(diào)節(jié)噴射倉(cāng)5內(nèi)的壓力和噴射的流體的壓力。另 外,如上所述,送氣管4內(nèi)也可以安裝有調(diào)節(jié)閥,從而能夠更方便、精確地調(diào)節(jié)噴射壓力。此 外,調(diào)節(jié)噴射壓力對(duì)于根據(jù)氯化爐1內(nèi)的反應(yīng)情況而噴射適當(dāng)壓力的流體是非常有利的, 從而能夠根據(jù)氯化爐1內(nèi)的反應(yīng)情況(例如壓力、物料濃度等)噴射適當(dāng)壓力、濃度的攜載 有固體物料的流體,以加速噴射到氯化爐1內(nèi)的固體物料的擴(kuò)散,有利于提高反應(yīng)效率。此外,如圖1所示,所述氯化爐1包括流化氣體入口和排渣口,所述流化氣體入口 位于所述氯化爐1的底部,所述排渣口位于所述氯化爐1的上部,所述低溫沸騰氯化系統(tǒng)包 括分別連接于所述流化氣體入口和所述排渣口的流化氣體進(jìn)氣管7和排渣管8。優(yōu)選地,所述物料入口位于所述流化氣體入口和所述排渣口之間。從而可以使物 料加入到氯化爐1內(nèi)的適當(dāng)位置,以在不影響氯化爐1內(nèi)的反應(yīng)正常進(jìn)行的同時(shí),將物料加 入到氯化爐1內(nèi)濃度適當(dāng)?shù)膮^(qū)域中。換言之,可以根據(jù)物料入口的位置所對(duì)應(yīng)的反應(yīng)區(qū)域 中的物料濃度,調(diào)整從加料倉(cāng)2和送氣管4輸送到噴射倉(cāng)5中的物料和氣體的量,從而得到 與所述反應(yīng)區(qū)域中的物料濃度相應(yīng)的、攜載有固體物料的流體。需要說(shuō)明的是,在上述具體實(shí)施方式
中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征,可以通過(guò)任 何合適的方式進(jìn)行任意組合,其同樣落入本實(shí)用新型所公開(kāi)的范圍之內(nèi)。另外,本實(shí)用新型 的各種不同的實(shí)施方式之間也可以進(jìn)行任意組合,只要其不違背本實(shí)用新型的思想,其同 樣應(yīng)當(dāng)視為本實(shí)用新型所公開(kāi)的內(nèi)容。以上結(jié)合附圖詳細(xì)描述了本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式,但是,本實(shí)用新型并不限 于上述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié),在本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi),可以對(duì)本實(shí)用新型的技 術(shù)方案進(jìn)行多種簡(jiǎn)單變型,這些簡(jiǎn)單變型均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.低溫沸騰氯化系統(tǒng),該低溫沸騰氯化系統(tǒng)包括氯化爐(1),該氯化爐(1)包括物料入 口,其特征在于,所述低溫沸騰氯化系統(tǒng)還包括送料裝置、送氣裝置和噴射倉(cāng)(5),所述送料 裝置和所述送氣裝置分別向所述噴射倉(cāng)( 輸送物料和輸送氣體,所述噴射倉(cāng)(5)向所述 物料入口噴射包括所述物料和所述氣體的流體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng),其特征在于,所述送料裝置包括加料倉(cāng) (2)和輸料機(jī)構(gòu)(3),該輸料機(jī)構(gòu)C3)從所述加料倉(cāng)O)向所述噴射倉(cāng)( 送料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng),其特征在于,所述輸料機(jī)構(gòu)(3)為螺旋輸 送機(jī)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng),其特征在于,所述送氣裝置包括氣源和 連接所述氣源與所述噴射倉(cāng)(5)的送氣管(4)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng),其特征在于,所述送氣管(4)內(nèi)安裝有調(diào) 節(jié)閥。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng),其特征在于,所述噴射倉(cāng)( 通過(guò)輸料管 (6)與所述物料入口連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng),其特征在于,所述輸料管(6)內(nèi)安裝有調(diào) 節(jié)閥。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任意一項(xiàng)所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng),其特征在于,所述氯化爐 (1)包括流化氣體入口和排渣口,所述流化氣體入口位于所述氯化爐(1)的底部,所述排渣 口位于所述氯化爐(1)的上部,所述低溫沸騰氯化系統(tǒng)還包括分別連接于所述流化氣體入 口和所述排渣口的流化氣體進(jìn)氣管(7)和排渣管(8)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的低溫沸騰氯化系統(tǒng),其特征在于,所述物料入口位于所述流 化氣體入口和所述排渣口之間且位于所述氯化爐的下部。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種低溫沸騰氯化系統(tǒng),該低溫沸騰氯化系統(tǒng)包括氯化爐(1),該氯化爐(1)包括物料入口,其特征在于,所述低溫沸騰氯化系統(tǒng)還包括送料裝置、送氣裝置和噴射倉(cāng)(5),所述送料裝置和所述送氣裝置分別向所述噴射倉(cāng)(5)輸送物料和輸送氣體,所述噴射倉(cāng)(5)向所述物料入口噴射包括所述物料和所述氣體的流體。使用本實(shí)用新型的低溫沸騰氯化系統(tǒng),一方面能夠使固體物料迅速在氯化爐內(nèi)均勻分散,另一方面可以通過(guò)噴射的流體對(duì)噴射倉(cāng)起到密封作用,從而避免氯化爐中的氯氣等腐蝕氣氛對(duì)氯化爐外的裝置造成污染。
文檔編號(hào)B01J4/00GK201871364SQ20102057253
公開(kāi)日2011年6月22日 申請(qǐng)日期2010年10月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月20日
發(fā)明者劉森林, 李哲, 楊仰軍, 楊文 , 程世華, 陸平 申請(qǐng)人:攀鋼集團(tuán)攀枝花鋼鐵研究院有限公司, 攀鋼集團(tuán)鋼鐵釩鈦股份有限公司