專利名稱：砂濾池的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于水處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種砂濾池。
背景技術(shù)：
目前，砂濾池是應(yīng)用石英砂或白煤、礦石等粒狀濾料對(duì)源水進(jìn)行快速過(guò)濾而達(dá)到 截留水中懸浮固體和部分細(xì)菌、微生物等目的的水處理池。是應(yīng)用最廣的給水過(guò)濾設(shè)備，用 以除去水中經(jīng)過(guò)混凝沉淀處理后殘余懸浮物，或水中經(jīng)過(guò)凝聚處理后的懸浮物。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種砂濾池，該砂濾池可以有效取出水中的懸浮物， 以獲得濁度更低的水；還可以用來(lái)去掉污泥中的水，以獲得含水量較低的污泥。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是一種砂濾池，包括池體，所述池體內(nèi)部設(shè)有砂石填料，砂石填料與池體底部之間為 底部配水空間，池體一側(cè)設(shè)有連通底部配水空間的進(jìn)水渠，砂石填料上部為頂部配水空間， 池體另一側(cè)設(shè)有與頂部配水空間連通的出水渠。所述砂石填料設(shè)置在由多孔板制成的容器內(nèi)。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型的砂濾池結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，實(shí)用可靠、可以提供長(zhǎng)時(shí)間的砂濾處理，原水自下 向上過(guò)濾澄清后排出，避免了砂濾填料中的細(xì)小雜質(zhì)落下污染澄清水的弊端，經(jīng)本實(shí)用新 型的砂濾池處理后出水的渾濁度可達(dá)4度以下。

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1為進(jìn)水渠、2為底部配水空間、3為多孔板、4為砂石填料、5為出水渠、6為 池體、7為頂部配水空間。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述一種砂濾池，包括池體6，池體6內(nèi)部設(shè)有砂石填料4，砂石填料4與池體6底部之 間為底部配水空間2，池體6 —側(cè)設(shè)有連通底部配水空間2的進(jìn)水渠1，砂石填料4上部為 頂部配水空間7，池體6另一側(cè)設(shè)有與頂部配水空間7連通的出水渠5。砂石填料4設(shè)置在由多孔板3制成的容器內(nèi)，多孔板3的疏密以保證砂石填料不 會(huì)從孔中漏出為宜。原水自進(jìn)水渠1中進(jìn)入砂濾池池體6，進(jìn)入底部配水空間2，向上經(jīng)過(guò)砂石填料4， 過(guò)濾后的澄清水進(jìn)入砂石填料4上方的頂部配水空間7，最后澄清水從出水渠5排出砂濾 池。[0015] 實(shí)用新型的砂濾池結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，實(shí)用可靠、可以提供長(zhǎng)時(shí)間的砂濾處理，原自下向上 過(guò)濾澄清后排出，避免了砂濾填料中的細(xì)小雜質(zhì)落下污染澄清水的弊端。
權(quán)利要求1.一種砂濾池，包括池體(6)，其特征是所述池體(6)內(nèi)部設(shè)有砂石填料(4)，砂石填料 (4)與池體(6)底部之間為底部配水空間(2)，池體(6) —側(cè)設(shè)有連通底部配水空間(2)的 進(jìn)水渠(1)，砂石填料(4)上部為頂部配水空間(7)，池體(6)另一側(cè)設(shè)有與頂部配水空間 (7)連通的出水渠(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的砂濾池，其特征是所述砂石填料(4)設(shè)置在由多孔板(3)制 成的容器內(nèi)。
專利摘要一種砂濾池，包括池體(6)，其特征是所述池體(6)內(nèi)部設(shè)有砂石填料(4)，砂石填料(4)與池體(6)底部之間為底部配水空間(2)，池體(6)一側(cè)設(shè)有連通底部配水空間(2)的進(jìn)水渠(1)，砂石填料(4)上部為頂部配水空間(7)，池體(6)另一側(cè)設(shè)有與頂部配水空間(7)連通的出水渠(5)。所述砂石填料(4)設(shè)置在由多孔板(3)制成的容器內(nèi)。本實(shí)用新型的砂濾池結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，實(shí)用可靠、可以提供長(zhǎng)時(shí)間的砂濾處理，原自下向上過(guò)濾澄清后排出，避免了砂濾填料中的細(xì)小雜質(zhì)落下污染澄清水的弊端，經(jīng)本實(shí)用新型的砂濾池處理后出水的渾濁度可達(dá)4度以下。
文檔編號(hào)B01D24/26GK201775995SQ20102017196
公開(kāi)日2011年3月30日 申請(qǐng)日期2010年4月27日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月27日
發(fā)明者任良林, 余素耘, 呂建來(lái), 沈德華, 范正芳, 陳偉, 馬林 申請(qǐng)人:南京源泉環(huán)保科技股份有限公司