專(zhuān)利名稱(chēng)：聚砜膜方法和裝置的制作方法
聚砜膜方法和裝置背景本發(fā)明一般性地涉及用于水和氣體過(guò)濾的方法和裝置。在許多純化系統(tǒng)中已采用中空纖維超濾膜。由于聚砜以其耐化學(xué)性、良好的機(jī)械性能和良好的熱穩(wěn)定性而著稱(chēng)，聚砜廣泛用于這些超濾膜。然而，聚砜通常為疏水性的，并且包含疏水性聚砜的中空纖維超濾膜的潤(rùn)濕性差并且當(dāng)用于分離和過(guò)濾應(yīng)用時(shí)結(jié)垢。盡管近來(lái)在制備顯示增強(qiáng)的親水性的聚砜組合物中的進(jìn)展，但是在包含聚砜的膜的性能特性方面還需要其他改善和提高。在親水性聚醚砜組合物及其在采用膜的分離技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域， 本發(fā)明提供了另外的進(jìn)展。概述在一方面，本發(fā)明涉及一種用于水過(guò)濾的方法，所述方法包括將水流與包含聚砜的膜接觸，所述聚砜具有式I的結(jié)構(gòu)單元
權(quán)利要求
1. 一種用于水過(guò)濾的方法，所述方法包括將水流與包含聚砜的膜接觸，所述聚砜具有式I的結(jié)構(gòu)單元
2.權(quán)利要求1的方法，其中所述膜包含聚砜和至少一種其他聚合物或低聚物的共混物。
3.權(quán)利要求1的方法，其中所述膜還包含至少一種親水性聚合物。
4.權(quán)利要求3的方法，其中所述親水性聚合物為聚乙烯基吡咯烷酮。
5.權(quán)利要求1的方法，其中q和r各自為0。
6.一種水過(guò)濾裝置，所述裝置包含至少一個(gè)包含聚砜的膜，所述聚砜具有式I的結(jié)構(gòu)單元
7.權(quán)利要求6的水過(guò)濾裝置，其中所述膜包含聚砜和至少一種其他聚合物或低聚物的共混物。
8.權(quán)利要求6的裝置，其中所述膜還包含至少一種親水性聚合物。
9.權(quán)利要求8的裝置，其中所述親水性聚合物為聚乙烯基吡咯烷酮。
10.權(quán)利要求6的裝置，其中所述膜為平片材、中空纖維或其組合。
11.權(quán)利要求6的裝置，其中(！和！·各自為0。
12.一種用于氣體分離的方法，所述方法包括將氣體流與包含聚砜的膜接觸，所述聚砜具有式I的結(jié)構(gòu)單元
13.權(quán)利要求12的方法，其中所述膜包含聚砜和至少一種其他聚合物或低聚物的共混物。
14.權(quán)利要求12的方法，其中所述膜還包含至少一種親水性聚合物。
15.權(quán)利要求14的方法，其中所述親水性聚合物為聚乙烯基吡咯烷酮。
16.權(quán)利要求12的方法，其中所述方法從氣體流中除去水蒸汽。
17.權(quán)利要求12的方法，其中(！和！·各自為0。
18.一種氣體分離裝置，所述裝置包含至少一個(gè)包含聚砜的膜，所述聚砜具有式I的結(jié)構(gòu)單元
19.權(quán)利要求18的裝置，其中所述膜包含聚砜和至少一種其他聚合物或低聚物的共混物。
20.權(quán)利要求18的裝置，其中所述膜還包含至少一種親水性聚合物。
21.權(quán)利要求20的裝置，其中所述親水性聚合物為聚乙烯基吡咯烷酮。
22.權(quán)利要求18的裝置，其中所述膜為平片材、中空纖維或其組合。
23.權(quán)利要求18的裝置，其中(！和！·各自為0。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于水過(guò)濾的方法和裝置，所述方法包括將水流與包含聚砜的膜接觸，所述聚砜具有式I的結(jié)構(gòu)單元其中X為OH、NR1R2或OR3；R1和R2在每次出現(xiàn)時(shí)獨(dú)立為氫、C1-C5000脂族基團(tuán)、C3-C12脂環(huán)族基團(tuán)、C3-C12芳族基團(tuán)、多肽、其組合，或者R1和R2結(jié)合在一起形成5-元或6-元脂族環(huán)或5-元芳族環(huán)；R3為C1-C20脂族基團(tuán)、C3-C12脂環(huán)族基團(tuán)、C3-C12芳族基團(tuán)或其組合；B’和C’在每次出現(xiàn)時(shí)獨(dú)立為硝基、C1-C20脂族基團(tuán)、C3-C12脂環(huán)族基團(tuán)、C3-C12芳族基團(tuán)或其組合；和q和r在每次出現(xiàn)時(shí)獨(dú)立為0-4。本發(fā)明還涉及用于氣體分離的方法和裝置，所述方法包括將氣體流與包含聚砜的膜接觸，所述聚砜具有式I的結(jié)構(gòu)單元。
文檔編號(hào)B01D71/68GK102202773SQ200980143773
公開(kāi)日2011年9月28日 申請(qǐng)日期2009年10月7日 優(yōu)先權(quán)日2008年10月31日
發(fā)明者D·施泰格, G·W·伊格, L·于, Y·張 申請(qǐng)人:通用電氣公司