一種小型晶體諧振器的晶片清洗機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型屬于石英晶體諧振器的設(shè)備領(lǐng)域，具體是一種小型晶體諧振器的晶片清洗機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著電子終端產(chǎn)品的小型化、便攜化的發(fā)展，電子通信市場迫切要求石英晶體元器件向小型化和高穩(wěn)定度方向的小型晶體諧振器發(fā)展。具有小型化、低噪聲、高穩(wěn)定度特點(diǎn)的小型石英晶體諧振器開始成為人們關(guān)注的熱點(diǎn)。小型晶體諧振在制造過程中需使用晶片進(jìn)行組裝。晶片在使用前需用清洗液、熱水、純水和酒精進(jìn)行清洗，去除晶片表面的臟污和異物。然而傳統(tǒng)的清洗工藝存在一些問題，手動(dòng)清洗晶片存在作業(yè)方式不當(dāng)形成晶片破片、裂片，作業(yè)要點(diǎn)不當(dāng)導(dǎo)致手動(dòng)清洗晶片不能完全去除外殼里面的異物，手動(dòng)清洗后的晶片疊加在一起，常常烘干后的晶片表面存在一些水印，小型晶片未清洗干凈，影響產(chǎn)品的電氣特性參數(shù)和可靠度，客戶滿意度下降低，甚至客戶會(huì)客訴退貨處理，同時(shí)，手動(dòng)清洗晶體為單次更換熱水、純水，未循環(huán)利用，浪費(fèi)水資源，增加了制造成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種小型晶體諧振器的晶片清洗機(jī)，能有效地去除晶片表面的臟污和異物，使小型晶片清洗干凈，解決清洗過程造成的破片、裂片問題，實(shí)現(xiàn)熱水、純水循環(huán)利用，保障小型晶體諧振器的品質(zhì)，降低制造成本。
[0004]本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
[0005]—種小型晶體諧振器的晶片清洗機(jī)，其特征在于:包括多個(gè)不同水溫水位振洗槽及水箱、移料裝置，不同水溫水位振洗槽內(nèi)裝有振板，振板內(nèi)密封有換能器，振洗槽內(nèi)設(shè)置有液位開關(guān)，不同水溫水位振洗槽間由移料裝置移料。
[0006]上述振洗槽包括清洗液振洗槽、熱水噴淋振洗槽、熱水低水位振洗槽、熱水高水位振洗槽、純水低水位振洗槽、純水高水位振洗槽，依次連接，上述水箱包括低溫?zé)崴?、高溫?zé)崴?、純水水箱?br>[0007]本實(shí)用新型移料裝置包括移料吸取裝置、移料行程控制桿、移料電機(jī)旋轉(zhuǎn)塊和移料移動(dòng)裝置，其中移料移動(dòng)裝置由移料移動(dòng)平臺(tái)和移料移動(dòng)軌道組成。
[0008]本實(shí)用新型熱水噴淋振洗槽帶有噴淋頭，熱水噴淋振洗槽溢流采用鋸齒結(jié)構(gòu)。
[0009]本實(shí)用新型振洗槽內(nèi)的液位開關(guān)采用光電式液位開關(guān)，當(dāng)清洗液達(dá)到一定高度時(shí)，超聲波才可打開，以保護(hù)超聲波清洗機(jī)在沒有清洗液免受損壞。
[0010]本實(shí)用新型不同水溫水位振洗槽之間設(shè)置有循環(huán)過濾裝置，熱水噴淋振洗槽、熱水低水位振洗槽和熱水高水位振洗槽的熱水是循環(huán)的，純水低水位振洗槽和純水高水位振洗槽的純水是循環(huán)的。
[0011]本實(shí)用新型由于采用了上述技術(shù)方案，能有效地去除晶片表面的臟污和異物，使小型晶片清洗干凈，解決清洗過程造成的破片、裂片問題，實(shí)現(xiàn)熱水、純水循環(huán)利用，保障小型晶體諧振器的品質(zhì)，降低制造成本，提升效率。
【附圖說明】
[0012]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]下面參照?qǐng)D1對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施例做進(jìn)一步說明。
[0014]—種小型晶體諧振器的晶片清洗機(jī)，包括多個(gè)不同水溫水位振洗槽及水箱、移料裝置，不同水溫水位振洗槽內(nèi)裝有振板11，振板11內(nèi)密封有換能器13，振洗槽內(nèi)設(shè)置有液位開關(guān)14，不同水溫水位振洗槽間由移料裝置10移料。上述振洗槽包括清洗液振洗槽1、熱水噴淋振洗槽2、熱水低水位振洗槽3、熱水高水位振洗槽4、純水低水位振洗槽5、純水高水位振洗槽6，依次連接，不同水溫水位振洗槽內(nèi)設(shè)置有進(jìn)水管16、放水管17，進(jìn)水管16采用電磁閥18控制，放水管17采用手動(dòng)球閥19控制；上述水箱包括低溫?zé)崴?、高溫?zé)崴?、純水水箱9，其中高溫?zé)崴?由加熱管20、進(jìn)水管16、溢流管21、放水管17、溫度控制器22、液位開關(guān)14和水箱箱體組成，液位開關(guān)14采用光電式液位開關(guān)，當(dāng)熱水達(dá)到一定高度時(shí)，超聲波才可打開，以保護(hù)超聲波清洗機(jī)在沒有清洗液免受損壞，上部的液位開關(guān)控制水萊29進(jìn)水量。
[0015]本實(shí)用新型熱水噴淋振洗槽2帶有噴淋頭15，熱水噴淋振洗槽2溢流采用鋸齒結(jié)構(gòu)。
[0016]本實(shí)用新型移料裝置10包括移料吸取裝置23、移料行程控制桿24、移料電機(jī)旋轉(zhuǎn)塊25和移料移動(dòng)裝置26，其中移料移動(dòng)裝置由移料移動(dòng)平臺(tái)27和移料移動(dòng)軌道28組成。
[0017]本實(shí)用新型不同水溫水位振洗槽之間設(shè)置有循環(huán)過濾裝置30，熱水噴淋振洗槽
2、熱水低水位振洗槽3和熱水高水位振洗槽4的熱水是循環(huán)的，純水低水位振洗槽5和純水高水位振洗槽6的純水是循環(huán)的。
[0018]本實(shí)用新型振板11采用不銹鋼掩護(hù)焊接而成，振板輸出電纜線與壁槽通過不銹鋼管，螺母密封。
[0019]本實(shí)用新型換能器13的超聲波發(fā)生器振蕩電路采用開關(guān)電源控制集成電路，功放電路采用西門子大功率模塊，并帶有溫度和時(shí)間控制模塊，設(shè)置超聲波工作時(shí)間；帶有過載保護(hù)器，在電流過流或者線路短路，能自動(dòng)快速切斷高壓電源和振蕩輸出，而不至于損壞豐旲塊。
[0020]本實(shí)用新型清洗槽、水箱全部采用不銹鋼氬弧焊接，管道采用PVC管和塑料軟管連接，不會(huì)給清洗液造成污染。
[0021]本新型清洗槽內(nèi)的待清洗晶片提籃放置在固定座12中，可通過電機(jī)擺動(dòng)裝置進(jìn)行擺動(dòng)，使工件清洗更加徹底；清洗槽、水箱全部采用不銹鋼氬弧焊接，管道采用PVC管和塑料軟管連接。
[0022]本實(shí)用新型由于采用了上述技術(shù)方案，能有效地去除晶片表面的臟污和異物，使小型晶片清洗干凈，解決清洗過程造成的破片、裂片問題，實(shí)現(xiàn)熱水、純水循環(huán)利用，保障小型晶體諧振器的品質(zhì)，降低制造成本，提升效率。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種小型晶體諧振器的晶片清洗機(jī)，其特征在于:包括多個(gè)不同水溫水位振洗槽及水箱、移料裝置，不同水溫水位振洗槽內(nèi)裝有振板，振板內(nèi)密封有換能器，振洗槽內(nèi)設(shè)置有液位開關(guān)，不同水溫水位振洗槽間由移料裝置移料。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種小型晶體諧振器的晶片清洗機(jī)，其特征在于:振洗槽包括清洗液振洗槽、熱水噴淋振洗槽、熱水低水位振洗槽、熱水高水位振洗槽、純水低水位振洗槽、純水高水位振洗槽，依次連接，上述水箱包括低溫?zé)崴?、高溫?zé)崴?、純水水箱?.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種小型晶體諧振器的晶片清洗機(jī)，其特征在于:移料裝置上設(shè)置有移料吸取裝置、移料行程控制桿、移料電機(jī)旋轉(zhuǎn)塊和移料移動(dòng)裝置，其中移料移動(dòng)裝置由移料移動(dòng)平臺(tái)和移料移動(dòng)軌道組成。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種小型晶體諧振器的晶片清洗機(jī)，其特征在于:不同水溫水位振洗槽之間設(shè)置有循環(huán)過濾裝置，熱水噴淋振洗槽、熱水低水位振洗槽和熱水高水位振洗槽的熱水是循環(huán)的，純水低水位振洗槽和純水高水位振洗槽的純水是循環(huán)的。5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種小型晶體諧振器的晶片清洗機(jī)，其特征在于:振洗槽內(nèi)的液位開關(guān)，采用光電式液位開關(guān)。6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種小型晶體諧振器的晶片清洗機(jī)，其特征在于:振板采用不銹鋼掩護(hù)焊接而成，振板輸出電纜線與壁槽通過不銹鋼管，螺母密封。7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種小型晶體諧振器的晶片清洗機(jī)，其特征在于:熱水噴淋振洗槽帶有噴淋頭，熱水噴淋振洗槽溢流采用鋸齒結(jié)構(gòu)。8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種小型晶體諧振器的晶片清洗機(jī)，其特征在于:換能器的超聲波發(fā)生器振蕩電路采用開關(guān)電源控制集成電路，功放電路采用西門子大功率模塊。
【專利摘要】一種小型晶體諧振器的晶片清洗機(jī)，其特征在于：包括多個(gè)不同水溫水位振洗槽及水箱、移料裝置，不同水溫水位振洗槽內(nèi)裝有振板，振板內(nèi)密封有換能器，振洗槽內(nèi)設(shè)置有液位開關(guān)，不同水溫水位振洗槽間由移料裝置移料，移料裝置包括移料吸取裝置、移料行程控制桿、移料電機(jī)旋轉(zhuǎn)塊和移料移動(dòng)裝置。振洗槽包括清洗液振洗槽、熱水噴淋振洗槽、熱水低水位振洗槽、熱水高水位振洗槽、純水低水位振洗槽、純水高水位振洗槽，依次連接。本實(shí)用新型能有效地去除晶片表面的臟污和異物，使小型晶片清洗干凈，解決清洗過程造成的破片、裂片問題，實(shí)現(xiàn)熱水、純水循環(huán)利用，保障品質(zhì)，降低制造成本，提升效率。
【IPC分類】B08B3/10, B08B3/14, H01L21/67, B08B3/02, B08B3/08
【公開號(hào)】CN205128495
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520839462
【發(fā)明人】湯陽武, 李慶躍, 吳宗澤, 王臻, 林土全, 郭雄偉
【申請(qǐng)人】浙江東晶電子股份有限公司
【公開日】2016年4月6日
【申請(qǐng)日】2015年10月27日