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給水處理器的制造方法

文檔序號:9074770閱讀:365來源:國知局
給水處理器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種消毒凈化裝置,尤其涉及一種給水處理器。
【背景技術(shù)】
[0002]消毒是給水工程的重要環(huán)節(jié),是城市給水處理系統(tǒng)中殺滅對人體有害的病原微生物的給水處理過程,常采用的方式有氯消毒、臭氧消毒、紫外線消毒等。其中氯消毒法由于價格低廉、效果好,應(yīng)用最廣,但其在水中可產(chǎn)生副產(chǎn)物三鹵甲烷、鹵乙酸、鹵代醛等,該類產(chǎn)物由于“三致”作用越來越被重視,而且氯消毒法不能有效殺滅隱孢子蟲及其孢囊,對病毒的殺滅能力較差,同時氯消毒的原料液氯、氯氣、鹽酸等化學(xué)品在運(yùn)輸和儲存、使用環(huán)節(jié)也存在較大的安全隱患。飲水安全關(guān)系人的生命健康,安全高效無二次污染的消毒方法將呈現(xiàn)出來,國外新采用臭氧法、紫外線消毒,受污染的水源要采用絮凝沉淀、過濾、生化處理等手段處理去除有機(jī)物后再進(jìn)行消毒處理。
[0003]臭氧消毒的優(yōu)點(diǎn)是殺菌效果好、用量少、作用快,能同時控制水中鐵、錳、色、味、嗅,可將氰化物、酚等有毒有害物質(zhì)氧化為無害物質(zhì),可氧化嗅味和致色物質(zhì),從而減少嗅味,降低色度,可氧化溶解性鐵、錳,形成不溶性沉淀,通過過濾去除,可將生物難分解的大分子有機(jī)物氧化分解為易于生物降解的小分子有機(jī)物。但研究表明,臭氧受氧化活性限制,不能將有機(jī)物完全礦化,臭氧與有機(jī)物反應(yīng)生成不飽和醛類、環(huán)氧化合物等有毒物質(zhì),在含有少量溴化物的時候,臭氧處理就會產(chǎn)生致癌性的副產(chǎn)物,主要的副產(chǎn)物有有機(jī)性副產(chǎn)物的三溴甲烷、乙腈氰甲烷、1-1 二溴酮、溴乙酸等,無機(jī)性副產(chǎn)物的溴酸鹽、次溴酸、次溴離子等。在臭氧處理后再加氯或氯胺處理會分別生成三氯硝基甲烷和氯化氰,成為新的消毒副產(chǎn)物,其毒性現(xiàn)尚不清楚。對某些農(nóng)藥,臭氧氧化后的產(chǎn)物可能更有害。這些副產(chǎn)物中最需要注意的是溴酸鹽,其最大容許濃度極低,美國標(biāo)準(zhǔn)為0.01mg/Lo
[0004]紫外線消毒是一種物理方法,它不向水中增加任何物質(zhì),沒有副作用,不會產(chǎn)生消毒副產(chǎn)物,但缺乏持續(xù)滅菌能力,所以它一般要與其它消毒方法聯(lián)合使用。然而,對細(xì)菌滅活需要的紫外線劑量以紫外線的強(qiáng)度乘以輻照時間計(jì)算,它必須保證不能進(jìn)行自我復(fù)制或者突變后代不能進(jìn)行自我復(fù)制。一般細(xì)菌的體積越大或者和數(shù)目越多,對其滅活所需的紫外線劑量就越大。而病毒本身對紫外線的抵抗能力很弱,但是通過宿主的保護(hù)作用增強(qiáng)了病毒耐紫外線性。因此,紫外線消毒處理水必須經(jīng)過良好的預(yù)處理,而且消毒需要紫外線輻照劑量難以明確。另外,紫外線消毒也不能保持持續(xù)的殺菌效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本實(shí)用新型的目的是提供一種給水處理器,使用本實(shí)用新型進(jìn)行給水消毒凈化能在水中產(chǎn)生高氧化活性物質(zhì)(.0H、03、H2O2等活性粒子),同時具有紫外輻射、高能電子轟擊等作用,能夠有效的殺死病菌、病毒、孢囊,能將水中的有機(jī)物氧化成二氧化碳和水,不產(chǎn)生二次污染,消毒殺菌效果好。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:
[0007]一種給水處理器,其特征是,包括消毒凈化單元,消毒凈化單元包括內(nèi)外布置的內(nèi)電極和外電極,內(nèi)電極外面包裹有內(nèi)絕緣介質(zhì),外電極外面包裹有外絕緣介質(zhì),內(nèi)絕緣介質(zhì)和外絕緣介質(zhì)之間為上下通透的過水通道,內(nèi)電極和外電極分別對應(yīng)連接有電源導(dǎo)線和接地導(dǎo)線中的其中一個,電源導(dǎo)線與接地導(dǎo)線之間電連接有高頻高壓脈沖電源。
[0008]根據(jù)所述的給水處理器,其特征是,所述消毒凈化單元下方設(shè)有微孔曝氣裝置,微孔曝氣裝置通過氣路連通有空氣壓縮機(jī)。
[0009]根據(jù)所述的給水處理器,其特征是,所述外電極為中空的圓筒狀結(jié)構(gòu),所述內(nèi)電極為中空的圓筒狀或?qū)嵭牡膱A桿狀結(jié)構(gòu)。
[0010]根據(jù)所述的給水處理器,其特征是,所述內(nèi)電極和外電極均為中空的圓筒狀結(jié)構(gòu),內(nèi)電極與外電極內(nèi)外層疊多層設(shè)置。
[0011 ] 根據(jù)所述的給水處理器,其特征是,所述消毒凈化單元傾斜設(shè)置。
[0012]根據(jù)所述的給水處理器,其特征是,所述消毒凈化單元呈矩陣式分布。
[0013]根據(jù)所述的給水處理器,其特征是,該給水處理器還包括箱體,箱體內(nèi)設(shè)有隔板,所述消毒凈化單元穿過隔板固定安裝在箱體內(nèi)。
[0014]根據(jù)所述的給水處理器,其特征是,所述的內(nèi)絕緣介質(zhì)和外絕緣介質(zhì)為高介電常數(shù)的石英、搪瓷、陶瓷或玻璃。
[0015]根據(jù)所述的給水處理器,其特征是,該給水處理器還包括氧氣回收裝置,氧氣回收裝置包括集氣罩,集氣罩位于所述消毒凈化單元上方,集氣罩通過氣路連通有儲氣罐,儲氣罐與集氣罩之間的氣路上連通有電磁閥,集氣罩內(nèi)設(shè)有液位控制開關(guān),液位控制開關(guān)與電磁閥相連接;儲氣罐還連通有制氧機(jī),儲氣罐又通過氣路與所述空氣壓縮機(jī)相連通。
[0016]本實(shí)用新型是陣列式DBD低溫等離子技術(shù)在給水處理中的應(yīng)用,DBD低溫等離子技術(shù)在廢氣治理中應(yīng)用比較廣泛,由于水的導(dǎo)電性阻礙了該項(xiàng)技術(shù)在水處理的發(fā)展,本實(shí)用新型通過在水中產(chǎn)生微小的氣泡來提高水的介電常數(shù),以及調(diào)節(jié)介質(zhì)厚度及介質(zhì)間間距,從而實(shí)現(xiàn)在水中產(chǎn)生等離子體,達(dá)到該技術(shù)在非純水中的應(yīng)用目的。本實(shí)用新型綜合了臭氧和紫外消毒的優(yōu)勢,通過產(chǎn)生高氧化活性物質(zhì)(.0H、03、H2O2等活性粒子)、紫外輻射、高能電子轟擊等,能夠有效的殺死病菌、病毒、孢囊,同時能將水中的有機(jī)物氧化成二氧化碳和水,不產(chǎn)生二次污染。
[0017]本實(shí)用新型的應(yīng)用解決了氯消毒運(yùn)輸、儲存、使用帶來的安全隱患,是一種更徹底的消毒方法,解決了受有機(jī)污染水源的前處理過程,沒有二次污染物生成。水中剩余的臭氧能夠起到持續(xù)殺菌的作用,比紫外殺菌具有末端殺菌的優(yōu)勢,消毒殺菌效果好。
【附圖說明】
[0018]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0019]圖2是本實(shí)用新型中箱體的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020]圖中箭頭所示為水流方向。
[0021]附圖中:
[0022]1、箱體;2、外電極;3、外絕緣介質(zhì);4、內(nèi)絕緣介質(zhì);5、隔板;6、內(nèi)電極;7、微孔曝氣裝置;8、電源導(dǎo)線;9、空氣壓縮機(jī);10、高頻高壓脈沖電源;11、接地導(dǎo)線;12、制氧機(jī);13、儲氣罐;14、電磁閥;15、集氣罩;16、液位控制開關(guān)。
【具體實(shí)施方式】
[0023]下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述:
[0024]一種給水處理器,如圖1和圖2所示,包括消毒凈化單元,消毒凈化單元包括內(nèi)外布置的內(nèi)電極6和外電極2,內(nèi)電極6外面包裹有內(nèi)絕緣介質(zhì)4,外電極2外面包裹有外絕緣介質(zhì)3,內(nèi)絕緣介質(zhì)4和外絕緣介質(zhì)3之間為上下通透的過水通道,內(nèi)電極6和外電極2分別對應(yīng)連接有電源導(dǎo)線8和接地導(dǎo)線11中的其中一個,電源導(dǎo)線8與接地導(dǎo)線11之間電連接有高頻高壓脈沖電源10。所述消毒凈化單元下方設(shè)有微孔曝氣裝置7,微孔曝氣裝置7通過氣路連通有空氣壓縮機(jī)9。
[0025]在本實(shí)施例中,所述外電極2為中空的圓筒狀結(jié)構(gòu),所述內(nèi)電極6為中空的圓筒狀或?qū)嵭牡膱A桿狀結(jié)構(gòu)。所述內(nèi)電極6和外電極2均為中空的圓筒狀結(jié)構(gòu),內(nèi)電極6與外電極2內(nèi)外層疊多層設(shè)置。所述消毒凈化單元傾斜設(shè)置。根據(jù)權(quán)利要求5所述的給水處理器,其特征是,所述消毒凈化單元呈矩陣式分布。
[0026]在本實(shí)施例中,該給水處理器還包
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