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高溫等離子水處理設(shè)備的制造方法_2

文檔序號(hào):8552919閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
使廢水得到凈化。陰極反應(yīng)產(chǎn)生大量新生態(tài)的[H]和[O],在偏酸性的條件下,這些活性成分均能與廢水中的許多組分發(fā)生氧化還原反應(yīng),使有機(jī)大分子發(fā)生斷鏈降解,從而消除了有機(jī)廢水的色度,提高了廢水的可生化性,且陰極反應(yīng)消耗了大量的H+生成了大量的0H-,這使得廢水的pH值也有所提高。當(dāng)廢水與鐵碳接觸后發(fā)生如下電化學(xué)反應(yīng):陽(yáng)極:Fe-2e一.- Fe2+E (Fe/Fe) =0.4V ;陰極:2H+2e—.- H2,E (H+/H2) =OV 當(dāng)有氧存在時(shí),陰極反應(yīng)如下:02+4H++4e—.- 2H20,E (02) =1.23V ;02+2H20+4e一.- 40H-E (02/0H-) =0.41V。
[0022]鐵碳處理之后進(jìn)入等離子處理階段,等離子處理機(jī)構(gòu)由一導(dǎo)氣管和位于導(dǎo)氣管內(nèi)的等離子噴嘴組成,等離子噴嘴上繞著為其供電的導(dǎo)線,等離子噴嘴包括兩片互相靠近的銅片,等離子噴嘴前方設(shè)置有線圈,線圈所產(chǎn)生的磁感應(yīng)強(qiáng)度方向與等離子噴出方向相反。導(dǎo)氣管連接有高壓氣瓶、或者空壓機(jī)。在導(dǎo)氣管內(nèi)流動(dòng)的是Imp左右的高壓空氣,成分中20%的氧氣。等離子噴嘴是嘴部變小的管狀結(jié)構(gòu),等離子噴嘴套裝在導(dǎo)氣管內(nèi),兩片互相靠近的銅片位于等離子噴嘴的嘴部,銅片為紫銅片,兩片紫銅片之間距離非常近,約為1_。在等離子噴嘴前方設(shè)置有線圈,線圈的中心線與等離子噴嘴的中心線重合。當(dāng)?shù)入x子噴出來(lái)的時(shí)候,線圈產(chǎn)生的反向磁場(chǎng)能夠令離子的徑向運(yùn)動(dòng)轉(zhuǎn)化為圓周運(yùn)動(dòng),提高了其與其它分子接觸的幾率,提高了其反應(yīng)活性。離子噴嘴的內(nèi)壁涂有具有納米級(jí)的Pt,能夠使得空氣中的氧氣成為三線態(tài)的氧分子。提高活性。導(dǎo)氣管內(nèi)設(shè)置有降低進(jìn)入所述等離子噴嘴氣體靜壓的節(jié)流機(jī)構(gòu)。可見(jiàn)光監(jiān)控機(jī)構(gòu)為電荷耦合元件。在等離子噴嘴的正對(duì)方向設(shè)置有L形的導(dǎo)水機(jī)構(gòu)。等離子處理機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)等離子強(qiáng)度以及磁感應(yīng)強(qiáng)度。在導(dǎo)氣管內(nèi)設(shè)置有能阻止二氧化碳進(jìn)入等離子噴嘴的半透膜。COD測(cè)量與監(jiān)控機(jī)構(gòu)實(shí)時(shí)測(cè)量進(jìn)水口和出水口的C0D,并自動(dòng)對(duì)進(jìn)水流量與進(jìn)氣流量進(jìn)行調(diào)節(jié)。水位控制機(jī)構(gòu)為超聲水位計(jì)。本實(shí)施例中等離子調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)為能調(diào)節(jié)兩銅片之間電壓的變壓器。可見(jiàn)光監(jiān)控機(jī)構(gòu)能夠通過(guò)等離子在水中的發(fā)光程度初步判斷是否已經(jīng)除盡了水中的C0D。本實(shí)施例能夠在出水口的COD測(cè)量與監(jiān)控機(jī)構(gòu)響應(yīng)之前進(jìn)行預(yù)測(cè),具有前饋?zhàn)饔谩?br>[0023]本實(shí)施例中的高溫等離子水處理設(shè)備使用的時(shí)候,首先水從反應(yīng)容器的進(jìn)水口進(jìn)入反應(yīng)容器內(nèi),然后進(jìn)行鐵碳處理,在鐵碳處理之后,和空氣接觸的等離子體噴射入水中,進(jìn)行等離子體除COD操作。設(shè)備控制裝置是一臺(tái)專用計(jì)算機(jī),設(shè)備控制裝置控制著等離子的發(fā)射電流,方向磁場(chǎng)的磁感應(yīng)強(qiáng)度,進(jìn)水速度以及液位高低等等,實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化運(yùn)行。
[0024]本說(shuō)明書中所描述的以上內(nèi)容僅僅是對(duì)本發(fā)明所作的舉例說(shuō)明。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代,只要不偏離本發(fā)明說(shuō)明書的內(nèi)容或者超越本權(quán)利要求書所定義的范圍,均應(yīng)屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.高溫等離子水處理設(shè)備,包括反應(yīng)容器; 鐵碳處理機(jī)構(gòu),所述鐵碳處理機(jī)構(gòu)位于所述反應(yīng)容器的底部; 等離子處理機(jī)構(gòu),所述等離子處理機(jī)構(gòu)與反應(yīng)容器連通; 等離子調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),所述等離子調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)固定于所述等離子處理機(jī)構(gòu); 可見(jiàn)光監(jiān)控機(jī)構(gòu),所述可見(jiàn)光監(jiān)控機(jī)構(gòu)與所述等離子處理機(jī)構(gòu)相對(duì); 水位控制機(jī)構(gòu),所述水位控制機(jī)構(gòu)位于所述反應(yīng)容器內(nèi); COD測(cè)量與監(jiān)控機(jī)構(gòu);以及 設(shè)備控制裝置;其特征在于:所述等離子處理機(jī)構(gòu)由一導(dǎo)氣管和位于所述導(dǎo)氣管內(nèi)的等離子噴嘴組成,所述等離子噴嘴上繞著為其供電的導(dǎo)線,所述等離子噴嘴包括兩片互相靠近的銅片,所述等離子噴嘴前方設(shè)置有線圈,所述線圈所產(chǎn)生的磁感應(yīng)強(qiáng)度方向與等離子噴出方向相反。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備,其特征在于:所述離子噴嘴的內(nèi)壁涂有具有納米級(jí)的Pt。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備,其特征在于:所述導(dǎo)氣管內(nèi)設(shè)置有降低進(jìn)入所述等離子噴嘴氣體靜壓的節(jié)流機(jī)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備,其特征在于:所述可見(jiàn)光監(jiān)控機(jī)構(gòu)為電荷親合元件。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備,其特征在于:在所述等離子噴嘴的正對(duì)方向設(shè)置有L形的導(dǎo)水機(jī)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備,其特征在于:所述等離子處理機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)等離子強(qiáng)度以及磁感應(yīng)強(qiáng)度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備,其特征在于:在所述導(dǎo)氣管內(nèi)設(shè)置有能阻止二氧化碳進(jìn)入等離子噴嘴的半透膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備,其特征在于:所述COD測(cè)量與監(jiān)控機(jī)構(gòu)實(shí)時(shí)測(cè)量進(jìn)水口和出水口的C0D,并自動(dòng)對(duì)進(jìn)水流量與進(jìn)氣流量進(jìn)行調(diào)節(jié)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備,其特征在于:所述水位控制機(jī)構(gòu)為超聲水位計(jì)。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種高溫等離子水處理的設(shè)備,它包括反應(yīng)容器;鐵碳處理機(jī)構(gòu),所述鐵碳處理機(jī)構(gòu)位于所述反應(yīng)容器的底部;等離子處理機(jī)構(gòu),所述等離子處理機(jī)構(gòu)與反應(yīng)容器連通;等離子調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),所述等離子調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)固定于所述等離子處理機(jī)構(gòu);可見(jiàn)光監(jiān)控機(jī)構(gòu),所述可見(jiàn)光監(jiān)控機(jī)構(gòu)與所述等離子處理機(jī)構(gòu)相對(duì);水位控制機(jī)構(gòu),所述水位控制機(jī)構(gòu)位于所述反應(yīng)容器內(nèi);COD測(cè)量與監(jiān)控機(jī)構(gòu);以及設(shè)備控制裝置;其特征在于:所述等離子處理機(jī)構(gòu)由一導(dǎo)氣管和位于所述導(dǎo)氣管內(nèi)的等離子噴嘴組成,所述等離子噴嘴上繞著為其供電的導(dǎo)線,所述等離子噴嘴包括兩片互相靠近的銅片,所述等離子噴嘴前方設(shè)置有線圈,所述線圈所產(chǎn)生的磁感應(yīng)強(qiáng)度方向與等離子噴出方向相反。
【IPC分類】C02F9-08
【公開(kāi)號(hào)】CN104876377
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510267331
【發(fā)明人】陳曉兵
【申請(qǐng)人】桐鄉(xiāng)市合誠(chéng)自動(dòng)化技術(shù)有限公司
【公開(kāi)日】2015年9月2日
【申請(qǐng)日】2015年5月25日
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