本發(fā)明涉及的富氫水的制作設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及富氫水生成機。

背景技術(shù)：

富氫水，顧名思義就是富含氫氣的水。英文是hydrogen rich water，日文是“水素水”。作為一種選擇性抗氧化物質(zhì)，氫氣對很多疾病具有治療作用，具有十分廣泛的應(yīng)用前景。

近年來，國內(nèi)市場上富氫水、水素水產(chǎn)品漸多，富氫水、水素水的杯具也有所見，其中采用電解制氫的技術(shù)占有相當(dāng)比例，包括相關(guān)的專利技術(shù)的涌現(xiàn)。在這些電解制氫杯具及其專利技術(shù)中，常見有水平布置的電極結(jié)構(gòu)，如中國專利:申請?zhí)?01510366113.8、申請?zhí)?01510126957.5、201520051049.X等；也有上下布置的電極結(jié)構(gòu)，如中國專利:申請?zhí)?01520786526.7等。這兩種布置的電極結(jié)構(gòu)其產(chǎn)品經(jīng)實驗或?qū)嵱茫园l(fā)現(xiàn)其不足現(xiàn)象。

現(xiàn)有技術(shù)中，富氫水生成機通常無法所制成的氫氣和氧氣均分散在水中，無法實現(xiàn)氫氣和氧氣的分離，如中國專利CN106115866A公開可一種分氣流的富氫水生成機及其使用方法。該富氫水生成機該水杯包括杯身、與杯身頂部可拆卸式連接的蓋體、與杯身底部密封固定連接的底座、安裝在杯身內(nèi)的電解裝置，底座內(nèi)安裝有供電模塊、PCB板；PCB板上設(shè)置有控制電路；底座的頂部設(shè)置有加熱環(huán)及溫度傳感器；蓋體包括儲水倉、設(shè)置在儲水倉底部的濾芯、與儲水倉頂部可拆卸式連接的瓶蓋；瓶蓋頂部設(shè)置有一泄氣閥；電解裝置包括一與底座底部連接的電極座、安裝在電極座頂部的集氣罩及從上至下安裝在電極座上的陰極板、第一隔離板、離子膜、第二隔離板、陽極片；陽極片下方的電極座上開設(shè)有通氣孔；供電模塊、溫度傳感器、加熱環(huán)、陰極板、陽極片分別與控制電路連接。然而，含有氧氣的水被飲用后對加速人體機體的老化，對人體產(chǎn)生一定的潛在危害。另外，沒法檢測水中氫氣濃度。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明實施例的目的在于提供一種富氫水生成機，該富氫水生成機能對所制作的富氫水中氫氣濃度并顯示。

一種富氫水生成機，包括支架、設(shè)置于所述支架的用以產(chǎn)生氫氣的氫氧分離膜組件、連通所述氫氧分離膜組件的用以儲水的杯身、設(shè)置于所述杯身內(nèi)的用以檢測氫氣濃度的氫氣傳感器，和用以顯示該氫氣濃度的顯示模塊。

進一步地，所述氫氧分離膜組件包括電解室，所述電解室內(nèi)設(shè)有陰極片、陽極片和設(shè)置于所述陰極片和陽極片之間的透水隔氣膜，所述陰極片、陽極片圍成一電解區(qū)，所述透水隔氣膜用以將所述電解區(qū)分隔成氫產(chǎn)生區(qū)和氧產(chǎn)生區(qū)。

進一步地，所述透水隔氣膜為自增濕膜或微濾膜。

進一步地，所述電解室包括底座和上蓋，所述底座和上蓋蓋合以形成一容置所述陰極片、透水隔氣膜和陽極片的容置腔。

進一步地，所述電解室還包括用以安裝陽極片并且設(shè)置于所述電解區(qū)外的陽極安裝蓋。

進一步地，所述電解室還包括用以安裝陰極片并且設(shè)置于所述電解區(qū)外的陰極安裝蓋。

進一步地，所述陰極安裝蓋和陽極安裝蓋通蓋合以容置陰極片、透水隔氣膜和陽極片。

進一步地，還包括廢水收集裝置，所述廢水收集裝置包括廢水容置體和用以蓋合所述廢水容置體的開口的廢水蓋。

進一步地，所述廢水收集裝置還包括廢水柱、設(shè)置于廢水蓋并具有內(nèi)腔的凸起柱、貫穿所述凸起柱的內(nèi)腔的廢水柱、套設(shè)于所述廢水柱外周的彈簧、套設(shè)于廢水柱的頂端外周的用以密封凸起柱內(nèi)腔頂端開口的密封帽，所述凸起柱的內(nèi)腔設(shè)有限位凸緣，所述限位凸緣用以在當(dāng)廢水柱被向頂端按壓時，使彈簧的一端抵接限位凸緣、另一端抵接廢水柱的底端并且使限位帽脫離蓋合凸起柱內(nèi)腔頂端開口。

進一步地，所述廢水收集裝置還包括設(shè)置在廢水蓋和廢水容置體的開口之間的防水圈。

本發(fā)明的富氫水生成機，在杯身中設(shè)有氫氣傳感器，這樣能夠?qū)崿F(xiàn)對杯身中所制作的富氫水的氫氣含量進行檢測并顯示。此外，在制氫時，陰極片產(chǎn)生的氫氣富集在氫產(chǎn)生區(qū)，陽極片產(chǎn)生的氧氣富集在氧產(chǎn)生區(qū)，透水隔氣膜阻隔了氫氣向氧產(chǎn)生區(qū)的擴散以及阻隔了氧氣向氫產(chǎn)生區(qū)的擴散，由此達到了氫氣和氧氣的分離。

為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，并配合所附附圖，作詳細說明如下。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例的技術(shù)方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，應(yīng)當(dāng)理解地是，以下附圖僅示出了本發(fā)明的成型裝置的某些實施例，因此不應(yīng)被看作是對范圍的限定，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關(guān)的附圖。

圖1示出了本發(fā)明實施例所提供的富氫水生成機的組裝示意圖。

圖2示出了本發(fā)明實施例所提供的富氫水生成機的爆炸示意圖。

圖3示出了本發(fā)明實施例所提供的氫氧分離膜組件的組裝示意圖。

圖4示出了本發(fā)明實施例所提供的氫氧分離膜組件的爆炸示意圖。

圖5示出了本發(fā)明實施例所提供的廢水收集裝置的組裝示意圖。

圖6示出了本發(fā)明實施例所提供的廢水收集裝置的爆炸示意圖。

圖7示出了本發(fā)明實施例所提供的限位柱的結(jié)構(gòu)圖。

主要元件符號說明：

100—氫氧分離膜組件；20—陰極片；30—透水隔氣膜；40—陽極片；50—底座；60—上蓋；70—陰極安裝蓋；80—陽極安裝蓋；200—富氫水生成機；210—支架；220—廢水收集裝置；221—廢水容置體；222—廢水蓋；223—廢水柱；224—凸起柱；2241—限位凸緣；225—彈簧；226—密封帽；227—防水圈；228—防滑墊；230—杯身；240—氫氣傳感器；250—顯示模塊。

具體實施方式

為了便于理解本發(fā)明，下面將參照相關(guān)附圖對成型裝置進行更全面的描述。附圖中給出了成型裝置的首選實施例。但是，成型裝置可以以許多不同的形式來實現(xiàn)，并不限于本文所描述的實施例。相反地，提供這些實施例的目的是使對成型裝置的公開內(nèi)容更加透徹全面。

在本公開的各種實施例中使用的術(shù)語僅用于描述特定實施例的目的并且并非意在限制本公開的各種實施例。如在此所使用，單數(shù)形式意在也包括復(fù)數(shù)形式，除非上下文清楚地另有指示。除非另有限定，否則在這里使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)術(shù)語和科學(xué)術(shù)語)具有與本公開的各種實施例所屬領(lǐng)域普通技術(shù)人員通常理解的含義相同的含義。所述術(shù)語(諸如在一般使用的詞典中限定的術(shù)語)將被解釋為具有與在相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域中的語境含義相同的含義并且將不被解釋為具有理想化的含義或過于正式的含義，除非在本公開的各種實施例中被清楚地限定。

在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。

在本說明書的描述中，參考術(shù)語“一個實施例”、“一些實施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點包含于本發(fā)明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術(shù)語的示意性表述不一定指的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點可以在任何的一個或多個實施例或示例中以合適的方式結(jié)合。

在本發(fā)明的描述中，除非另有規(guī)定和限定，需要說明的是，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是機械連接或電連接，也可以是兩個元件內(nèi)部的連通，可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語的具體含義。

在本公開的各種實施例中使用的表述(諸如“第一”、“第二”等)可修飾在各種實施例中的各種組成元件，不過可不限制相應(yīng)組成元件。例如，以上表述并不限制所述元件的順序和/或重要性。以上表述僅用于將一個元件與其它元件區(qū)別開的目的。例如，第一用戶裝置和第二用戶裝置指示不同用戶裝置，盡管二者都是用戶裝置。例如，在不脫離本公開的各種實施例的范圍的情況下，第一元件可被稱為第二元件，同樣地，第二元件也可被稱為第一元件。

應(yīng)注意到：如果描述將一個組成元件“連接”到另一組成元件，則可將第一組成元件直接連接到第二組成元件，并且可在第一組成元件和第二組成元件之間“連接”第三組成元件。相反地，當(dāng)將一個組成元件“直接連接”到另一組成元件時，可理解為在第一組成元件和第二組成元件之間不存在第三組成元件。

此外，本發(fā)明要素或組分前的不定冠詞“一種”和“一個”對要素或組分的數(shù)量要求(即出現(xiàn)次數(shù))無限制性。因此“一個”或“一種”應(yīng)被解讀為包括一個或至少一個，并且單數(shù)形式的要素或組分也包括復(fù)數(shù)形式，除非所述數(shù)量明顯旨指單數(shù)形式。

請參閱圖1至圖7。本發(fā)明實施例的富氫水生成機200，包括支架210和包括支架210、連通該氫氧分離膜組件100的用以儲水的杯身230、設(shè)置于杯身230內(nèi)的用以檢測氫氣濃度的氫氣傳感器240，和用以顯示該氫氣濃度的顯示模塊250。

上述實施例中，在杯身230中設(shè)有氫氣傳感器240，這樣能夠?qū)崿F(xiàn)對杯身230中所制作的富氫水的氫氣含量進行檢測并顯示。

容易理解的是，氫氧分離膜組件100與杯身230的連通是指杯身的開口連接氫氧分離膜組件100的用以產(chǎn)生氫氣的部件(后文即述的陰極片20)。杯身230所儲存的水用作制氫，氫氧分離膜組件100所產(chǎn)生的氫氣泡釋放在該杯身230中。

顯示模塊250可以為顯示屏。容易理解的是，可設(shè)置一控制單元(例如MCU或單片機等)。MCU電連接顯示模塊250和氫氣傳感器240，用以獲取氫氣傳感器240所采集的氫氣濃度值，并將該氫氣濃度值傳送給顯示模塊250以顯示。

上述氫氧分離膜組件100包括電解室，電解室內(nèi)設(shè)有陰極片20、陽極片40和設(shè)置于陰極片20和陽極片40之間的透水隔氣膜30，陰極片20、陽極片40圍成一電解區(qū)，透水隔氣膜30用以將電解區(qū)分隔成氫產(chǎn)生區(qū)和氧產(chǎn)生區(qū)。

在制氫時，陰極片20產(chǎn)生的氫氣富集在氫產(chǎn)生區(qū)，陽極片40產(chǎn)生的氧氣富集在氧產(chǎn)生區(qū)，透水隔氣膜30阻隔了氫氣向氧產(chǎn)生區(qū)的擴散以及阻隔了氧氣向氫產(chǎn)生區(qū)的擴散，由此達到了氫氣和氧氣的分離。

術(shù)語“電解區(qū)”是指具有電流通過的區(qū)域。術(shù)語“電解室”是指實施電解的物件。陰極片20、陽極片40和透水隔氣膜30被放置于電解室內(nèi)。

上述透水隔氣膜30是指具有透水隔氣功能的膜。需要注意的是，此處隔氣是指隔離以氣泡形式存在的氣體，而非以分子狀態(tài)存在。電解水所產(chǎn)生的氫氣的機理是，水中的氫離子在陰極片20上得到電子而發(fā)生還原反應(yīng)產(chǎn)生氣相，由于氣相與水相之間的界面差，所以生產(chǎn)的氫氣以氫氣泡分散在水中。以陰極的電流密度為2～6mA/cm²、電解在常壓下和電解水為中性為例，所產(chǎn)生的氫氣泡的尺寸呈高斯隨機分布在20～80微米范圍內(nèi)。陽極片40產(chǎn)生的氧氣也以氣泡的形式存在，以陽極電流密度為2～6mA/cm2并且電解在常壓下為例，所產(chǎn)生的氣泡分布在40～100微米范圍內(nèi)。因此，透水隔氣膜30的實現(xiàn)形式可以是具有截留尺寸小于氫氣泡和氧氣泡大小的任何形式的膜，即具有截留尺寸(或稱為濾孔)在10微米以下。

具體而言，作為其中一種實施方式，透水隔氣膜30可以為截留尺寸(或稱為濾孔)在10微米以下的濾膜。例如，微濾膜。微濾膜是指濾孔徑在0.1～1微米之間的過濾膜。微濾膜可以使用無機膜和有機高分子膜。無機膜可以為陶瓷膜和金屬膜。有機高分子膜可以為天然高分子膜和合成高分子膜，例如聚偏氟乙烯(PVDF)、聚砜(PSF)、聚丙烯腈(PAN)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)等。根據(jù)膜的形式又分為平板膜、管式膜、卷式膜和中空纖維膜；根據(jù)制膜原理，高分子膜的制備方法分為溶出法(干-濕法)、拉伸成孔法、相轉(zhuǎn)化法、熱致相法，浸涂法、輻照法、表面化學(xué)改性法、核徑跡法、動力形成法等，無機膜的制備方法主要有溶膠—凝膠法、燒結(jié)法、化學(xué)沉淀法等。溶劑理解的是，此處采用的是具有絕緣性的微濾膜，較佳是有機高分子微濾膜。當(dāng)然，濾膜還可以使用超濾膜等。

作為另外的實施方式，透水隔氣膜30為自增濕膜。自增濕膜是能允許液體水透過而其它介質(zhì)無法通過的膜。自增濕膜可使用親水物質(zhì)(例如二氧化鈦、二氧化硅、三氧化二鋁粒子摻雜修飾的nafion膜)。

陰極片20、透水隔氣膜30和陽極片40三者可以不抵接，也可以是三者以抵接的方式，例如陰極片20、透水隔氣膜30和陽極片40依次疊加設(shè)置。

這里，“疊加設(shè)置”可以理解的是指多個具有層結(jié)構(gòu)的物件(例如薄膜等)采用一者貼合于另一者表面的堆疊方式。以A、B、C、D依次疊加設(shè)置為例，是指A的一個表面設(shè)置B、B的表面設(shè)置C、C的表面設(shè)置D，即按照某一方向(例如從上至下)，A、B、C、D依次排列。

陰極片20和陽極片40可以鈦片。為了增強陰極片20和陽極片40的活性，可以在表面涂覆一些氧化物，如中國專利CN104562078A所述，具體為：涂層至少包含底層涂層和表層涂層，所述底層涂層包含鈦氧化物、銥氧化物和釕氧化物，所述表層涂層包含銥氧化物、釕氧化物、鈦氧化物、以及鈀、鉑中的一種或兩種元素的金屬或氧化物。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦和鈀的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦和鉑的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中釕、銥和鈦的摩爾百分比為：釕：銥：鈦＝30～50％：10～25％：30～45％；表層涂層中釕、銥、鈦、鈀和鉑的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕、銥、鈦和鋯的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦和鈀的摩爾百分比為：釕：銥：鈦：鈀＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕：銥：鈦和鋯的摩爾比百分為：釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦和鉑的摩爾百分比為，釕：銥：鈦：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％。底層涂層中還包括鋯氧化物，底層涂層中釕：銥：鈦和鋯的摩爾百分比為釕：銥：鈦：鋯＝30～50％：10～25％：30～45％：2～10％；表層涂層中釕、銥、鈦、鈀和鉑的摩爾百分比為，釕：銥：鈦：鈀：鉑＝30～50％：10～25％：30～45％：2.5～20％：2.5～20％。底層涂層的厚度為5～15微米，表層涂層的厚度為1～5微米。

陽極片40和陰極片20可設(shè)置多孔，例如可設(shè)置蜂窩結(jié)構(gòu)，以保證與水接觸的充分性。

上述電解室可以采用任何具有一容置空間的物件。例如，電解室可包括底座50和上蓋60，底座50和上蓋60蓋合以形成一容置陰極片20、透水隔氣膜30和陽極片40的容置腔。底座50和上蓋60蓋合的方式可以是通過一體化連接或不可拆卸的方式連接。

除此也可以采用可拆卸方式，以方便對陰極片20、透水隔氣膜30和陽極片40的更換。可拆卸的方式，可以是緊固件、滑接件、卡接件。此處，緊固件可列舉出法蘭件、螺接件等。

可舉出上述卡接件的一種實施結(jié)構(gòu)，具體為：卡接件包括設(shè)置于第一安裝件的卡扣和設(shè)置于第二安裝件的卡孔，該卡扣與卡孔相配合?？郯ㄔO(shè)置于第一安裝件的連接部以及位于連接部一端的彈性的卡扣部，卡孔周圍環(huán)繞有彈性的卡持部?？鄄繛橐磺蝮w，卡扣為中空結(jié)構(gòu)，形成有自連接部延伸至卡扣部的育孔，從而允許該第一卡扣件受到擠壓時發(fā)生彈性形變?？劭膳c第一安裝件一體成型?？ǔ植啃纬捎卸鄠€缺口，缺口將卡持部分隔成相互獨立的卡持，從而使卡持部在受到外力作用時產(chǎn)生彈性形變。卡扣孔的直徑小于卡扣部的球徑?？鄄坎迦肟讜r，卡持塊受到卡扣部的推力發(fā)生彈性變形向外擴張，使卡扣部穿過卡扣孔?？鄄看┻^卡孔，卡持塊及卡扣部均恢復(fù)原狀，卡扣部被卡持塊阻擋于卡孔外以將第一安裝件與第二安裝件固定。卡持部端部形成有倒角，以便拆卸第一殼體與第二安裝件時使卡扣部在外力作用下易于回至卡孔內(nèi)。

上述卡接件還可列舉第二種實施結(jié)構(gòu)(圖中未示出)。具體為：卡接件可包括卡舌和卡扣?？ㄉ喟ǖ谝豢ú?、第二卡槽和位于第一卡槽和第二卡槽之間的鉤形的鉤體，該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的結(jié)構(gòu)的槽?？郯ǖ谝徊鍡l、第二插條和位于第一插條、第二插條之間的鉤槽。該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的槽。該第一卡槽、第二卡槽、鉤槽均為彈性的槽。當(dāng)要實現(xiàn)卡舌同卡扣的卡緊時，該第一插條插入第一卡槽內(nèi)，第二插條插入第二卡槽內(nèi)，鉤體插入鉤槽，第一卡槽、第二卡槽、鉤槽的彈性保證第一插條、第二插條和鉤體的緊密接觸而達到了卡緊效果。

上述卡接件還可列舉第三種實施結(jié)構(gòu)(圖中未示出)。具體為：卡接件可包括卡座和卡舌，該卡座和卡舌相配合。于此，卡座和卡舌的形狀不做特別的限定，其結(jié)構(gòu)的實施方式有很多。其中第一種實施方式為應(yīng)用于背包帶的卡扣。具體為，卡座包括一卡槽。卡舌可為E字型，也就是說，該結(jié)構(gòu)的卡舌包括第一插條、第三插條，和位于第一插條、第三插條之間的第二插條，第一插條和第三插條為彈性結(jié)構(gòu)，在外力作用下二者可向第二插條靠攏，撤銷外力后，二者回復(fù)到原來的位置。第二插條可為彈性結(jié)構(gòu)，也可為非彈性。與插舌結(jié)構(gòu)對應(yīng)地，卡槽的前部要寬于后部。此處，“前”指沿插舌進入方向?？ú矍安康膶挾纫孕∮诓迳嗟膶挾?，卡槽的后部寬度要明顯地小于插舌的寬度，如此可使得卡舌插入卡槽的過程中，當(dāng)進入至卡槽的前部時，第一插條和第三插條被壓縮向第二插條靠攏，當(dāng)進入至卡槽的后部時，由于卡槽的厚度為開放體，第一插條和第三插條自動向外彈開以從卡座內(nèi)外露出?？ú鄣漠?dāng)要實現(xiàn)卡舌和卡座的卡扣時，將卡舌插入卡槽中，這時，第一插條和第三插條外露于卡座；當(dāng)要實現(xiàn)卡舌和卡座的拆卸時，只需捏合第一插條和第三插條以使得卡舌拔出于卡槽。

滑接件可包括設(shè)置在滑舌和與該滑舌配合以供滑舌滑動的滑軌?；壍男问娇闪信e出二種，第一種是兩條平行的凸條，凸條之間形成供滑舌卡入的滑動腔。為了使得滑舌更好地卡入滑動腔內(nèi)，滑動腔為“凸”字形，于此對應(yīng)地，滑舌也為該“凸”字形。滑軌的第二種形式為開設(shè)在底座50內(nèi)部的滑孔。同理地，為了使得滑舌更好地卡入滑孔內(nèi)，滑孔為“凸”字形，于此對應(yīng)地，滑舌也為該“凸”字形?；嗪突壷兄辽僖徽呖蔀閺椥越Y(jié)構(gòu)。即，滑舌為可發(fā)生彈性形變的材質(zhì)制成，諸如以丁腈橡膠、三元乙丙橡膠等為代表的高彈性模量的橡膠材質(zhì)，滑軌為剛性的金屬材質(zhì)。或者地，滑軌為可發(fā)生彈性形變的材質(zhì)制成，滑舌為剛性的金屬材質(zhì)?；蛘叩?，二者均為可發(fā)生彈性形變的材質(zhì)制成。

磁吸力扣件。此處顧名思義地磁吸力扣件是指通過磁力的吸引來促使上蓋60和底座50磁吸力扣件的一種實施結(jié)構(gòu)為，其包括設(shè)置于上蓋60的第一磁鐵和設(shè)置于底座50的第二磁鐵。第一磁鐵和第二磁鐵可分別以粘接的形式在上蓋60和底座50上設(shè)置。在該種實施結(jié)構(gòu)中，第一磁鐵和第二磁鐵之間的吸引力會將上蓋60貼合在底座50上，當(dāng)然在一磁鐵和第二磁鐵之間的距離在磁力作用的有效范圍內(nèi)。

磁吸力扣件的又一種實施結(jié)構(gòu)為，其包括設(shè)置于上蓋60的一磁鐵和設(shè)置于底座50的鐵件(例如鐵片或鐵塊)。當(dāng)然，鐵件和磁鐵的設(shè)置位置可互換，也就是說，磁鐵可設(shè)置在底座50上，鐵件可設(shè)置在上蓋60上。

磁吸力扣件的又一種實施結(jié)構(gòu)為，其包括設(shè)置于上蓋60的一磁鐵和設(shè)置于底座50的電磁件。電磁件指通過電流可產(chǎn)生磁效應(yīng)的裝置。電磁件還可按照公用的結(jié)構(gòu)實現(xiàn)磁性變化(即N極和S極)來產(chǎn)生對磁鐵的吸力和排力，以產(chǎn)生驅(qū)動上蓋60與底座50的連接。

至于底座50和上蓋60的形式，可以采用圓形蓋和方形蓋等。

陰極片20、透水隔氣膜30和陽極片40可以直接容置于電解室中。當(dāng)然還可通過設(shè)置安裝件將三者疊加設(shè)置。具體地，電解室還包括用以安裝陽極片40并且設(shè)置于電解區(qū)外的陽極安裝蓋80。陽極片40可以設(shè)置在陽極安裝蓋80的表面。至于安裝的方式可以通過緊固件。陽極安裝蓋80的主表面面積可大于陽極片40。

電解室還包括用以安裝陰極片20并且設(shè)置于所述電解區(qū)外的陰極安裝蓋70。陰極片20可以設(shè)置在陰極安裝蓋70的表面。至于安裝的方式可以通過緊固件。陰極安裝蓋70的主表面面積可大于陰極片20。

陰極安裝蓋70和陽極安裝蓋80通可以蓋合以容置陰極片20、透水隔氣膜30和陽極片40。至于蓋合的方式可以相同于底座50和上蓋60，于此不再詳述。

陰極安裝蓋70和陰極之間可以設(shè)置墊片。陽極安裝蓋80和陽極之間可以設(shè)置墊片。陰極安裝蓋70和上蓋60之間可以設(shè)置墊片。這些墊片的數(shù)量可以為一個或多個。墊片可以為圈狀等。

上述，氫氧分離膜組件設(shè)置在支架的可拆卸方式可以如底座50和上蓋60的可拆卸方式。

為了實現(xiàn)對氫氧分離膜組件所產(chǎn)生的水的收納，可設(shè)置廢水收集裝置220。廢水收集裝置220可包括廢水容置體221和用以蓋合該廢水容置體221的開口的廢水蓋222。

這里，廢水容置體221可以為圓筒狀，其內(nèi)部具有空腔和圍成該空腔的外壁，空腔用以收集廢水?？梢岳斫獾氖?，此處廢水是氫氧分離膜組件所排出的氧氣所攜帶的水汽，前文已述，在制氫的過程中被分離出的氧氣以氣泡的形式排出，氧氣泡在從水中逸出的過程中會攜帶水汽。廢水容置體221的開口可以設(shè)置在廢水容置體221的底部中央位置。廢水容置體221的開口可以凸起結(jié)構(gòu)的方式設(shè)置在廢水容置體221的外壁，凸起結(jié)構(gòu)的外周可以設(shè)置螺紋，以使廢水蓋222螺接于廢水容置體221。

為了實現(xiàn)對氧氣排出的開或關(guān)，廢水收集裝置220還包括廢水柱223、設(shè)置于廢水蓋222并具有內(nèi)腔的凸起柱224、貫穿凸起柱224的內(nèi)腔的廢水柱223、套設(shè)于廢水柱223外周的彈簧225、套設(shè)于廢水柱223的頂端外周的用以密封凸起柱224內(nèi)腔頂端開口的密封帽226，凸起柱224的內(nèi)腔設(shè)有限位凸緣2241，限位凸緣2241用以在當(dāng)廢水柱223被向頂端按壓時，使彈簧225的一端抵接限位凸緣2241、另一端抵接廢水柱223的底端并且使限位帽脫離蓋合凸起柱224內(nèi)腔頂端開口。

這樣，當(dāng)富氫水生成機200被放置時(例如放置在桌面時)，廢水柱223的底端被桌面向頂端的方向按壓直至彈簧225處于壓縮狀態(tài)，與此同時，彈簧225的一端抵接限位凸緣2241，另一端抵接廢水柱223的底端，密封帽226脫離蓋合凸起柱224內(nèi)腔頂端開口的位置，廢水容置體221內(nèi)的氧氣可以由廢水柱223和凸起柱224之間的間隙排出。當(dāng)富氫水生成機200被拿起時，富廢水柱223的底端的按壓作用被撤去，在彈簧225大的壓縮彈力和廢水柱223自身的重力作用下，廢水柱223向底端方向移動直至密封帽226蓋合凸起柱224內(nèi)腔頂端開口，氧氣無法進入凸起柱224的內(nèi)腔，從而使得氧氣無法排出。

需要說明的是，廢水柱223的底端始終被限位在凸起柱224的內(nèi)腔的外部，廢水柱223的頂端可自由伸入或伸出凸起柱224內(nèi)腔。此處，廢水柱223的底端始終被限位在凸起柱224的內(nèi)腔的外部的方式可以按照容易想象的任何公知的形式，如廢水柱223的底端的帽狀體，帽狀體的寬度大于凸起柱224的內(nèi)腔。

廢水柱223的頂端可設(shè)有環(huán)形凹槽，以實現(xiàn)密封帽226的套設(shè)。密封帽226可為彈性圈。

上述限位凸緣2241可固設(shè)在凸起柱224的內(nèi)表面。作為一種較為優(yōu)選的實施方式，限位凸緣2241將凸起柱224的內(nèi)腔分隔成第一子腔和第二子腔。第一子腔容置彈簧225，第二子腔用以供密封帽226處于蓋合凸起柱224內(nèi)腔頂端開口的位置。

廢水收集裝置220還包括設(shè)置在廢水蓋222和廢水容置體221的開口之間的防水圈227。這樣避免廢水容置體221的水從廢水容置體221的開口的間隙中漏出。

還可在廢水蓋222的外表面設(shè)置防滑墊228，以使得富氫水生成機200放置時不容易滑動。需要說明的是，防滑墊228的厚度不能過高，否則當(dāng)富氫水生成機200放置時，廢水柱223的底端便不會被按壓。

富氫水生成機200還可以包括設(shè)置在支架210的電路板和電源等。電源用以為氫氧分離膜組件供電。電路板實現(xiàn)電源和氫氧分離膜組件的電連接，電路板可設(shè)有用以實現(xiàn)將電源的輸入電流進行恒流的恒流電路，以及用以實現(xiàn)將電源的輸入電壓進行恒壓的恒壓電路。恒流電路和恒壓電路采用公知的技術(shù)。

上述未述及之處，適用于現(xiàn)有技術(shù)。

盡管以上較多使用了表示結(jié)構(gòu)的術(shù)語，例如“透水隔氣膜”、“氫產(chǎn)生區(qū)”、“氧產(chǎn)生區(qū)”等，但并不排除使用其它術(shù)語的可能性。使用這些術(shù)語僅僅是為了更方便地描述和解釋本發(fā)明的本質(zhì)；把它們解釋成任何一種附加的限制都是與本發(fā)明精神相違背的。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護范圍應(yīng)所述以權(quán)利要求的保護范圍為準(zhǔn)。