專(zhuān)利名稱(chēng):鐵炭微電解反應(yīng)池的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及一種污水處理設(shè)備,特別是一種利用鐵炭微電解反應(yīng)處理污水的設(shè)備。
背景技術(shù):
鐵炭微電解反應(yīng)池是目前污水處理中常采用的凈化裝置,其主要原理是利用鐵、炭 在水中具有不同化學(xué)電位,微觀上構(gòu)成了無(wú)數(shù)個(gè)原電池所形成的微電解反應(yīng)來(lái)去除污水中
的部分污染物;污水通過(guò)鐵炭微電解反應(yīng)裝置中的鐵炭填料層進(jìn)行微電解反應(yīng)后排出微電解 反應(yīng)池。在鐵炭微電解反應(yīng)池的應(yīng)用中,日常的鐵、炭填料維護(hù)非常重要,如補(bǔ)充消耗的 鐵填料、清理板結(jié)和鈍化的鐵填料等,均需要通過(guò)日常維護(hù)去解決,才能保證鐵炭微電解 反應(yīng)池運(yùn)行的高效和穩(wěn)定。
按常規(guī)水處理工藝池的設(shè)計(jì)概念,目前采用的鐵炭微電解反應(yīng)池一般設(shè)計(jì)成3-5米的深 池結(jié)構(gòu)或地上塔式結(jié)構(gòu)。這樣大型的池結(jié)構(gòu)使得日常維護(hù)工作變得非常困難——人工持有 工具很難對(duì)填料進(jìn)行徹底的均混或攪動(dòng)?,F(xiàn)有一些技術(shù)方案在填料層內(nèi)設(shè)置了機(jī)械攪動(dòng)裝 置,目的是通過(guò)機(jī)械攪動(dòng)解決不易人工維護(hù)的問(wèn)題,但這種方案需要增加較大的能耗,同 時(shí)攪拌不徹底的問(wèn)題依然存在。因此,對(duì)于鐵炭微電解反應(yīng)池的維護(hù)還是需要尋求科學(xué)、 合理的人工維護(hù)方法。
實(shí)用新型內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有鐵炭微電解反應(yīng)池不易實(shí)現(xiàn)人工維護(hù)的問(wèn)題,本實(shí)用新型提供了一種新 型的鐵炭微電解反應(yīng)池結(jié)構(gòu),依據(jù)人體工程原理確定電解池的尺寸,便于實(shí)現(xiàn)人對(duì)鐵炭微 電解反應(yīng)池的人工維護(hù)。
本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下
鐵炭微電解反應(yīng)池包括鐵炭填料層,鐵炭填料層為具有一定厚度的填料層,所述鐵炭 填料層的厚度方向與鐵炭微電解反應(yīng)池深度方向平行,鐵炭填料層將鐵炭微電解反應(yīng)池在
深度方向上分成上部、下部?jī)蓚€(gè)空間;所述微電解池的深度為0.7-1.3米;微電解池注滿(mǎn)水 后水面任意一點(diǎn)到微電解池邊緣的最小距離小于等于1米。 微電解池為長(zhǎng)方體池體,池體的寬度為1至2米。
所述鐵炭微電解反應(yīng)池包括進(jìn)水口、出水口和排污口,進(jìn)水口設(shè)置于鐵炭微電解反應(yīng) 池側(cè)壁上,且位于所述下部空間;排污口設(shè)置于鐵炭微電解反應(yīng)池的底部或鐵炭微電解反 應(yīng)池側(cè)壁上,且位于所述下部空間;出水口設(shè)置于鐵炭微電解反應(yīng)池側(cè)壁上,且位于所述 上部空間。
所述鐵炭微電解反應(yīng)池還包括進(jìn)氣口,進(jìn)氣口設(shè)置于鐵炭微電解反應(yīng)池側(cè)壁上,且位 于所述下部空間。
本實(shí)用新型的技術(shù)效果通過(guò)將鐵炭微電解池的體積縮小,具體的是縮小池體的深度和池體水面的廣度,使得 維護(hù)人員站在微電解池的邊緣即可對(duì)鐵炭微電解池體內(nèi)填料層的任何部位進(jìn)行維護(hù),實(shí)現(xiàn) 了人工對(duì)鐵炭微電解池的徹底維護(hù)。減小鐵炭微電解池的體積并不影響微電解池單位時(shí)間 內(nèi)處理污水的量,因?yàn)楝F(xiàn)有的大池體、深池式微電解池由于維護(hù)不便而運(yùn)行效率較低,而 本實(shí)用新型的微電解反應(yīng)裝置由于維護(hù)方便而可始終保持高效,明顯提高了污水處理能力, 污水流經(jīng)填料層后可以快速實(shí)現(xiàn)凈化隨即排出微電解池,因此本實(shí)用新型的體積小的微電 解池也可以達(dá)到同樣的污水處理速度。
長(zhǎng)方體狀電解池占具有地面積小,施工簡(jiǎn)單的優(yōu)點(diǎn)。
圖1為長(zhǎng)方體鐵炭電解池寬度方向剖面圖。 圖中標(biāo)記說(shuō)明如下
1、側(cè)壁;2、底部;3、進(jìn)水口; 4、排污口; 5、填料層;6、排水口; 7、進(jìn)氣口 。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
圖1顯示了本實(shí)用新型的長(zhǎng)方體裝鐵炭微電解反應(yīng)池的結(jié)構(gòu)。在本實(shí)施例中,長(zhǎng)方體
狀鐵炭微電解反應(yīng)池的尺寸為長(zhǎng)度不限,深度為0.7-1.3米,優(yōu)選深度為l米,寬度為1-2
米,優(yōu)選寬度為L(zhǎng)5米。長(zhǎng)方體狀鐵炭微電解反應(yīng)池通過(guò)如下手段獲得在地面上以磚混、
鋼混或其他薄壁硬質(zhì)材料加工成型,并對(duì)池內(nèi)側(cè)做防腐處理。鐵炭微電解反應(yīng)池側(cè)壁1為
長(zhǎng)方體長(zhǎng)邊所在的側(cè)壁,進(jìn)水口3、進(jìn)氣口7、排污口4和排水口6分別設(shè)置在長(zhǎng)方體短邊 所在的側(cè)壁上。進(jìn)水口 3、進(jìn)氣口 7、排污口 4距微電解池的底部的距離分別為5厘米和10 厘米。排污口4也可以直接設(shè)置在鐵炭微電解反應(yīng)池的底部2上,便于提高排污效果。在 鐵炭微電解反應(yīng)池的底部2上方20厘米高處設(shè)置平行于底部2的格柵狀或布滿(mǎn)小孔的承重 隔板,承重隔板將鐵炭微電解反應(yīng)池底部2完全遮蓋,在承重隔板上堆放配好的鐵、炭填 料形成填料層5,填料層5的厚度為30厘米。排水口6距離底部2的距離為95厘米。
本實(shí)用新型的工作過(guò)程是這樣的從進(jìn)水口 3引入需要處理的污水并同時(shí)通過(guò)進(jìn)氣口 7 供氧曝氣加速鐵、炭的電解反應(yīng),不斷涌入的污水在壓力作用下通過(guò)填料層5發(fā)生微電解 反應(yīng)得到凈化,凈化后的水在持續(xù)壓力作用下上升并注入到排水口 6。
鐵炭微電解反應(yīng)池的維護(hù)工作主要是對(duì)填料層5中的鐵、炭填料進(jìn)行攪拌和置換,由 于本實(shí)用新型的鐵炭微電解反應(yīng)池的尺寸設(shè)置,方便維護(hù)人員持工具進(jìn)行維護(hù)操作。維護(hù) 人員在側(cè)壁1的上方位置持有工具可以維護(hù)距離側(cè)壁1大約75厘米距離內(nèi)的填料層5,這 樣維護(hù)人員站在兩邊就可以對(duì)填料層5的任意位置進(jìn)行維護(hù),實(shí)現(xiàn)了本實(shí)用新型的目的。
本實(shí)用新型的鐵炭微電解反應(yīng)池的形狀并不限于長(zhǎng)方體,只要將池體的尺寸設(shè)計(jì)成適 于維護(hù)人員在池體邊緣進(jìn)行人工維護(hù),任意形狀的鐵炭微電解反應(yīng)池池體均可以實(shí)施這一 方案。
權(quán)利要求1、鐵炭微電解反應(yīng)池包括鐵炭填料層,鐵炭填料層為具有一定厚度的填料層,所述鐵炭填料層的厚度方向與鐵炭微電解反應(yīng)池深度方向平行,鐵炭填料層將鐵炭微電解反應(yīng)池在深度方向上分成上部、下部?jī)蓚€(gè)空間;其特征在于所述微電解池的深度為0.7-1.3米;微電解池注滿(mǎn)水后水面任意一點(diǎn)到微電解池邊緣的最小距離小于等于1米。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述鐵炭微電解反應(yīng)池,其特征在于微電解池為長(zhǎng)方體池體,池體 的寬度為1至2米。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述鐵炭微電解反應(yīng)池,其特征在于包括進(jìn)水口、出水口和排 污口,進(jìn)水口設(shè)置于鐵炭微電解反應(yīng)池側(cè)壁上,且位于所述下部空間;排污口設(shè)置于鐵炭 微電解反應(yīng)池的底部或鐵炭微電解反應(yīng)池側(cè)壁上,且位于所述下部空間;出水口設(shè)置于鐵 炭微電解反應(yīng)池側(cè)壁上,且位于所述上部空間。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述鐵炭微電解反應(yīng)池,其特征在于還包括進(jìn)氣口,進(jìn)氣口設(shè)置于 鐵炭微電解反應(yīng)池側(cè)壁上,且位于所述下部空間。
專(zhuān)利摘要為了解決現(xiàn)有鐵炭微電解反應(yīng)池不易維護(hù)的問(wèn)題,本實(shí)用新型提供了一種新型的鐵炭微電解反應(yīng)池。鐵炭微電解反應(yīng)池,包括進(jìn)水口、進(jìn)氣口、出水口和排污口,進(jìn)水、進(jìn)氣口設(shè)置于接近于微電解池底部的微電解池側(cè)壁上,排污口設(shè)置于微電解池的底部或接近于所述底部的微電解池側(cè)壁上,還包括鐵炭填料層,所述鐵炭填料層為具有一定厚度的物料層,鐵炭填料層的厚度方向與微電解池深度方向平行,且設(shè)置于所述進(jìn)水口和排污口的上方,微電解池的深度為0.7-1.3米;微電解池注滿(mǎn)水后水面任意一點(diǎn)到微電解池邊緣的最小距離小于等于1米。本實(shí)用新型可以應(yīng)用于污水處理領(lǐng)域。
文檔編號(hào)C02F1/461GK201296690SQ20082012267
公開(kāi)日2009年8月26日 申請(qǐng)日期2008年9月25日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月25日
發(fā)明者然 田 申請(qǐng)人:然 田