專利名稱：含六價(jià)鉻溶液的電化學(xué)處理的制作方法
含六價(jià)鉻溶液的電化學(xué)處理
發(fā)明的描述
背景技術(shù)：
六價(jià)鉻，以鉻酸及其衍生物鹽的形式，具有長期的工業(yè)應(yīng)用記錄， 例如在制革、水處理和電工業(yè)中，特征在于增加了與高毒性有關(guān)的困 難。
例如，已經(jīng)以數(shù)十ppm的水平將鉻酸鈉作為防腐劑應(yīng)用于具有塔 循環(huán)的工業(yè)工廠的冷卻水中這樣的循環(huán)特征在于兩種釋放，前者由液 體清洗(liquid purge)組成，通常對其進(jìn)行影響，目的是將在循環(huán) 水中的鹽分維持恒定的水平，以及后者由在塔氣流中的微滴阻擋 (drag)組成。盡管例如通過加入化學(xué)還原刑然后通過沉淀的三價(jià)鉻 的過濾而使得前者無害，但后者卻避開任何合理處理的可能性，因此 構(gòu)成了對周圍環(huán)境的重污染源。由于這個(gè)原因，在塔冷卻循環(huán)的情況 下鉻酸鹽被長期棄置不用，目前它們的應(yīng)用限于密封冷卻系統(tǒng)，該密 封冷卻系統(tǒng)的特征為任選的只有液體清洗的存在。
相反，在電工業(yè)中以鉻酐和硫酸溶液的形式對六價(jià)鉻的使用，尤 其是對于用于機(jī)械應(yīng)用的硬鉻鍍敷，仍然在實(shí)施，且目前看上去并沒 有任何有力的竟?fàn)幷摺ｅ冨兎蠊S釋放廢物，其主要由用于成品件的 沖洗水和廢浴組成，通常包含硫酸和鉻酸鹽，后面的術(shù)語指得是根據(jù) pH建立的復(fù)雜聚合均衡而產(chǎn)生的離子族。這些溶液也含有三價(jià)鉻離 子，其實(shí)際上是鉻金屬沉積反應(yīng)的副產(chǎn)物，和其它金屬離子，尤其是 由要鍍敷的產(chǎn)品所釋放出的鐵離子。三價(jià)鉻的存在消極地影響鉻鍍敷 效率和最終產(chǎn)物的質(zhì)量，因此，允許其累積達(dá)到某一嚴(yán)格的水平，在
該水平以外需要精確地進(jìn)行溶液清洗。必須對這些溶液進(jìn)行處理，以 使其符合直接的或者協(xié)會的污水排放的規(guī)定，根據(jù)其，所允許的六價(jià) 鉻的濃度為每百萬份之?dāng)?shù)份的部分的數(shù)量級(ppm)，典型地是0.05-0. 25ppm。釆用的方法在大多數(shù)情況下為化學(xué)類型且提供還原劑的添 加，如亞硫酸鈉或亞硫酸氫鈉、硫酸亞鐵、分散的金屬鐵顆粒，結(jié)合 具有對沉淀的氫氧化物進(jìn)行最后過濾的酸性中和，和在引用的還原 劑中，亞硫酸鈉(或焦亞硫酸氫鈉)是最常見的。亞硫酸鈉，Na2S03， 根據(jù)以下反應(yīng)，能夠?qū)⒘鶅r(jià)鉻(鉻酸鹽)的濃度降低至低于排放規(guī)定 所提出的限定
2H2Cr04 + 3Na2S03 + 3H2S04 ■> Cr2(S04)3 + 3Na2S04 + 5H20 該反應(yīng)表明亞硫酸鈉的使用決定總鹽濃度的顯著增加，這樣使其
在最終處置中或在可能的通過硫酸鉻結(jié)晶的三價(jià)鉻的回收中造成明顯
的困難。
在技術(shù)文獻(xiàn)中，也公開了幾種電化學(xué)方法有兩類是非常突出的， 其特征分別是在電解槽陰極上六價(jià)鉻的直接還原和利用在槽本身中所 產(chǎn)生的還原劑的間接還原。前類方法的一些實(shí)施方案公開在EP 074936、 US3679557、 US4256557中，其特征在于總反應(yīng)
2H2Cr04 + 3H2S04 — Cr2 (S04) 3 + 3/202 + 5H20
在所有的實(shí)施方案中，陰極總是具有高的表面積，例如由導(dǎo)電的 炭顆粒床組成，要處理的溶液被輸送穿過該炭顆粒床。該復(fù)雜的電極 結(jié)構(gòu)的目的為即使在低的最終六價(jià)鉻濃度下也獲得高的質(zhì)量輸送能 力，以至于將槽大小保持在合理的限度內(nèi)。陽極可以具有和陰極相同 的結(jié)構(gòu)炭，不管如何受到氧陽極析出所導(dǎo)致的腐蝕，無論如何都能 防止鉻由三價(jià)再氧化成六價(jià)。由于制造由顆粒床組成的大尺寸的電極
的復(fù)雜性和需要周期的介入以重新構(gòu)建被腐蝕的陽極，因此從實(shí)際的 觀點(diǎn)考慮，該方法不令人滿意。
在技術(shù)文獻(xiàn)中公開的第二種方法如下，即電解槽的陽極是釋放亞 鐵離子的鐵陽極或是釋放亞錫離子的錫陽極，如JP 54110147所述， 兩種離子都能夠與六價(jià)鉻反應(yīng)因此，六價(jià)鉻的還原不再是直接在陰 極表面上進(jìn)行，而是在溶液本體中在均相中間接地進(jìn)行。該間接的方 法克服了與質(zhì)量輸送相關(guān)的問題，但由于在陽極消耗超過特定限定時(shí) 需要周期的介入，因此其證明幾乎不實(shí)際的。本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種用于還原六價(jià)鉻(鉻酸鹽)的電化 學(xué)方法，其特征在于使用簡化的結(jié)構(gòu)的電解槽，不含如現(xiàn)有技術(shù)的電 化學(xué)方法中的由顆粒床形成的陰極。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明由電化學(xué)方法構(gòu)成，允許在不含分隔體且具有不銹鋼陰極
和適合于析氧的陽極的電解槽中對包含在原溶液(raw solution)中 的六價(jià)鉻進(jìn)行陰極還原成三價(jià)鉻，能夠以低的溶液流量、優(yōu)選不超過 每m2陰極表面的1 OmVh在整個(gè)本體中建立和維持高的鴻流條件。
在本發(fā)明一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方案中，在槽中進(jìn)行該方法，所述槽的 特征在于具有構(gòu)成外壁的陰極和作為同軸陽極而安裝的陽極的圓柱幾
何外形；該槽具有切向進(jìn)口和出口，分別用于原溶液和還原溶液 (reduced solution)。
本發(fā)明的方法優(yōu)選如下進(jìn)行，即、使用在三價(jià)鉻向六價(jià)鉻的氧化 根本不會發(fā)生或者以不顯著防礙陰極還原的速度而發(fā)生的電勢下適合 于析氧的陽極。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中，進(jìn)行該六價(jià)鉻的陰極還 原，同時(shí)形成三價(jià)鉻和金屬鉻。
在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方案中，適合于析氧的陽極具有能充當(dāng)擴(kuò)散阻 擋層的多孔催化惰性的外層。
在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，延長陰極還原直到獲得六價(jià) 鉻的殘留濃度符合適用于工業(yè)源的液體廢物排放的標(biāo)準(zhǔn)；然后可對處 理了的溶液進(jìn)行中和，將三價(jià)鉻氫氧化物沉淀和通過過濾進(jìn)行分離，
或者可通過蒸發(fā)進(jìn)行濃縮，通過結(jié)晶將三價(jià)鉻作為硫酸鉻而分離。 在一個(gè)可替換的實(shí)施方案中，在最終六價(jià)鉻的濃度比適用的工業(yè)
源的液體廢物的標(biāo)準(zhǔn)所規(guī)定的限定高時(shí)，則相反地停止陰極還原，用 化學(xué)還原劑對所得到的溶液進(jìn)行最終處理，使其復(fù)合所述的標(biāo)準(zhǔn)，例 如亞-危酸鈉或焦亞硫酸鈉。
為了更容易地理解本發(fā)明，參考附圖，其只是具有例示的目的，決 不構(gòu)成對本發(fā)明的限制。


現(xiàn)在在以下附圖的幫助下描述本說明。
圖1:包含適合于本發(fā)明的第一實(shí)施方案的立式圓柱幾何形狀的 電解槽的循環(huán)。
圖2:包含適合于本發(fā)明的第二實(shí)施方案的立式圓柱幾何形狀的 電解槽的循環(huán)。 詳細(xì)

圖1顯示為，對相對尺寸沒有任何的提及，專有地通過電化學(xué)方 式的在六價(jià)鉻的完全還原的方法中所使用的循環(huán)的主要組成尤其是，
(1)表明總循環(huán)，(2)配備圓柱形陰極(3)和同軸中心陽極(4) 的電解槽，(5)貯存容器，其含有要被還原成三價(jià)鉻的六價(jià)鉻的原溶 液，(6)用于將原溶液進(jìn)料到槽的泵，(7)分別在槽陰極和陽極析 出的氫和氧，(8)包含電解了的溶液和氣體的兩相混合物，(9)氣-液分隔體，(10 )需要將氬濃度保持在燃燒極限(f lammability threshold)以外的稀釋空氣，(11)含有從溶液中分離出的氫和氧的 稀釋空氣，(12)將電解了的溶液再循環(huán)至所維持的貯存容器直至達(dá) 到希望的六價(jià)鉻的最終濃度，(13)用于由稀釋空氣攜帶的水微滴的 分隔體，配備除霧器(14) ， (15)用于含有氫和氣的稀釋空氣的出 口，但帶下的溶液(dragged solution)除外，(16)由分離的微滴 形成的液相的再循環(huán)，(17 )啟動(dòng)的泵和電解結(jié)束以將包含在貯存容 器中的還原溶液轉(zhuǎn)移到最終硫酸鉻中和與過濾、或者蒸發(fā)與結(jié)晶處理
(在圖中沒有示出)。才艮據(jù)例如在Al^0032042"公開的結(jié)構(gòu)，槽配備 較低和較高的噴嘴，兩者分別水平且切線地排列，分別用于對含有要 還原的六價(jià)鉻的原溶液進(jìn)行進(jìn)料和萃取由氣體(在槽中產(chǎn)生的氫和氧) 和六價(jià)鉻耗盡了的電解了的溶液組成的混合物。通過該噴嘴的排列， 溶液流動(dòng)呈現(xiàn)螺旋配置，其基本上維持在沿著整個(gè)槽體這樣的流動(dòng) 確保高的質(zhì)量輸送，其具有與基于使用由顆粒床組成的陰極的現(xiàn)有技 術(shù)相比非常簡單且容易制造的結(jié)構(gòu)。該槽設(shè)計(jì)可通過如下事實(shí)進(jìn)一步 簡單化，即本發(fā)明的方法不需要存在分離陰極和陽極的分隔體、如多 孔橫膈膜或者導(dǎo)離子膜。圖2顯示在發(fā)明方法的第二實(shí)施方案所使用的循環(huán)。其中，(5) 確定，如圖1 ,通過與比所允許的排放至外部環(huán)境高的六價(jià)鉻的殘留 濃度相一致停止電解而獲得的還原溶液的儲存容器，(17)如圖1， 用于循環(huán)還原溶液的泵，只有在電解結(jié)束后才接通，(18)反應(yīng)器， 其中用泵(17)輸送的還原溶液與化學(xué)還原劑(19)反應(yīng)，目的是獲 得六價(jià)鉻濃度的最終降低，(20)攪拌器，其確保還原溶液和還原劑 的》'昆合，(21)電勢元件(potentiometric element)，用于測量溶 液氧化還原電勢，如在已知的電分析技術(shù)所公開的一樣，(22)在化 學(xué)還原程序結(jié)束時(shí)要打開的閥，(23)泵，指引將完全還原溶液轉(zhuǎn)移 到最終硫酸鉻中和與過濾、或者蒸發(fā)和結(jié)晶處理中。
實(shí)施例1
使用圖1的循環(huán)以試驗(yàn)本發(fā)明方法的第一實(shí)施方案。槽(1)由 連接到整流器的負(fù)極上且充當(dāng)陰極的AISI 316L型不銹鋼的圓柱體和 也是圓柱形并安裝在中心且和陰極同軸的陽極組成。在陰極發(fā)生六價(jià) 向三價(jià)鉻的還原，同時(shí)發(fā)生少量的金屬鉻沉積和析氫；陽極反應(yīng)由析 氧組成。
使用圖1的循環(huán)和上述的槽以對來自鉻鍍敷廠的原溶液進(jìn)行處 理，所述原溶液含有125g/l六價(jià)鉻、2. 6g/1的三價(jià)鉻，5g/1的亞鐵 離子和游離硫酸，所述游離硫酸的濃度使得pH為1.1。
該溶液被分成相等的5份每份5升，用于后面所述的試驗(yàn)。 使用的槽包含AISI 316L型不銹鋼的立式圓柱形的陰極，所述陰 極具有2毫米的厚、48毫米的內(nèi)部直徑和對應(yīng)于400cm2的表面的265 毫米的長度。
作為陽極，使用10mm外徑和lmm厚度的鈦管，其安裝在中心位 置且和陰極同軸該管具有用于析氧的電催化涂層?，F(xiàn)有技術(shù)建議使 用粕金屬、鉑銥合金、鉑族金屬氧化物的涂層，這樣或者優(yōu)選和惰性 氧化物一起,皮加入，例如，如銥和鉭混合氧化物；還已知，這些涂層 可僅僅具有附加的惰性氧化物的多孔層。如WO/0100905所公開的那樣在該試驗(yàn)計(jì)劃的過程中，使用涂覆的鈦陽極的幾種配方，對其將 在下面進(jìn)行詳細(xì)說明。
該槽也配備較高和較低的兩個(gè)噴嘴，分別用于以調(diào)節(jié)為約 4001/h的流量對原溶液進(jìn)行進(jìn)料和用于萃取由電解了的溶液和在陰 極和陽極上析出的氫和氧組成的混合物，所述兩個(gè)噴嘴都以水平和正 切方向排列，目的是在槽內(nèi)產(chǎn)生向上的螺旋流。對槽施加20A的恒電 流，相應(yīng)的陰極電流密度為500A/n^和陽極電流密度為2400A/m2。電 壓包含在4到5伏特之間。在電解過程中，注入硫酸，目的是恢復(fù)消 耗的酸和維持pH為上述的1. 1的值。
在第一次試驗(yàn)中，陽極電催化涂層由摩爾比1. 7: 1的銥鉭混合 氧化物的商業(yè)配方組成。六價(jià)鉻含量的分析表明在約160個(gè)小時(shí)期間 的時(shí)間接近線性降低，最終濃度為0. 26g/l ( 260ppm)，相應(yīng)的平均 電流效率為約30%。電解產(chǎn)物基本上是三價(jià)鉻，僅僅少量部分由鉻金 屬組成，相當(dāng)于所產(chǎn)生的三價(jià)鉻的約1-2%。通過延長試驗(yàn)，觀察到 六價(jià)鉻含量減少沒有再遵循線性時(shí)間依賴性(linear time dependency)，表明擴(kuò)散型質(zhì)量輸送抑制的開始。特別是，注意到進(jìn) 一步10小時(shí)的電解期間后，六價(jià)鉻的含量下降至約0.4ppm，然后保 持恒定。這一結(jié)果無疑是有趣的，其顯著地更接近由可采用的工業(yè)廢 水標(biāo)準(zhǔn)所規(guī)定的0. 05-0. 2ppm的限定。六價(jià)鉻的殘留濃度進(jìn)一步減少 失敗的原因，據(jù)推測，歸結(jié)于具有銥和鉭混合氧化物涂層的陽極能再 次對在陰極產(chǎn)生的三價(jià)鉻再氧化成六價(jià)鉻，雖然以很低的速率。實(shí)際 上合適的測量表明由陽極呈現(xiàn)的電化學(xué)電勢為約1.5V/SHE，而允許將 三價(jià)氧化成六價(jià)鉻所需的最小電勢為約1. 35-1. 4V/SHE:三價(jià)鉻氧化
電勢低于陽極工作電勢的事實(shí)表明實(shí)際上氧化是可能的。
為了減少已經(jīng)令人滿意的六價(jià)鉻的殘留濃度，進(jìn)行第二次和第三 次試驗(yàn)，分別使用和第一次試驗(yàn)相同的陽極以及添加補(bǔ)充的鉭氧化物 多孔涂層，其在電解條件下完全惰性，能充當(dāng)擴(kuò)散阻擋層，但不明顯 地影響析氧，和具有實(shí)驗(yàn)的銥和鉭混合氧化物的電催化涂層的陽極， 所述銥和鉭這兩種元素的摩爾比為4: 1，特征在于，工作電勢為1.4伏特，由于更好的析氧的電催化活性，其與較高的銥含量有關(guān)，因此 比商業(yè)類型的電勢低。
第二次試驗(yàn)表明，最終和第一次試驗(yàn)的濃度相同的六價(jià)鉻的濃
度、實(shí)踐中為0. 3ppm的最終值的降低，在180小時(shí)的電解后達(dá)到。
甚至更有趣的結(jié)果在第三次試驗(yàn)中獲得，其中，六價(jià)鉻的殘留濃 度的恒定最終值在0. 15ppm附近，因此證明了陽極催化活性水平的重 要性。
陽極工作電勢的重要性進(jìn)一步的證據(jù)通過第四次試驗(yàn)獲得，其 中，圓柱形槽配備同軸鈦陽極，該陽極具有通過現(xiàn)有技術(shù)所描述的電 技術(shù)而沉積的5微米厚的純鉬涂層。在這種情況下，注意到六價(jià)鉻濃 度以最終和先前步驟類似的趨勢下降，達(dá)到基本上恒定的最終值 15ppm。該陽極工作電勢以1. 7伏特左右為中心。 實(shí)施例2
使用圖2的循環(huán)進(jìn)行第五次試驗(yàn)，其中如第一次試驗(yàn)一樣進(jìn)行配 置的圓柱形槽的操作，在150小時(shí)后六價(jià)鉻的濃度為約10g八時(shí)被停 止該溶液在攪拌反應(yīng)器(18)中與加入的含有50g/l的亞硫酸氫鈉 的溶液反應(yīng)，采用這樣的量是便于使由探針(21)測量的溶液的氣化 還原電勢轉(zhuǎn)變到大約0V/SHE的值，相應(yīng)地存在未反應(yīng)的游離亞石克酸 氫鹽的少量殘留。該10g/l的值是任選的，盡管延長電解處理以達(dá)到 包含在5g/l和25g/l之間的濃度對于理想的與后處理的結(jié)合來說是特 別有利的，所述后處理采用亞硫酸氫鹽或者其它的化學(xué)還原劑。在所 表明的條件下，用亞硫酸氫鹽進(jìn)行后處理后六價(jià)鉻的殘留濃度結(jié)果為 0. 05-0-lPpm，因此使得溶液處置符合所采用的標(biāo)準(zhǔn)。本發(fā)明方法的第 二實(shí)施方案的優(yōu)點(diǎn)在于電化學(xué)部分的操作時(shí)間的減少和使溶液達(dá)到六 價(jià)鉻的最小水平的速度，以及隨之而產(chǎn)生的、相對于硫酸鹽濃度的少 量增加這樣的小小不利，給定設(shè)備尺寸的處理能力提高，所述不利就 上述的處置或者結(jié)晶步驟而言是可忽略不計(jì)的。
對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說顯而易見的是，可對所引用的實(shí)施例 進(jìn)行其它的變形或者改變而實(shí)施本發(fā)明。例如，在本發(fā)明的方法中，所施加的電流可以根據(jù)預(yù)先建立的程序依據(jù)電解時(shí)間而降低；槽陰極 也可具有催化涂層，在這種情況下，用于析氫的涂層，例如化學(xué)和電 沉積的釕金屬涂層，其催化活性允許停止六價(jià)鉻向三價(jià)鉻的還原而不 會產(chǎn)生微量的鉻金屬。
前述說明并非在于限定本發(fā)明，本發(fā)明可以依據(jù)不同實(shí)施方式來 應(yīng)用，而不背離其范圍，且其范圍由所附權(quán)利要求來明確限定。
在本發(fā)明的說明書和權(quán)利要求書中，術(shù)語"包括(comprise)"及 其變化形式如"包含(comprising)"和"含有(comprises)"并非在 于排除其它元素或添加劑的存在。
權(quán)利要求
1.一種減少原溶液中的六價(jià)鉻的含量并生產(chǎn)還原溶液的方法，其包括在電解槽中進(jìn)行電解還原，所述電解槽不含分隔體，具有能維持高的質(zhì)量輸送通過槽整體的原溶液的進(jìn)口和出口，以及具有不銹鋼陰極和適合于析氧的陽極。
2. 權(quán)利要求1的方法，其中，所述槽具有立式圓柱幾何形狀以及 包含構(gòu)成外壁的陰極和安裝在中心位置與所述陰極同軸的圓柱形陽 極，且所述進(jìn)口和出口能維持高的質(zhì)量輸送，分別對應(yīng)于所述槽的較 低和較高末端進(jìn)行放置，具有水平和切線方向。
3. 權(quán)利要求2的方法，其中，所述高的質(zhì)量輸送是由螺旋流建立的。
4. 權(quán)利要求2或3的方法，其中，所述溶液每1112陰極表面具有不 超過10m7h的流量。
5. 以上權(quán)利要求的任一項(xiàng)的方法，其中，所述六價(jià)鉻的電解還原 產(chǎn)生三價(jià)鉻和鉻金屬。
6. 權(quán)利要求1-4的任一項(xiàng)的方法，其中，所述不銹鋼陰極還具有 用于析氫的催化涂層。
7. 權(quán)利要求6的方法，其中，所述催化涂層為釕金屬涂層。
8. 權(quán)利要求6或7的方法，其中，所述六價(jià)鉻的電解還原只產(chǎn)生 三價(jià)鉻。
9. 以上權(quán)利要求的任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述陽極為具有用 于析氧的催化涂層的鈦陽極，能在低于1. 7V/SHE的電勢下工作。
10.權(quán)利要求9的方法，其中，所述催化涂層由銥和鉭混合氧化物組成。
11. 權(quán)利要求9或IO的方法，其中，在所述催化涂層上施用附加 的催化惰性材料的多孔涂層。
12. 權(quán)利要求11的方法，其中，所述附加的多孔涂層包含鉭氧化物。
13. 以上權(quán)利要求的任一項(xiàng)所述的方法，其中，將所述電解還原延長至六價(jià)鉻的最終濃度不超過每百萬之0. 2份。
14. 權(quán)利要求1至12的任一項(xiàng)的方法，其中，在所述還原溶液中 六價(jià)鉻的殘留濃度高于工業(yè)水處理標(biāo)準(zhǔn)所規(guī)定的值時(shí)停止所述電解還 原，且隨后進(jìn)行包括添加化學(xué)還原劑的所述還原溶液的最終處理。
15. 權(quán)利要求14的方法，其中，在具有電勢元件的反應(yīng)器中進(jìn)行 所述的最終處理。
16. 權(quán)利要求14或15的方法，其中，所述最終處理將六價(jià)鉻濃度 降低至不超過每百萬之0. 2份的值。
17. 權(quán)利要求14-16的任一項(xiàng)的方法，其中，要進(jìn)行所述最終處理 的所述還原溶液具有包含在5g/l - 25g/l之間的六價(jià)鉻濃度。
18. 權(quán)利要求14-17的任一項(xiàng)的方法，其中，所述化學(xué)還原劑選自 亞硫酸鈉、亞-危酸氫鈉、亞鐵鹽、鐵粉末。
19. 權(quán)利要求14-18的任一項(xiàng)的方法，其中，所述電勢元件檢測還 原溶液的氧化還原電勢。
20. 權(quán)利要求18或19的方法，其中，所述化學(xué)還原劑是亞硫酸氫 鈉且當(dāng)電勢元件檢測到氧化還原電勢為約OV/SHE時(shí)停止所述的添加。
21. 以上權(quán)利要求的任一項(xiàng)的方法，其中，進(jìn)一步中和所述還原溶 液，三價(jià)鉻氫氧化物沉淀，且隨后通過過濾分離所述鉻氫氧化物。
22. 權(quán)利要求1-20的任一項(xiàng)的方法，其中，進(jìn)一步蒸發(fā)所述還原 溶液，隨后通過結(jié)晶為硫酸鉻而分離三價(jià)鉻。
全文摘要
本發(fā)明描述涉及電化學(xué)還原含有六價(jià)鉻溶液的方法，可以選擇再加上一個(gè)最終階段的化學(xué)整理。電化學(xué)還原利用圓柱幾何形槽和切線溶液進(jìn)出口，其建立和維持穿過整個(gè)電解體的螺旋形流，實(shí)現(xiàn)有效的質(zhì)量輸送條件。
文檔編號C02F1/467GK101321698SQ200680044940
公開日2008年12月10日 申請日期2006年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月30日
發(fā)明者P·羅西 申請人:德諾拉工業(yè)有限公司