專利名稱：吸引干燥在頻率片清洗干燥工程的應(yīng)用的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及頻率片的加工領(lǐng)域，特別是一種吸引干燥在頻率片清洗干燥工程的應(yīng)用。
背景技術(shù)：
隨著超大規(guī)模集成電路的迅速發(fā)展，芯片的集成度越來越高，元器件的尺寸越來 越小，因器件的高密度、小尺寸引發(fā)的各種效應(yīng)對(duì)各步工藝制作結(jié)果的影響日益突出，對(duì)各 步工藝的要求也隨之越來越嚴(yán)格，如對(duì)生產(chǎn)頻率片中的清洗要求就越來越高。目前，頻率片 清洗后使用酒精脫水，再放入100度左右的烘箱中干燥。酒精脫水時(shí)需要上下回旋搖動(dòng)清 洗10分鐘，浸泡10分鐘，干燥10分鐘。這種頻率片的清洗干燥方式耗費(fèi)時(shí)間長，生產(chǎn)效率 低，同時(shí)在搖動(dòng)清洗時(shí)容易造成缺損的產(chǎn)生，而且酒精脫水不徹底還容易造成臟污。普通的 清洗干燥方式已經(jīng)不能滿足現(xiàn)代快速高效生產(chǎn)的需要。因此，如何進(jìn)行快速高效的進(jìn)行頻 率片清洗干燥工作，降低頻率片臟污的發(fā)生率成為該技術(shù)領(lǐng)域亟待解決的問題。

發(fā)明內(nèi)容
為了提高頻率片清洗干燥的生產(chǎn)速度，降低頻率片臟污發(fā)生率，本發(fā)明提供以下 技術(shù)方案一種吸引干燥在頻率片清洗干燥工程的應(yīng)用，其特征在于將吸引干燥的方式 應(yīng)用于頻率片清洗干燥工程。作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，吸引干燥的方式應(yīng)用于頻率片清洗干燥工程的步驟 為A、用純水將頻率片進(jìn)行清洗；B、將清洗后的頻率片放入吸引干燥機(jī)中，干燥10分鐘，溫度條件為60度，壓強(qiáng)條 件為20KPa ；C、頻率片干燥完成，進(jìn)行下一工序。作為本發(fā)明的另一種優(yōu)選方案，所述純水的電阻率小于18. 3ΜΩ · cm。作為本發(fā)明的又一種優(yōu)選方案，所述吸引干燥機(jī)可同時(shí)干燥500片頻率片。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，其優(yōu)點(diǎn)在于1.本發(fā)明吸引干燥在頻率片清洗干燥工程的應(yīng)用，將普通的酒精脫水的方式進(jìn)行 干燥替換為吸引干燥，省去了酒精使用的環(huán)節(jié)，同時(shí)避免了酒精儲(chǔ)存和回收工作；2.本發(fā)明吸引干燥在頻率片清洗干燥工程的應(yīng)用，將原來酒精脫水干燥的30分 鐘工作時(shí)間降低到10分鐘，提高了清洗效率，同時(shí)將臟污發(fā)生率從0. 5%降為0 ；3.本發(fā)明吸引干燥在頻率片清洗干燥工程的應(yīng)用，通過吸引干燥對(duì)清洗后的頻率 片進(jìn)行干燥，避免了酒精脫水干燥過程中，上下回旋搖動(dòng)對(duì)頻率片產(chǎn)生的損毀。
具體實(shí)施例方式下面對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。本發(fā)明吸引干燥在頻率片清洗干燥工程的應(yīng)用，主要特征在于將吸引干燥的方 式應(yīng)用于頻率片清洗干燥工程。其中，吸引干燥的方式應(yīng)用于頻率片清洗干燥工程的步驟為A、用純水將頻率片進(jìn)行清洗；B、將清洗后的頻率片放入吸引干燥機(jī)中，干燥10分鐘，溫度條件為60度，壓強(qiáng)條 件為20KPa ；C、頻率片干燥完成，進(jìn)行下一工序。此外，所述純水的電阻率小于18. 3ΜΩ ·_。所述吸引干燥機(jī)可同時(shí)干燥500片頻率片。以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式
，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何 熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明所揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可不經(jīng)過創(chuàng)造性勞動(dòng)想到的變化或 替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書所限 定的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種吸引干燥在頻率片清洗干燥工程的應(yīng)用，其特征在于將吸引干燥的方式應(yīng)用 于頻率片清洗干燥工程。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的吸引干燥在頻率片清洗干燥工程的應(yīng)用，其特征在于吸引 干燥的方式應(yīng)用于頻率片清洗干燥工程的步驟為A、用純水將頻率片進(jìn)行清洗；B、將清洗后的頻率片放入吸引干燥機(jī)中，干燥10分鐘，溫度條件為60度，壓強(qiáng)條件為 20KPa ；C、頻率片干燥完成，進(jìn)行下一工序。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的吸引干燥在頻率片清洗干燥工程的應(yīng)用，其特征在于所述 純水的電阻率小于18. 3ΜΩ · cm。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的吸引干燥在頻率片清洗干燥工程的應(yīng)用，其特征在于所述 吸弓I干燥機(jī)可同時(shí)干燥500片頻率片。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種應(yīng)用于頻率片加工領(lǐng)域的頻率片的清洗干燥工藝。一種吸引干燥在頻率片清洗干燥工程的應(yīng)用，其特征在于將吸引干燥的方式應(yīng)用于頻率片清洗干燥工程。吸引干燥的方式應(yīng)用于頻率片清洗干燥工程的步驟為A、用純水將頻率片進(jìn)行清洗；B、將清洗后的頻率片放入吸引干燥機(jī)中，干燥5-15分鐘，溫度條件為40-70度，壓強(qiáng)條件為10-30KPa；C、頻率片干燥完成，進(jìn)行下一工序。本發(fā)明優(yōu)點(diǎn)在于將普通的酒精脫水的方式進(jìn)行干燥替換為吸引干燥，提高了清洗效率，同時(shí)將臟污發(fā)生率從0.5％降為0；避免了酒精脫水干燥過程中，上下回旋搖動(dòng)對(duì)頻率片產(chǎn)生的損毀。
文檔編號(hào)F26B5/12GK102072614SQ20101061734
公開日2011年5月25日 申請(qǐng)日期2010年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月31日
發(fā)明者任劍鋒 申請(qǐng)人:蘇州普銳晶科技有限公司