用于加熱由熱塑性塑料作制成的預(yù)制坯件的設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種根據(jù)權(quán)利要求1的前序部分所述的用于加熱由熱塑性塑料制成的預(yù)制坯件的設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]上述類型的設(shè)備通常被設(shè)置在延展吹制機(jī)(Streckblasmaschinen)中。這類設(shè)備用于加熱例如由聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)制成的塑料預(yù)制坯件，然后由該塑料預(yù)制坯件在加熱后借助于吹制成型器制造出所需的塑料容器。
[0003]上述類型的設(shè)備通常具有回轉(zhuǎn)運(yùn)行的輸送裝置，預(yù)制坯件經(jīng)由入口星形裝置被供給至該輸送裝置。然后，借助該輸送裝置將預(yù)制坯件引導(dǎo)穿過加熱通道，用于在輸送路徑的已定義的區(qū)段上進(jìn)行熱處理。在此情況下，預(yù)制坯件或其伸入到加熱通道中的區(qū)域被加熱到待加工材料的玻璃點(diǎn)(Glaspunkt)以上的溫度。
[0004]當(dāng)然，還公知了其它設(shè)備，例如在其中進(jìn)行靜態(tài)加熱的設(shè)備。
[0005]在上述類型的設(shè)備中，加熱通道可以例如通過至少一個(gè)加熱模塊構(gòu)成，在運(yùn)動(dòng)加熱的情況下則通常通過在輸送方向上相互連接的多個(gè)加熱模塊構(gòu)成，這些加熱模塊分別形成加熱通道的區(qū)段。相應(yīng)的加熱模塊例如被描述在DE 10 2009 033 902中。
[0006]公知的加熱模塊通過具有基本上封閉的輻射空間的加熱通道區(qū)段構(gòu)成。在加熱通道的一側(cè)上設(shè)有加熱元件，通常是水平延伸的加熱輻射器，所述加熱元件輸出具有輻射最大值處于800nm至1500nm之間范圍內(nèi)的紅外福射。在這一側(cè)上設(shè)置在加熱元件后面的反射器(主反射器)用于:將由加熱元件向后輸出的輻射反射到加熱通道中。在輻射空間的對(duì)面?zhèn)壬霞暗撞恐幸苍O(shè)有反射元件(對(duì)應(yīng)反射器及底部反射器)，它們應(yīng)確保加熱區(qū)段中盡可能小的熱損耗。
[0007]對(duì)應(yīng)反射器及底部反射器例如涉及到設(shè)置在該壁上或底部上的拋光的和/或經(jīng)涂層的金屬元件，這些金屬元件由于公知設(shè)備在運(yùn)行時(shí)所出現(xiàn)的振動(dòng)等因素而具有相應(yīng)的高機(jī)械穩(wěn)定性。
[0008]但問題在于:這種金屬反射鏡不具有最佳的反射特性，這樣尤其會(huì)導(dǎo)致能量損耗及元件不希望的發(fā)熱。此外，污染及相應(yīng)的凈化過程(即通過刮擦器等)將導(dǎo)致反射特性進(jìn)一步的變壞。
[0009]可替代地，對(duì)于對(duì)應(yīng)反射器及底部反射器還公知了陶瓷元件，所述陶瓷元件具有所需的穩(wěn)定性，以便應(yīng)對(duì)機(jī)械應(yīng)力。但這種陶瓷材料具有比較小的反射系數(shù)。
[0010]此外公知了陶瓷材料，所述陶瓷材料主要由非晶態(tài)的二氧化硅組成并且具有很好的漫反射性或者說比較高的反射系數(shù)。但這種材料的缺點(diǎn)是:僅具有比較小的機(jī)械穩(wěn)定性并且在組裝時(shí)或運(yùn)行中易受損。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]因此本發(fā)明的任務(wù)在于:提出一種設(shè)備，其中，相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)而言，對(duì)應(yīng)反射器和/或底部反射器不但具有良好的反射特性而且也具有足夠的機(jī)械穩(wěn)定性。
[0012]該任務(wù)將以一種具有權(quán)利要求1的特征部分的設(shè)備來解決。
[0013]因此規(guī)定了:在根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備中作為對(duì)應(yīng)反射器或底部反射器設(shè)置的反射元件由兩種不同的層構(gòu)成。
[0014]在此情況下，首先一個(gè)反射層用于反射，而一個(gè)與其鄰接的載體層用作該反射層的載體。
[0015]就其在本發(fā)明中所使用而言，概念“層”尤其包含以扁平模制件形式構(gòu)成的元件，這些元件在相應(yīng)的批量生產(chǎn)后相互重疊布置并且然后構(gòu)成反射層或載體層。但概念“層”也包括一種反射層，該反射層例如通過噴射或浸泡而施加在載體層上。
[0016]根據(jù)本發(fā)明還規(guī)定了:反射層由可反射的二氧化硅材料構(gòu)成，其中，在一種優(yōu)選使用的材料中，二氧化硅的組分大于95%，在一種特別優(yōu)選的構(gòu)型中，二氧化硅的組分超過99%。
[0017]適用于反射層的材料例如由Heraeus或Saint-Gobain公司銷售。涉及到這樣一種材料，該材料由超過99%純非晶態(tài)二氧化硅纖維組成并且具有大于90%的、處于500nm至2500nm范圍內(nèi)的IR反射系數(shù)值。與此相比，一些材料如金屬鋁或硅酸鋁或硅酸鈣具有其值處于70%至85%之間的明顯差的IR反射特性。
[0018]在本發(fā)明的框架內(nèi)優(yōu)選用作反射層的元件由上述材料制成，也就是說，幾乎僅由非晶態(tài)二氧化硅纖維制成。
[0019]對(duì)于上述的根據(jù)本發(fā)明的可用于反射層的材料的問題則在于:該材料僅具有很小的機(jī)械穩(wěn)定性。本申請(qǐng)人的研究表明:由具有高組分非晶態(tài)二氧化硅纖維的上述材料制成的反射元件在與加熱模塊的壁直接接觸的情況下在運(yùn)行時(shí)會(huì)由于所出現(xiàn)的振動(dòng)而破碎。
[0020]當(dāng)根據(jù)本發(fā)明規(guī)定了反射層被設(shè)置在另一用作載體的載體層上時(shí)，就能夠避免上述效應(yīng)。
[0021]在此情況下，載體層就其本身而言例如接觸到加熱模塊的壁或給予反射層這樣的穩(wěn)定性，以致于包括有載體層及反射層的反射元件能夠基本上獨(dú)立地(frei stehend)布置。
[0022]載體層基本上可由不同的材料制成。重要的是:載體層具有足夠的機(jī)械穩(wěn)定性并還具有與反射層類似的熱特性。尤其是，由石英玻璃制成的層具有相應(yīng)的特性。此外，例如基于硅酸鋁或硅酸鈣的層也是適用的。公知的適用材料或模制件例如是市場(chǎng)上可以得到的商標(biāo)為Altraform KVS的模制件。這里涉及到以多晶絨毛為基礎(chǔ)的陶瓷，它具有28% -88%的A1203含量及12% -20%的Si02含量。體積密度處于300kg/m3至700kg/m3之間。其它的產(chǎn)品例如以Altraform KVR的名稱可以得到。在此，A1203組分是98%并且S1 2含量是2% ο體積密度處于240kg/m3至500kg/m3之間。
[0023]載體層尤其可涉及到已在公知設(shè)備中作為反射器使用的元件。對(duì)于選定載體層重要的還在于:載體層由下述材料制成，該材料具有與反射層相似的小的熱膨脹系數(shù)，以避免由熱引起的應(yīng)力。
[0024]根據(jù)本發(fā)明還規(guī)定了:反射元件的上述兩種層持久地相互連接。該連接例如可借助于層壓來實(shí)現(xiàn)，即，反射層可被層壓到載體層上?？商娲兀鲜鰞煞N層也可粘接。對(duì)此適用的一種粘接材料例如是以商標(biāo)Fiberfax可在市場(chǎng)上得到。
[0025]此外也可考慮:反射層以濕式工藝(尤其通過噴射或浸泡)被施加到載體層上并接著被干燥進(jìn)而持久地與載體層相連接。對(duì)此所需的液態(tài)備料也可從市場(chǎng)上得到。
[0026]通常，反射層具有比載體層小的厚度就足夠了。優(yōu)選地，反射層的厚度最多是載體層厚度的一半。
[0027]應(yīng)當(dāng)指出，載體層能夠使設(shè)置在其上的反射層如此穩(wěn)定，以致該設(shè)備中所出現(xiàn)的振動(dòng)不再作用于該反射層。
【附圖說明】
[0028]以下將依據(jù)兩個(gè)附圖詳細(xì)解釋本發(fā)明。附圖示出:
[0029]圖1:根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施形式的加熱模塊，以及
[0030]圖2:根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施形式