專利名稱：：制造由透明材料制成的無(wú)可見(jiàn)表面處理線條的制品的方法和由此得到的制品的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明一般涉及制造在表面處理后無(wú)可見(jiàn)光學(xué)缺陷的透明制品的方法，以及其在制造光學(xué)制品如鏡片、特別是眼科透鏡(lent川esophtalmiques)、更優(yōu)選是目艮鏡(verresdelunettes.)中的用途。
背景技術(shù)：
：通常，對(duì)用于制備光學(xué)制品的由透明材料制成的基底的主面進(jìn)行表面處理。率)的光學(xué)制品(如眼鏡)的所有操作。典型地，所述表面處理包括三個(gè)連續(xù)步驟，即研磨、精磨(doucissage)和拋光。研磨是一個(gè)機(jī)械加工步驟，其目的是借助粗粒金剛石工具或銑刀使所述基底的一個(gè)面具有曲率。精磨也是一個(gè)機(jī)械加工步驟，其在研磨后采用具有細(xì)粒(金剛石、金剛砂、碳化硅......)的研磨工具進(jìn)行。以這種方式精磨后的所述基底的表面具有緞狀外觀。導(dǎo)致被精良拋光的透明表面的表面處理的最后操作被稱為拋光，并且也是一個(gè)機(jī)械加工步驟，其采用與非常細(xì)小的磨料(氧化鋁、金剛石......)的懸浮液接觸的氈盤。如上所述其主要目的是賦予所述基底的至少一個(gè)主面以所需曲率的研磨是一個(gè)產(chǎn)生不透明或乳白色基底的短暫步驟，該基底的研磨面具有作為大幅度、低頻率的缺陷的波紋，通常以螺旋形式存在，在其上是由小幅度、高頻率的缺陷組成的疊置的粗糙度。所述精磨進(jìn)一步改變所述基底的,皮加工面的幾何形狀，但其本質(zhì)目的是盡可能地除去所述波紋和降低所述粗糙度。該機(jī)械加工步驟得到了其被精磨面仍#41糙的半透明(但尚不透明)的制品。最后，拋光，一個(gè)時(shí)間相對(duì)長(zhǎng)的機(jī)械加工步驟，其不改變所述基底的經(jīng)處理面，盡可能地消除殘留粗糙度，從而最后得到透明的光學(xué)制品。近來(lái)這些表面處理技術(shù)有所提高。特別地，CNC(ComputerNumericalControl,計(jì)算機(jī)數(shù)字控制)機(jī)器，例如由Schneider制造的那些，可以在研磨步驟中消除相當(dāng)大部分的波紋型缺陷和得到一定品質(zhì)的表面以使得可以省略所述精磨步驟和可以立即進(jìn)行所述拋光步驟。然而，這些技術(shù)不能得到完全不含光學(xué)缺陷、特別是完全不含所存在的與在所述基底表面上拋光的這種操作相關(guān)的細(xì)小刮痕的基底。一般地，已經(jīng)對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的狀態(tài)進(jìn)行了描述，其目的在于用涂層覆蓋預(yù)先已經(jīng)研磨過(guò)和任選地精磨過(guò)的基底或光學(xué)透鏡的粗糙表面，從而改善其光學(xué)表面并因此省去精磨或拋光中的一個(gè)和/或另一個(gè)步驟。因此，us專利us-4,4i7，790提出了一種精制(髓ion)方法，其中為已經(jīng)僅僅研磨過(guò)的透鏡上漆膜，從而得到光學(xué)品質(zhì)表面和減少精制透鏡所需的時(shí)間。根據(jù)該專利，在所述表面上沉積厚度約為10Ra的涂層，其中Ra是所述被機(jī)械加工的表面的算術(shù)平均粗糙度。從美學(xué)角度來(lái)說(shuō)，該方法不能給出完全令人滿意的結(jié)果，并且不能消除所有表面缺陷，有些缺陷在弧光燈下仍然可見(jiàn)。根據(jù)給出的說(shuō)明書(shū)，專利WO-0167139提出了一種眼科透鏡表面的精制方法，根據(jù)該方法，在其表面上施涂約30Ra800Ra之間厚度的漆膜，其中Ra是所i^面的算術(shù)平均粗糙度，從而賦予其被拋光表面的狀態(tài)。所述涂層有利地呈現(xiàn)了與所述透鏡大體相等的折射率，其中公差為0.01。該專利指出沉積在所述透鏡表面上的漆膜和所述透鏡形成單一屈光度，從美學(xué)的角度來(lái)說(shuō)該透鏡滿足了需求，因?yàn)橐环矫嫫湓谒龌?漆膜的界面處沒(méi)有任何可見(jiàn)的彩虹色，另一方面用弧光燈在透射時(shí)沒(méi)有任何可觀察到的缺陷。所述漆膜被直接沉積在所述機(jī)械處理過(guò)的表面上，于是精磨和拋光步驟被省略，或者在精磨步驟之后。然而，就除去由所i^面處理刮痕造成的光學(xué)缺陷而言，該技術(shù)仍不能完全令人滿意。此外，它具有至少兩個(gè)缺點(diǎn)首先，所述涂層的推薦厚度大，這樣總是難以控制所述沉積物。其次，如上所述，專利WO-01167139中所述的4支術(shù)需要^f吏用折射率與所述基底實(shí)際上相同的漆膜。
發(fā)明內(nèi)容因此本發(fā)明的第一個(gè)目的是提供一種可以獲得具有非常高的光學(xué)品質(zhì)、特別是無(wú)可見(jiàn)表面處理線條的透明制品、特別是透鏡的新的快捷方法。本發(fā)明的第二個(gè)目的是提供一種采用用于表面處理刮痕的遮蔽涂層的方法，該涂層的折射率可以與所述基底的折射率顯著不同，從而不須要將所述遮蔽涂層的折射率適應(yīng)于所述透鏡的基底。本發(fā)明的第三個(gè)目的是提供一種采用遮蔽涂層的新方法，其可以獲得無(wú)可見(jiàn)表面處理刮痕和可見(jiàn)干涉條紋而具有用于光學(xué)制品、尤其是透鏡的所有所需性能的透明制品、特別是眼科透鏡，所述性能即低黃色指數(shù)、高耐沖擊和磨損性能、對(duì)沉積的功能涂層的良好粘附性和隨時(shí)間推移的良好性能耐久性。才艮據(jù)本發(fā)明，上述目的通過(guò)包括以下步驟的用于獲得無(wú)可見(jiàn)表面處理刮痕的透明制品的方法實(shí)現(xiàn)-得到由折射率為ns的透明材料制成的基底，其至少一個(gè)主面已,皮研磨和拋光到在0,0010.01jwn之間的Ra值，但其具有以帶截面、優(yōu)選楔形截面的單獨(dú)細(xì)刮痕形式的可見(jiàn)表面缺陷；-在該基底的所述已被研磨和拋光的主面上直接沉積遮蔽涂層的液體可聚合組合物，其與該基底的所述主表面的接觸角等于或小于30。，和通過(guò)聚合形成折射率為ne和厚度小于10pm的遮蔽涂層，以使得0.01<|ns-nc|優(yōu)選0.05SIns-ncIS0.15;-聚合所述遮蔽涂層的組合物；和-重新得到所述透明制品，其基底的所述已被研磨和拋光的主面被直接涂布所述遮蔽涂層，和其不具有可見(jiàn)的細(xì)小表面處理刮痕。下面將詳細(xì)地描述對(duì)在透射中可觀察到的可見(jiàn)表面缺陷(線條、表面刮痕)進(jìn)行測(cè)量的方法。在本發(fā)明的說(shuō)明書(shū)和權(quán)利要求中，除非另有說(shuō)明，折射率是在25。C的溫度、550nm的波長(zhǎng)下測(cè)量的。在指定情況下，測(cè)量了ne(水銀546.1nm)和nD(鈉589.3nm)(于25。C)。本發(fā)明還涉及一種制品、特別是光學(xué)制品、更特別的是眼科透鏡、優(yōu)選是眼鏡，其包括由折射率為ns的透明材料制成的基底，該基底的至少一個(gè)主面具有在0.001-0.01|iim之間的Ra值和具有以帶優(yōu)選楔形截面的單獨(dú)細(xì)刮痕形式的表面缺陷，和折射率為ne、厚度小于10的直接覆蓋該基底的所述主面的透明遮蔽涂層，所述折射率ns和nc滿足關(guān)系0.01<Ins-neI<0.15。本發(fā)明還涉及通過(guò)上述方法易于獲得的無(wú)可見(jiàn)表面處理刮痕的透明制口口o說(shuō)明書(shū)的其余部分參考下列附圖，其分別表示圖1:顯示了在基底的面上的單獨(dú)細(xì)刮痕的形態(tài)的掃描電鏡顯微照片；以及圖2:單獨(dú)細(xì)刮痕的截面的示意圖。圖3:用于光學(xué)測(cè)量眼科透鏡的表面缺陷的裝置的截面圖，以及測(cè)量過(guò)程的示意圖。圖4:當(dāng)眼科透鏡被正確放置在所述光學(xué)測(cè)量裝置中以確保其被佩戴者觀察到時(shí)，該眼科透鏡的觀測(cè)區(qū)域。具體實(shí)施方式用在本發(fā)明方法中、由透明材料制成的基底是其至少一個(gè)主面已經(jīng)過(guò)表面處理的基底，更特別地，是其至少一個(gè)主面已僅經(jīng)過(guò)研磨和拋光的基底，特別是在使用CNC型才幾器的情況下。在所述表面處理之后，拋光后得到的主面具有0.001~0.01nm的算術(shù)平均粗糙度Ra，但具有可見(jiàn)表面缺陷，特別是在弧光燈下，以單獨(dú)細(xì)刮痕的形式，通常具有如圖l所示的楔形截面。采用干涉顯樣史鏡在0.6mmx0.8mm的矩形區(qū)域上測(cè)量所述經(jīng)拋光的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra。用于本文的術(shù)語(yǔ)"單獨(dú)細(xì)刮痕"應(yīng)理解為在所述基底的主面上出現(xiàn)的線條，其具有可變的長(zhǎng)度，但彼此之間清晰可分。這些線條可以具有其一般形狀如圖2所示的截面。圖2中表示的具有一般三角形截面的楔形的細(xì)小刮痕在所述基底的主面水平上開(kāi)口，具有延伸入所述基底、收斂成如圖2中頂點(diǎn)S所示的尖銳邊緣的兩個(gè)側(cè)壁。在所述基底的主面上的該細(xì)刮痕的開(kāi)口的寬度L例如在0.54jLim之間，這些細(xì)刮痕具有從所述基底的主面到頂點(diǎn)S的深度H,其例如在0.5~2阿之間。如在圖1中所看到的和如圖2中示意性地顯示的，在所述基底上可能的細(xì)刮痕具有包括從所述基底的主面開(kāi)始的第一曲面部分、其延伸至該刮痕邊緣(如頂點(diǎn)S所示)的第二基本平整部分的側(cè)壁。這些細(xì)刮痕的長(zhǎng)度通常在2nm~3em之間，更經(jīng)常地在3nm~2cm之間。通常，單獨(dú)細(xì)刮痕在所述基底的主表面上的出現(xiàn)本質(zhì)上是不規(guī)律的，更經(jīng)常地它們集中位于所述基底的主表面上。通常，所M底的材料的折射率ns^1.60，優(yōu)選21.65，進(jìn)一步優(yōu)選^1.70。所述基底的材料可以是所有無(wú)機(jī)或有機(jī)透明固體材料，特別是通常用于制造光學(xué)制品、如眼科透鏡、特別是眼鏡的所有材料。優(yōu)選地，所述基底的材料是有機(jī)透鏡，即其主要組分為均聚物和共聚物或這些均聚物和共聚物的混合物的材料。在適合于本發(fā)明的由有機(jī)玻璃制成的基底中，可以提及由聚碳酸酯(PC)制成的基底，通過(guò)(甲基)丙烯酸烷基酯、特別是(甲基)丙烯酸C,-C4烷基酯和聚乙氧基化芳族(甲基)丙烯酸酯(如聚乙氧基化雙酚二甲基丙烯酸酉旨類bisphenolatesdimethacrylatespoly6thoxyl6s)、矛汴生物(^口月旨族或芳族、線型或支化多元醇烯丙基碳酸酯類allylcarbonatesdepolyols)、硫代(甲基)丙烯酸酯(即包含至少1個(gè)、優(yōu)選2個(gè)-SC(O)CH(R)=CH2基團(tuán)的化合物，其中R-H或CH3)和特別地硫代(甲基)丙烯酸烷基酯、硫代(甲基)丙烯酸烷基、特別是d-C4烷基酯的聚合和共聚得到的基底，聚石危氨酯聚合物和共聚物、多聚環(huán)硫化物聚合物和共聚物，和這些聚合物和共聚物的合金。在通過(guò)多元醇烯丙基碳酸酯的聚合得到的基底中，可以提及通過(guò)乙二醇二(烯丙基碳酸酯)、二甘醇二(2-甲基碳酸酯)、二甘醇二(烯丙基碳酸酯)、甲二醇二(2-氯烯丙基碳酸酯)、三甘醇二(烯丙基碳酸酯)、1，3-丙二醇二(烯丙基碳酸酯)、丙二醇二(2-乙基烯丙基碳酸酯)、1,3-丁二醇二(烯丙基碳酸酯)、1,4-丁炔二醇二(2-溴烯丙基碳酸酯)、雙丙甘醇二(烯丙基碳酸酯)、三亞甲基二醇二(2-乙基烯丙基碳酸酯)、五甘醇二(烯丙基碳酸酯)、亞異丙基雙酚-A二(烯丙基碳酸酯)的聚合得到的那些。優(yōu)選的多元醇烯丙基碳酸酯共聚物為由PPGINDUSTRIE以商標(biāo)名CR39⑧銷售的二甘醇二(烯丙基碳酸酯)的共聚物。用于本發(fā)明基底的優(yōu)選材料為聚硫氨酯的均聚物和共聚物、多聚硫化物的均聚物和共聚物、聚碳酸酯的均聚物和共聚物、聚硫代(甲基)丙烯酸酯的均聚物和共聚物以及它們的混合物。13在這些基于聚硫代(甲基)丙烯酸酯的材料中，可以提及通過(guò)硫代(甲基)丙烯酸系單體的聚合得到的那些，例如在法國(guó)專利FR-A-2734827中所述的那些。適于作為本發(fā)明基底的材料的聚硫氨酯均聚物和共聚物尤其在專利US-4，689，387、US-4，775，733、US-5，191,055、US-5，087，758和國(guó)際申請(qǐng)WO03/040205中有述。根據(jù)本發(fā)明，優(yōu)選的聚石危氨酯材料是通過(guò)每分子具有2個(gè)或更多個(gè)異氰酸酯或異^IL氰酸酯官能團(tuán)、優(yōu)選每分子2或3個(gè)異氰酸酯或異^ii氰酸酯官能團(tuán)、更優(yōu)選每分子2個(gè)異氰酸酯或異硫氰酸酯官能團(tuán)的多聚異氰酸酯和多聚異硫氰酸與每分子具有2個(gè)或更多個(gè)、優(yōu)選3~4個(gè)硫醇基或羥基官能團(tuán)的多元硫醇或多元醇化合物的加聚反應(yīng)得到的那些化合物。這些多聚(硫)異氰酸酯和多元醇或多元硫醇化合物可以是單體或預(yù)聚物，特別是如國(guó)際專利申請(qǐng)WO03/040205中所述的單體或預(yù)聚物。在優(yōu)選的多聚異氰酸酯或異硫氰酸酯中，可以提及具有下式的那些:匕和R1和其中R1基團(tuán)彼此獨(dú)立地是H或CVCs烷基、優(yōu)選CH3或C2Hs;R2是H、卣素、優(yōu)選C或Br、或C廣Cs烷基、優(yōu)選CH3或C2Hs;Z是-N-C-X;其中X是O或S，優(yōu)選O;a是l4的整數(shù)，b是24的整數(shù)，并且a+b";和x是110的整數(shù)，優(yōu)選1~6。在所述優(yōu)選的多聚異(硫)氰酸酯單體中，可以提及曱苯二異(硫)氰酸酯、亞苯基二異(硫)氰酸酯、曱基亞苯基二異(硫)氰酸酯、異丙基亞苯基二異(硫)氰酸酯、二乙基亞苯基二異(硫)氰酸酯、二異丙基亞苯基二異(硫)氰酸酯、三甲基芐基三異(硫)氰酸酯、二甲苯二異(硫)氰酸酯、芐基三異(硫)氰酸酯、4，4-二苯基甲烷二異(硫)氰酸酯、萘二異(At)氰酸酯、異佛耳酮二異(硫)氰酸酯、二(異(硫)氰酸酯甲基)環(huán)己烷、亞己基二異(硫)氰酸酯和二環(huán)己基甲烷二異(石危)氰酸酯。所述多元石危醇單體可以是任何適合的具有2個(gè)或更多、優(yōu)選3或4個(gè)硫醇基官能團(tuán)的多元硫醇。這些多元石危醇單體可以用式<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>表示，其中n'是2-6的整數(shù)，優(yōu)選3~4的整數(shù)，R'是化合價(jià)等于n'的有機(jī)基團(tuán)。所述多元硫醇單體尤其如專利EP-l-394495、專利US-4，775，733、US-5，087，758和專利US-5，191，055中有述。在這些多元硫醇單體中，可以提及脂族多元硫醇，如季戊四醇四(巰基丙酸酯)、l-(l，-巰基乙硫基)-2,3-二巰基丙烷、l-(2，-巰基丙硫基)-2，3-二巰基丙烷、l-(3，-巰基丙硫基)-2，3-二巰基丙烷、l-(4，-巰基丁硫基)-2,3-二巰基丙烷、l-(5，-巰基戊疏基)-2，3-二巰基丙烷、l-(6，-巰基己硫基)-2,3-二巰基丙烷、1,2-二-(4，-巰基丁疏基)-3-巰基丙烷、1，2-二-(5，-巰基戊疏基)-3-巰基丙烷、1，2-二-(6，-巰基己基)-3-巰基丙烷、1，2，3-三-(巰基曱疏基)丙烷、1，2,3-三-(3，-巰基-丙硫基)丙烷、1，2，3-三-(2，-巰基乙硫基)丙烷、1，2，3-三-(4，畫巰基丁疏基)丙烷、1,2，3-三-(6，-巰基己疏基)丙烷、甲二硫醇、1,2-乙二硫醇、l，l-丙二石克醇、1，2-丙二石克醇、1，3-丙二*充醇、2，2-丙二*克醇、1，6-己硫醇-1，2，3-丙三硫醇和1，2-二-(2，-巰基乙疏基)-3-巰基丙烷。在所述多元石危醇中，還可以提及具有下式的多元石克醇<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula>和C2H5C(CH2COOCH2CH2CH2SH)3優(yōu)選的多元石克醇單體是具有下式的那些<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula>(多元硫醇A)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula>和最優(yōu)選地，多元》危醇A。本發(fā)明中優(yōu)選的聚氨酯是由二異氰酸酯單體和多元硫醇得到的那些，最優(yōu)選由二曱苯二異氰酸酯C6H4(CH2NCO)2(XDI)和多元硫醇A得到的那些。特別適合本發(fā)明的基于聚氨酯的基底是由MITSUI以商標(biāo)名MR7銷售的材料。根據(jù)本發(fā)明的用于透明光學(xué)制品的基底的材料的另一優(yōu)選類型包括聚環(huán)硫化物、特別是二環(huán)硫化物的均聚物和共聚物。這些均聚物和共聚物尤其如專利EP-761665、EP-785194、EP-874016和專利US-6204311中有述。的環(huán)硫化物:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula>其中R3是具有1~10個(gè)碳原子的二價(jià)烴基，R4、R5和R6彼此獨(dú)立地是H或具有1~10個(gè)碳原子的一價(jià)烴基，和X是S或O，相對(duì)于構(gòu)成三元環(huán)的S和O原子的總數(shù)，S原子的比率平均為50%或更多。優(yōu)選的環(huán)硫化物基團(tuán)是具有下式的那些<formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula>特別優(yōu)選的環(huán)硫化物具有下式:<formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula>其中，R4、R5和R6以及X如上文定義的，m是l6的整數(shù)，n是04的整數(shù)，相對(duì)于構(gòu)成三元環(huán)的S和O原子的總數(shù)，S原子的比率平均為50%或更多。優(yōu)選的基于聚環(huán)硫化物的材料是由具有至少一個(gè)分子內(nèi)二石危鍵的二環(huán)硫化物的聚合或共聚得到的那些。在所述聚環(huán)硫化物中，可以提及以下化合物二-(2，3-環(huán)硫丙基)二硫化物、二-(2，3-環(huán)硫丙基二硫基)甲烷、二-(2，3-環(huán)硫丙基二硫基)乙烷、二-(6，7-環(huán)硫-3，4-二疏代庚烷)疏化物、1，4-二噢烷-2，5-二-(2，3-環(huán)硫丙基甲二硫醇基)、1，3-二-(2，3-環(huán)硫丙基甲二硫醇基)苯、1，6-二-(2，3-環(huán)硫丙基二硫基)-2-(2，3-環(huán)硫丙基乙二硫醇基硫基)-4-硫代己烷、1，2，3-三-(2，3-環(huán)硫丙基二硫基)丙烷、二-(P-環(huán)硫丙硫基)甲烷、1，2-二(卩-環(huán)硫丙^5jJL基)乙烷、1，3-二-((5-環(huán)硫丙J^?；?丙烷、1，2-二-(P-環(huán)疏丙J^1t基)丙烷、l-(p-環(huán)硫丙基硫基)-2-(p-環(huán)硫丙基硫基甲基)丙烷、1，4-二-(p-環(huán)硫丙基硫基)丁烷、1，3-二-(P-環(huán)硫丙基疏基)丁烷、l-((5-環(huán)硫丙基硫基)-3-(p-環(huán)硫丙基硫基曱基)丁烷、1,5-二-(p-環(huán)硫丙基疏基)戊烷、l-(p-環(huán)硫丙^i^基)_4-((3-環(huán)疏丙_^克基甲基)戊烷、1，6-二-(p-環(huán)硫丙^P?；?己烷、l-((5-環(huán)硫丙J^?；?-5-(j3-環(huán)硫丙J^克基甲基)己烷、l-(p-環(huán)硫丙J^直基)-2-[((5-環(huán)硫丙基疏基乙基)硫基l乙烷和l-(p-環(huán)硫丙基硫基)-2-[[2-(2-P-環(huán)硫丙基疏基乙基)硫基乙基]硫基乙烷；支化有機(jī)化合物如四-(p-環(huán)疏丙基硫基甲基)甲烷、1,1，l-三-(p-環(huán)硫丙J^危基甲基)丙烷、1，5-二-((5-環(huán)疏丙基硫基)-2-((3-環(huán)疏丙基疏基甲基)-3-硫代戊烷、1,5-二-(|3-環(huán)疏丙基硫基)-2,4-二((5-環(huán)硫丙基硫基甲基)-3-硫代戊烷、1-(卩-環(huán)疏丙基硫基)-2，2-二-(卩-環(huán)硫丙基疏基甲基)-4-硫代己烷、1，5，6-三-(|5-環(huán)硫丙！^克基)-4-(p-環(huán)疏丙！^5克基甲基)-3-硫代己烷、1，8-二-(p-環(huán)硫丙基硫基)-4-(p-環(huán)疏丙基硫基甲基)-3，6-二硫代辛烷、1，8-二-((J-環(huán)硫丙基硫基)4,5-二-(P-環(huán)硫丙基硫基甲基)-3，6-二疏代辛烷、1，8-二-((J-環(huán)硫丙基硫基)-4,4-二-(p-環(huán)硫丙基硫基甲基)-3,6-二硫代辛烷、1，8-二-(P-環(huán)石克丙！^?；?-2，4，5-三-(p-環(huán)硫丙基硫基甲基)-3,6-二硫代辛烷、1,8-二-(P-環(huán)硫丙基硫基)-2，5-二-(|3-環(huán)硫丙基硫基甲基)-3,6-二硫代辛烷、1，9-二-(p-環(huán)疏丙基硫基)-5-(p-環(huán)硫丙基硫基甲基)-5-(2-l3-環(huán)硫丙基硫基乙基)疏基甲基I-3,7-二硫代壬烷、1，10-二-((3-環(huán)疏丙基石克基)-5，6-二-l2，p-環(huán)硫丙差J克基乙基l硫代]-3,6，9-三硫代癸烷、1，11-二-((5-環(huán)硫丙基硫基)-4，8-二-(|3-環(huán)硫丙基硫基曱基)-3,6，9-三疏代十一烷、1，1l-二-(p-環(huán)硫丙基石克基)-5，7-二-(p-環(huán)硫丙基硫基甲基)-3，6，9-三硫代十一烷、l，ll-二-(p-環(huán)硫丙基硫基)-5，7-[(2-p-環(huán)硫丙基硫基)硫代甲基-3，6，9-三硫代癸烷和l，ll-二-(p-環(huán)硫丙基硫基)-4，7-二-(p-環(huán)硫丙基硫基甲基)-3，6,9-三硫代十一烷；和通過(guò)用甲基取代來(lái)自上述化合物的環(huán)硫基的至少一個(gè)氫原子而得到的化合物，環(huán)脂族化合物如1,3-和1，4-二-(P-環(huán)硫丙基硫基)環(huán)已烷、1,3-和1，4-二-(p-環(huán)硫丙1^充基甲基)環(huán)己烷、二-[4-(p-環(huán)硫丙J^充基)環(huán)己基]甲烷、2，2-二-4-(&環(huán)硫丙基硫基)環(huán)己基丙烷、二-[4-(P-環(huán)硫丙基硫基)環(huán)己基硫化物、2,5-二-(p-環(huán)硫丙基硫基乙基硫基曱基)-l，4-二蓉烷、2，5-二-(p-環(huán)硫丙^5?；襘S?；谆?-l，4-二噻烷、和通過(guò)用曱基取代來(lái)自上述化合物的環(huán)硫基的至少一個(gè)氫原子而得到的化合物、和芳族有機(jī)化合物如1，3-和1，4-二-(P-環(huán)硫丙基硫基)苯、1，3-和1，4-二-(p-環(huán)硫丙基硫基甲基)苯、二-4-(p-環(huán)疏丙基硫基)苯基甲烷、2，2-二-[4-((5-環(huán)硫丙1^?；?苯基1丙烷、二4-((3-環(huán)疏丙^i^?；?苯基]硫化物、二-[4-(J5-環(huán)硫丙基疏基)苯基l砜和4，4'-二-(P-環(huán)疏丙基硫基)聯(lián)苯。優(yōu)選的二環(huán)減/f匕物是具有下式的單體這里使用的術(shù)語(yǔ)"遮蔽涂層組合物的直接沉積，，是指在經(jīng)研磨和拋光的主面上沉積所述遮蔽涂層組合物，其中該主面尚未經(jīng)過(guò)任何工藝或已經(jīng)經(jīng)歷了不會(huì)可觀地影響所述細(xì)表面處理刮痕(即不會(huì)可觀地影響所述刮痕的形狀)的物理或化學(xué)工藝。在可以^使用的物理工藝、特別是用來(lái)提高遮蔽涂層對(duì)基底的粘附性的物理工藝中，可以提及常規(guī)工藝，如電暈放電處理、等離子體處理或紫外光處理。另一特別優(yōu)選的二環(huán)硫化物是具有下式的單體:在化學(xué)工藝中，可以提及使用酸或堿的常規(guī)工藝，特別是使用氫氧化鈉溶液的工藝。也可以向所述已被研磨和拋光的主面施加偶聯(lián)劑薄層，厚度S5nm。然而優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明的無(wú)可見(jiàn)表面處理刮痕的透明制品不包含偶聯(lián)劑薄層。優(yōu)選的偶聯(lián)劑是環(huán)氧基烴氧基珪烷(6poxyalcoxysilane)和不飽和的烴氧，烷的預(yù)濃縮溶液，優(yōu)選包含末端乙烯雙鍵。下面在它們用于耐磨損涂層的應(yīng)用中更詳細(xì)地描述了這些偶聯(lián)劑。根據(jù)本發(fā)明的用于遮蔽涂層的組合物可以是所有液體的、可聚合、特別是可光聚合和可熱聚合的組合物，其與所述基底的主面的接觸角等于或小于30°，優(yōu)選等于或小于25。，最優(yōu)選等于或小于20。，通過(guò)聚合形成折射率為nc的遮蔽涂層，以使得0.01〈liis-nck0.15，優(yōu)選0.05^|ns-nc|S0.15，和對(duì)于厚度小于10pm的遮蔽涂層而言，消除表面處理線條、特別是單獨(dú)細(xì)刮痕的所有可見(jiàn)性。優(yōu)選地，所述遮蔽涂層的組合物與基底主面之間的接觸角在2~17。之間，更優(yōu)選地，在515。之間。同樣優(yōu)選地，所述遮蔽涂層具有1.5~8|iim、優(yōu)選25i^m的厚度。優(yōu)選地，所述遮蔽涂層組合物不具有所有(甲基)丙烯酸酯類化合物。優(yōu)選的遮蔽涂層的組合物為環(huán)氧基化合物組合物，特別是二環(huán)氧化合物，以及特別是烷二醇的二環(huán)氧甘油醚，例如丁二醇的二環(huán)氧甘油醚，雙酚類的二環(huán)氧甘油醚，其是任選囟化的、特別是溴化的，特別是雙酚A和雙酚F的二環(huán)氧甘油醚、以及四溴雙酚A的二環(huán)氧甘油醚，和它們的混合物。在優(yōu)選的環(huán)氧化合物中，可以提及具有下式的環(huán)氧化合物及其混合物。名稱化學(xué)結(jié)構(gòu)DGEBA雙酚A的二環(huán)氧甘油醚，H2Cy"CH~"CH「0~^^~C~^^>~O一CH廠CH~CH2C2iH2404<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>專利US3981897、4058401、4101513、4138255、4161471和國(guó)際專利申請(qǐng)WO94/10230中有迷。在適合根據(jù)本發(fā)明的遮蔽涂層的光敏芳族鐵鹽中，可以提及芳基锍六氟磷酸鹽類和己烷銻酸鹽類、三苯基竭鑰和二(4-十二烷基苯基)-碘鐵。陽(yáng)離子引發(fā)劑由CIBAGEIGY以商標(biāo)名IRGACURE261和UVI6974銷售。優(yōu)選的陽(yáng)離子引發(fā)劑為具有如下結(jié)構(gòu)的化合物和這些化合物的混合物?；瘜W(xué)結(jié)構(gòu)通常，相對(duì)于用于涂層的所述組合物的總重量，在根據(jù)本發(fā)明的用于遮蔽涂層的組合物中存在的陽(yáng)離子聚合引發(fā)劑的量在0.1~5%重量之間。其它優(yōu)選的遮蔽組合物是溶M/凝膠型組合物，如基于環(huán)氧基硅烷的水解產(chǎn)物的組合物。優(yōu)選的環(huán)氧基烴氧基硅烷含有環(huán)氧基和三個(gè)烴氧基，后者直接與珪原子鍵合。優(yōu)選的環(huán)氧基烴氧基硅烷可以是具有p-(3,4-環(huán)氧基環(huán)己基)基團(tuán)的烴氧M烷，如p-(3，4-環(huán)氧基環(huán)己基)乙基三甲氧l^烷。特別優(yōu)選的環(huán)氧基烴氧基硅烷具有式(I):<formula>formulaseeoriginaldocumentpage3</formula>其中R1是具有1~6個(gè)碳原子的烷基，優(yōu)逸甲基或乙基，R2是甲基或氫原子，a是1~6的整數(shù)，b是0、l或2。這類環(huán)氧1^:烷的實(shí)例為，環(huán)氧丙氧基丙基-三乙氧M烷或y-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷。用于根據(jù)本發(fā)明的遮蔽涂層的組合物還可以含有膠體，特別是具有高折射率的膠體，即其折射率^》1.54,更特別的是金屬氧化物的膠體，如Si02、Ti02，、Zr02、Sn02、Sb203、Y203、Ta20s及其混合物的膠體。優(yōu)選的膠體為Si02、Ti02、ZK)2及其混合物。優(yōu)選的顆粒為基于下述氧化物Si02/Ti02、Si02/Zr02和Si02/Ti02/Zr02的復(fù)合顆粒。優(yōu)選地，TK)2為金紅石型Ti02。一種更特別優(yōu)選的膠體是選自Ti02/Zr02/Si02/Sn02復(fù)合物的膠體的無(wú)機(jī)膠體，其中TK)2具有金紅石型晶體結(jié)構(gòu)。這類膠體可以從CatalystsandChemical公司得到。特別推薦的復(fù)合顆粒在專利EP730168、JP11310755、JP200204301、JP2002363442中有述。優(yōu)選地，用于遮蔽涂層的組合物不含有銳鈦礦型Ti02,并且不形成含有選自以下的無(wú)機(jī)膠體的基于Y-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷的漆膜銳鈦礦型晶體結(jié)構(gòu)的TK)2和其中Ti02為銳鈦礦型晶體結(jié)構(gòu)的Ti02/Zr02/Si02復(fù)合物。通常，所述膠體顆粒的尺寸在1080nm之間，優(yōu)選在1030nm之間。特別地，所述無(wú)才幾氧化物可以由小尺寸(即10~15nm)的顆粒和大尺寸(即30-80nm)的顆粒的混合物組成。在膠狀無(wú)機(jī)氧化物的混合物的情況下，優(yōu)選地，該混合物包含至少一種低折射率氧化物(<1.54)，低折射率氧化物/高折射率氧化物的重量比通常在20/80~80/20之間，優(yōu)選在30/70~70/30之間，更優(yōu)選在40/60~60/40之間。典型地，用于根據(jù)本發(fā)明的遮蔽涂層的組合物可以含有5質(zhì)量％~50質(zhì)量％的膠體。所述遮蔽涂層的組合物通過(guò)旋涂或通過(guò)浸涂進(jìn)行沉積。優(yōu)選地，本發(fā)明的方法還包括在所述遮蔽涂層上形成一種或若干功能涂層的步驟，所述涂層即賦予該制品多種有利的光學(xué)和機(jī)械性能(如抗沖擊、耐磨損、消除反射等)的涂層。因此，通常，所述遮蔽涂層可以直接用耐磨損層覆蓋，或用改善該制品的耐沖擊性的底涂層覆蓋，在其上可以沉積耐磨損層，所述底涂層也可改善耐磨損層的錨著性。也可以在所述耐磨損層上沉積抗反射涂層，最后也可以用疏水和疏油性防污涂層涂布所述抗反射涂層。所述遮蔽涂層、底涂層或耐磨損涂層可以含有不同類型的添加劑，如UV吸收劑、顏料和光致變色顏料。在需要為最終的眼科透鏡賦予光致變色性能的情況下，本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式是在所述基底上沉積遮蔽涂層，然后在該遮蔽涂層上沉積含有光致變色顏料的聚氨酯底涂層。當(dāng)存在底涂層時(shí)，所述底涂層可以是常規(guī)用于光學(xué)部件、特別是眼科光學(xué)部件的任何底涂層。典型地，這些底涂層、特別地耐沖擊底涂層是基于曱基丙烯酸系聚合物、聚氨酯或聚酯的涂層，或基于環(huán)fly(甲基)丙烯酸酯共聚物的涂層。所述基于(曱基)丙烯酸系聚合物的耐沖擊涂層尤其在US5,015,523和US5,619,288中有述，而基于熱塑性和網(wǎng)狀聚氨酯樹(shù)脂的涂層尤其在曰本專利63-141001和63-87223、歐洲專利EP-040411和美國(guó)專利US國(guó)5，316，791中有述。特別地，本發(fā)明的耐沖擊底涂層可以由聚(甲基)丙烯酸系膠乳制備，包括例如在法國(guó)專利申請(qǐng)F(tuán)R2,790,317中所述的核殼型，或者由聚氨酯膠乳、聚酯膠乳制備。在特別優(yōu)選的耐沖擊底涂層組合物中，可以提及由Zeneca以商品名A-639銷售的丙烯酸系膠乳和由Baxenden以商品名W-240和W-234銷售的聚氨酯膠乳。優(yōu)選地，選擇顆粒尺寸S50nm、更優(yōu)選地^20nm的膠乳。特別優(yōu)選的膠乳是聚氨酯膠乳。一般地，在硬化之后，所述耐沖擊底涂層具有0.05~20pm、優(yōu)選0.5~10nm、更優(yōu)選0.66pm的厚度。最佳的厚度通常為0.5~2jam。一般地，所述底涂層具有在1.47~1.55之間、優(yōu)選在1.51~1.53之間的折射率。形成(膠乳)耐沖擊底涂層包括在所述遮蔽涂層上沉積膠乳和使所述膠乳硬化，至少部分硬化。所述耐磨損涂層可以是常規(guī)用在光學(xué)部件、特別是眼科光學(xué)部件中的任何耐磨損涂層。根據(jù)定義，耐磨損涂層是與不含所述耐磨損涂層的相同制品相比，最終光學(xué)制品的耐磨損性有所改善的涂層。優(yōu)選的耐磨損涂層是通過(guò)使包含一種或若干環(huán)氧烴氧基硅烷或其水解產(chǎn)物、二氧化硅和硬化催化劑的組合物硬化而得到的那些。所述組合物的實(shí)例在國(guó)際專利申請(qǐng)WO94/10230、US專利4,211,823和5,015,523和歐洲專利EP614957中有述。特別優(yōu)選的耐磨損涂層組合物是含有環(huán)氧基爛氧基法烷(例如Y-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(GLYMO))、二烷基二烴氧基硅烷(例如二甲基二乙氧基硅烷(DMDES))、膠體二氧化硅和催化劑用量的硬化催化劑(如乙酰丙酮鋁)或這些組分的水解產(chǎn)物作為主要成分的那些，所述組合物的其余部分基本上由常規(guī)用于配制這些組合物的溶劑和任選地一種或若干表面活性劑組成。為了改善所述耐磨損涂層的粘附性，所述耐磨損涂層的組合物可以任選地含有有效量的偶聯(lián)劑。這種偶聯(lián)劑典型地是環(huán)氧基烴氧基硅烷和不飽和的經(jīng)氧基硅烷的預(yù)濃縮溶液，優(yōu)選含有末端乙烯雙鍵。環(huán)氧基烴氧1^烷的實(shí)例為y-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧M烷，Y一環(huán)氧丙氧基丙^i曱基二硅氧烷，y一環(huán)氧丙氣基丙基甲基二異丙烯氧基眭烷，y-環(huán)氧丙氧基丙基甲基二乙氧M烷，y-環(huán)氧丙氧基丙基二甲氧基乙ItJ^烷，y-環(huán)氧丙氧基丙基二異丙基乙氧Jji烷和Y-環(huán)氧丙氧基丙基二(三曱基甲硅氧基)甲Ui烷。優(yōu)選的環(huán)氧基烴氧基硅烷為(Y-環(huán)氧丙氧基丙基)三甲氧基硅烷。所述不飽和的烴氧基珪烷可以是乙烯jj^烷類、烯丙基眭烷類、丙埽酸系或甲基丙烯酸系硅烷類。乙烯基硅烷類的實(shí)例為乙烯基三(2-曱氧基乙氧基)硅烷，乙烯基三異丁氧^烷、乙烯基三叔丁氧基硅烷、乙烯基三苯氧基硅烷、乙烯基三甲氧JJ^烷、乙烯基三異丙氧M烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧^iJ^烷、乙烯基甲基二乙氧M烷、乙烯基甲基二乙酰氧基硅烷、乙烯基二(三甲M氧基)硅烷和乙烯基二甲氧M烷。烯丙基硅烷類的實(shí)例為烯丙基三甲氧基珪烷、烯丙基三乙氧基洼烷和烯丙基三(三甲基甲硅氧基)硅烷。丙烯酸系硅烷類的實(shí)例為3-丙烯酰氧基丙基三(三甲基甲硅氧基)硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧M烷、丙烯酰氧基丙基甲基-二曱氧M烷、3-丙烯酰氧基丙基曱基二(三甲基甲硅flJO硅烷、3-丙烯酰氧基丙基二曱基甲lL&硅烷、n-(3-丙烯酰氧基-2-羥基丙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷。甲基丙烯酸系硅烷的實(shí)例為3-甲基丙烯酰氧基丙基三(乙烯基二甲氧基甲硅氧基)硅烷、3-曱基丙烯酰氧基丙基三(三甲基甲硅氧基)硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三(甲氧基乙氧基)硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三曱氧J^:烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基五曱基二硅氧烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲^L^烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙fLi^烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基二曱基甲M^烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基二曱基乙lLi^烷、3-甲基丙烯酰氧基丙烯基三曱氧l^烷、和3-甲基丙烯酰氧基丙基二(三甲基甲硅氧基)甲M烷。優(yōu)選的硅烷為丙烯酰氧基丙基三甲氧M烷。典型地，加入所述耐磨損涂層組合物中的偶聯(lián)劑的量是所述組合物的總重量的0.1~15重量％、優(yōu)選1~10重量％。硬化后，所述耐磨損涂層的厚度通常為1~15pm、優(yōu)選2~6^m。所述耐沖擊底涂層的組合物和所述耐磨損涂層的組合物可以通過(guò)熱和/或輻射、優(yōu)選通過(guò)熱來(lái)進(jìn)行硬化。所述耐沖擊底涂層和耐磨損涂層可以通過(guò)任何常規(guī)方法、例如通過(guò)浸'凃或旋涂、優(yōu)選通過(guò)旋涂形成。因此，形成這些層的組合物優(yōu)選為溶膠-^Mi且合物。本發(fā)明的方法可以任選地包括在所述耐磨損涂層上沉積抗反射涂層的步驟。所述抗反射涂層可以是常規(guī)用于光學(xué)部件、尤其是用于眼科光學(xué)部件中的任何抗反射涂層。作為示范，所述抗反射涂層可以由介電材料如SiO、Si02、Si3N4、Ti02、Zr02、A1203、MgF2或Ta20s或其混合物構(gòu)成的單層或多層膜組成。以這種方式，可以防止在所述透鏡-空氣界面處發(fā)生反射。通常根據(jù)下列技術(shù)之一通過(guò)在真空中沉積來(lái)涂布這種抗反射涂層-通過(guò)蒸發(fā)，任選地借助于離子束；-通過(guò)離子束霧化；-通過(guò)陰極'踐射；-通過(guò)等離子輔助的氣相化學(xué)沉積。至于真空沉積，也可以設(shè)想通過(guò)溶劑-凝膠法(例如基于四乙氧M烷的水解產(chǎn)物)來(lái)實(shí)現(xiàn)無(wú)機(jī)層的沉積。在其中所述膜由單層組成的情況下，其光學(xué)厚度必須等于X/4U是450650nm之間的波長(zhǎng))。對(duì)包括三層的多層膜來(lái)說(shuō)，可以采用對(duì)應(yīng)于相應(yīng)光學(xué)厚度V4、X/2、1/4或1/4、V4、1/4的組合。在本發(fā)明的一個(gè)推薦實(shí)施方式中，所述方法包括在所述遮蔽涂層和耐沖擊底涂層之間形成一個(gè)或若干抗干涉條紋涂層，優(yōu)選每個(gè)涂層構(gòu)成在400~700nm、優(yōu)選450~650nm范圍內(nèi)的四分之一波片。下式給出了所述四分之一波片的光學(xué)和幾何特征n=(ncxnp)1/2，和其中n是所述四分之一波片在25。C下對(duì)于波長(zhǎng)入-550nm(對(duì)應(yīng)于眼睛的最大敏感性的波長(zhǎng))的折射率。iic是所述遮蔽涂層在25。C下對(duì)于波長(zhǎng)A^550nm處的折射率，和np是直接與所述四分之一波片接觸的所述耐沖擊底涂層在25。C下對(duì)于波長(zhǎng)入=550nm的折射率。換句話說(shuō)，所述四分之一波片的折射率n是周圍材料的折射率的幾何平均值。形成所述^波長(zhǎng)涂層的一層或多層抗條紋涂層優(yōu)選包含至少一種通常選自Si02、Ti02、Zr02、Sn02、Sb203、Y203、1&205及其混合物的膠體無(wú)機(jī)氧化物。優(yōu)選的膠體無(wú)機(jī)氧化物是Si02、Ti02、Zr02及其混合物SiO/Ti02和Si02/Zr02。優(yōu)選的膠體二氧化硅是通過(guò)St6ber法制備的二氧化硅。St6ber法是一種簡(jiǎn)單、眾所周知的方法，其包括正硅酸乙基酯(Si(OC2H5)4或TEOS)在乙醇中由氨草膠催化的水解和縮合。該方法使得到直接在乙醇中的二氧化硅、實(shí)際上單分散的顆粒的群體、可調(diào)節(jié)的顆粒尺寸和(SKTNH。顆粒表面成為可能。在膠體無(wú)機(jī)氧化物的混合物的情況下，所述混合物優(yōu)選地包含至少一種高折射率(即折射率4521.54)氧化物和至少一種低折射率(即折射率<1.54)氧化物。優(yōu)選地，所迷無(wú)機(jī)氧化物混合物是二元混合物，特別是低折射率氧化物和高折射率氧化物的二元混合物。一般地，低折射率氧化物/高折射率氧化物的重量關(guān)系在20/80~80/20、優(yōu)選30/70~70/30、更優(yōu)選40/60~60/40之間。所述無(wú)機(jī)氧化物顆粒的尺寸通常在10~80nm、優(yōu)選3080nm、更優(yōu)選30~60腿之間。特別地，所述無(wú)機(jī)氧化物可以由小尺寸(即10~15nm)顆粒和大尺寸(即30~80nm)顆豐立的混合物組成。典型地，所述膠體無(wú)機(jī)氧化物層或所述膠體無(wú)機(jī)氧化物各層具有60~100nm、優(yōu)選7090nm、更優(yōu)選80~90nm的厚度。應(yīng)該理解的是，考慮到用于所述光學(xué)制品的材料，必須選擇該厚度以使得盡可能地與四分之一波片的理論厚度相接近，從而得到削弱干涉條紋的最佳結(jié)果。所述膠體無(wú)機(jī)氧化物的層優(yōu)選通常含有不會(huì)損害最終四分之一波片的光學(xué)性能和提高所述無(wú)機(jī)氧化物顆粒在所述遮蔽涂層表面處的附著力的聚合物材料。所述粘結(jié)劑通常是與上述的耐沖擊底涂層的組合物相似的材料。優(yōu)選的粘結(jié)劑是聚氨酯膠乳和(甲基)丙烯酸系膠乳，最特別地是聚氨酯膠乳。所述粘結(jié)劑可以被全部或部分添加到所述膠體無(wú)機(jī)氧化物的組合物中而形成抗條紋涂層，或者它們可以源于由之后立即沉積的耐沖擊底涂層的材料對(duì)一個(gè)或若干無(wú)機(jī)氧化物層的孔隙的填充作用。因此，可以在無(wú)粘結(jié)劑的情況下，和在采用所述底涂層的聚合物材料填充之前，在所迷遮蔽涂層上形成具有相對(duì)于所述層的總體積孔隙率為至少40體積％、優(yōu)選約50體積％的一個(gè)或若干膠體無(wú)機(jī)氧化物層，或者在用耐沖擊底涂層的組合物的聚合物材料填充之前，在所述遮蔽涂層上形成含有至少一種粘結(jié)劑(相對(duì)于所述層內(nèi)的無(wú)機(jī)氧化物的干重，例如1~30重量％、優(yōu)選10~25重量°/。、更優(yōu)選10~20重量％)的一個(gè)或若干膠體無(wú)機(jī)氧化物層，其優(yōu)選具有至少25體積％、更優(yōu)選至少30體積％的孔隙率。在所述遮蔽涂層上沉積膠體無(wú)機(jī)氧化物層可以通過(guò)在膠體無(wú)機(jī)氧化物溶膠中進(jìn)行浸涂或旋涂該溶膠來(lái)實(shí)現(xiàn)，優(yōu)選通過(guò)浸涂。在通過(guò)浸涂沉積的情況下，沉積的厚度是所述溶膠中干物質(zhì)的比例、顆粒尺寸和反濕潤(rùn)速度(Landau-Levich定理)的函數(shù)。因此，知道了所述溶膠的組成、顆粒尺寸、遮蔽涂層和底涂層的折射率，可以確定所述膠體無(wú)機(jī)氧化物層的所需厚度和適合得到所需厚度的反濕潤(rùn)速度。在干燥所述被沉積的層后，得到所需厚度的多孔性膠體無(wú)機(jī)氧化物層。該層的孔隙率是一個(gè)關(guān)鍵標(biāo)準(zhǔn)，必須是在不含粘結(jié)劑的情況下至少40體積%、優(yōu)選至少50體積％，在存在粘結(jié)劑的情況下至少25體積％、優(yōu)選至少30體積％。所迷層的孔隙率可以由通過(guò)橢圓光度法測(cè)量的所述層的折射率計(jì)算。在不含粘結(jié)劑的層的情況下所述多孔性膠體無(wú)機(jī)氧化物層的孔隙率是<formula>formulaseeoriginaldocumentpage30</formula>其中，Vp是層中孔的體積，和Vox是層中被所述無(wú)機(jī)物占據(jù)的體積。這里，層的孔隙率p等于不存在粘結(jié)劑時(shí)的孔隙率?？紫抖韧ㄟ^(guò)折射率來(lái)計(jì)算-nm(由橢圓光度法測(cè)量)，是所述多孔性無(wú)機(jī)層的折射率，-nQX，是所述無(wú)機(jī)氧化物顆粒(如果使用若干氧化物，任選地被混合)的平均折射率。以及/>式《=p+《(l-p)其中p是所迷孔的體積比例，假設(shè)孔中充滿空氣，l-p是所述無(wú)機(jī)氧化物的體積比例。折射率是在25-C、波長(zhǎng)632nm條件下測(cè)定的。在含粘結(jié)劑的層的情況下層的孔隙率p由下列公式計(jì)算(1)n2m=p+《《+W其中，n。,是多孔性無(wú)機(jī)氧化物層的折射率；p:層的孔隙率VpVtotalx。x表示層中所述無(wú)機(jī)物的體積比例X|表示層中粘結(jié)劑的體積比例X=Vox0X—Vtotal，Xl=VtotalVp、Vox,Vtotal分別表示孔(空氣)、層占據(jù)的體積；n。x是無(wú)機(jī)氧化物顆粒的折射率；n,是粘結(jié)劑的折射率。(2)p+xi+xoxx,m無(wú)機(jī)氧化物、粘結(jié)劑和整個(gè)=1(3)xx。x:moxd。x=無(wú)機(jī)氧化物的密度；d,=粘結(jié)劑的密度；mi=層中粘結(jié)劑的干質(zhì)量；m。^層中無(wú)機(jī)氧化物的千質(zhì)量。不存在粘結(jié)劑時(shí)的孔隙率定義為p，=氣占據(jù)時(shí)該層將具有的孔隙率。p和p'的值是通過(guò)橢圓光度法測(cè)量n知的，比值A(chǔ)在實(shí)驗(yàn)中被固定。Xp+Xl,即如果粘結(jié)劑的體積;故空而得到的，折射率n。x和n，是已不同的折射率是在25°C、波長(zhǎng)為632nm條件下測(cè)定的。實(shí)施例下面實(shí)施例說(shuō)明了本發(fā)明。在該實(shí)施例中，除非另作說(shuō)明，否則所有百分?jǐn)?shù)都是重量百分?jǐn)?shù)，折射率是在25°C、波長(zhǎng)X=550nm條件下測(cè)量的。對(duì)具有基數(shù)6.75(基數(shù)-530/R，以mm為單位，其中R是透鏡的曲率半徑)、由MITSUI銷售的MR7材料(基于聚疏氨酯)制得的、折射率《為1.660、倍率為-6.00屈光度的半成品球形眼科透鏡進(jìn)行如下所示的表面處理。不論對(duì)凹面或凸面的表面處理按照如下方式進(jìn)行在SCHNEIDERHSC100機(jī)器上加工。采用半徑為2mm、轉(zhuǎn)速小于或等于600rpm、前進(jìn)運(yùn)動(dòng)小于或等于0.04mm/轉(zhuǎn)、切削深度等于O.lmm的單晶金剛石工具進(jìn)行精制。在SCHNEIDERCCP101機(jī)器上進(jìn)行拋光。拋光墊是植絨織物。磨料是POLILENS+型的氧化鋁。為了精制，所述工具以900rpm的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，活塞內(nèi)部的空氣壓力顯示為l巴。在表面處理后，眼科透鏡的最終倍率為+6.00屈光度，加3.50屈光度。然后，如下面的表l所示，在已被研磨和拋光的透鏡上沉積不同的涂層。遮蔽涂層的組合物的沉積當(dāng)凸面已經(jīng)經(jīng)it^面處理時(shí)，通過(guò)旋涂法在凸面上沉積遮蔽涂層的組合物，或當(dāng)凹面已經(jīng)經(jīng)#面處理時(shí)，通過(guò)旋涂法在凹面上沉積遮蔽涂層的纟且合物。為了沉積遮蔽組合物M1，旋涂速率為2300rpm，所得厚度為2,3微米。為了沉積遮蔽組合物M2，旋涂速率為2500rpm，所得厚度為2微米。采用LH6-熔化燈(D、V或H燈)硬/f匕該遮蔽涂層。所述遮蔽組合物Ml是由58摩爾％DGEBF(雙酚F的二環(huán)氧甘油醚)和42摩爾。/。DEGBA(雙酚A的二環(huán)氧甘油醚)組成的組合物，在4-羥基-4-甲基-2-戊酮(CH3)2C(OH)CH2COCH3(得自VWR國(guó)際)中被稀釋至50%。所述遮蔽組合物M2是由DGEBA(雙酚A的二環(huán)氧甘油醚)組成的組合物，在4-羥基-4-甲基-2-戊酮(CH3)2C(OH)CH2COCH3(HMP，得自VWR國(guó)際)中被稀釋至50重量％。組合物Ml和M2的組成和特征試劑性能MlM2DGEBF:DGEBAHMP溶劑50重量％DGEBF+DGEBA50重量％DGEBF%摩爾DGEBA%摩爾陽(yáng)離子引發(fā)劑5842■95DGEBA雙酚F的二環(huán)氧甘油醚雙酚A的二環(huán)氧甘油醚陽(yáng)離子引發(fā)劑有有iidTTe1.6141.61080'C和115'C.5881.584105。C<formula>formulaseeoriginaldocumentpage33</formula>的混合物,抗條紋層的沉積制備最終折射率為0.580、厚度為87nm的抗干涉條紋層。這樣的層可以通過(guò)按照專利申請(qǐng)EP1362246的實(shí)施例8~13的操作參數(shù)來(lái)制備。耐沖擊底涂層Pl組合物的沉積一旦沉積了遮蔽涂層和任選地抗條玟層，將該制品在5'C下在含有聚氨酯膠乳W234(得自BAXENDEN)的底涂層P組合物中浸漬4分鐘。移出后，在80。C下干燥該底涂層20分鐘，放置冷卻15分鐘。耐磨損組合物HC1的沉積在5'C下，將涂布有源自組合物P的底涂層的透鏡在用于耐磨損涂層的組合物HC1中浸漬4分鐘。然后烘烤組合物HC1。以這種方式，得到了在兩表面上都具有底涂層和硬耐磨損涂層的制品。用于耐磨損涂層HC1的組合物如下制備將80.5份的0.1NHC1以滴加的方式引入含有224份GLYMOy-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷和120份DMDES二甲基二乙氧基硅烷的溶液中。在室溫下攪拌該溶液24小時(shí)，然后加入718份30%膠體二氧化硅的甲醇溶液、15份乙酰丙酮鋁和44份乙基溶纖劑。加入少量的表面活性劑。理論上，組合物HC1的干提取物含有約13%的來(lái)自水解的DMDES的固體物質(zhì)。組合物HC1的硬化涂層的折射率為1.49。耐磨損涂層HC2的沉積耐磨損涂層HC2是通過(guò)^J^于y-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷的水解產(chǎn)物和Ti02/Zr02/Si02混合膠體的涂層組合物硬化來(lái)得到的高折射率涂層(1.60)。然后通過(guò)如下所述的規(guī)程評(píng)價(jià)在所得眼科透鏡上出現(xiàn)的光學(xué)缺陷。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage35</column></row><table>漸進(jìn)片+6.00，加3.50,由Delamare提供的植絨襯墊Ferro牌的polispeed型拋光液底涂層P與基底的接觸角MR7為42.7°。200680030446.2轉(zhuǎn)溢齒被28/313實(shí)施例5和6:沉積具有可變接觸角的涂層組合物采用兩種與組合物M2不同的濃度的HMP溶劑4-羥基-4-甲基-2-戊酮(CH3)2C(OH)CH2COCH3制備兩個(gè)遮蔽涂層組合物溶液M3(通過(guò)在HMP中于70重量％稀釋M2)和溶液M4(在HMP中于30重量％稀釋)。這樣可以在折射率為1.67的基底上改變組合物的接觸角。首先，測(cè)量在模壓雙面1.67眼科透鏡上的漆膜M3和M4的接觸角。操作規(guī)程如下所用裝置是由GBX儀器科技/〉司(GBXInstrumentationScieiitifique)制造的DIGIDROP。這是一種自動(dòng)測(cè)量接觸角和潤(rùn)濕性的裝置。DIGIDROP包括照相機(jī)、圖像分析和處理系統(tǒng)及測(cè)量程序。液滴微控制器使簡(jiǎn)單地使用視頻控制監(jiān)視器沉積精準(zhǔn)量的液體成為可能。手動(dòng)或自動(dòng)地使基底與液體接觸；消除由外力而不是由表面張力所造成的影響。因此可以清楚地識(shí)別潤(rùn)濕現(xiàn)象。由照相機(jī)和大照相機(jī)透鏡組成的DIGIDROP光學(xué)系統(tǒng)提供了液滴的放大和精確的圖像，沒(méi)有像差。然后軟件可以分析液滴的數(shù)字化圖像，確定它的幾何特征。從而可以確定接觸角e，對(duì)應(yīng)于固體表面與液體表面的切線之間的角度。之后，通過(guò)旋涂法在由通過(guò)以上實(shí)施例1~4所述的表面處理方法得到的折射率《為1.660、幾何+6.00加3.50的基底MR7制得的漸進(jìn)片的凸面上沉積遮蔽涂層M3和M4。為了遮蔽涂層M3和M4的粘度不影響覆蓋能力，在通過(guò)旋涂進(jìn)行沉積的步驟和UV聚合之間有一個(gè)時(shí)間推移。在所述組合物聚合之后涂層的厚度是4微未。在沉積底涂層P和耐磨損漆膜HC1后，用如下所迷的規(guī)程在透射下觀察透鏡的表面缺陷(線條，表面刮痕)。表Il<table>tableseeoriginaldocumentpage37</column></row><table>測(cè)量光學(xué)缺陷的規(guī)程。圖3所示顯示了測(cè)量裝置，其是在透射下的測(cè)量裝置，以及測(cè)量示意圖。測(cè)量裝置包括含有加長(zhǎng)形狀的光源(5)和光圏(6)、具有不透明壁U)的容器(3)，該光團(tuán)(6)呈狹縫形式，與光源(5)平行^L置。將光源(5)相對(duì)于光源(6)偏心放置，從而從與光圏(6)相對(duì)的位置處觀察，觀測(cè)者(7)幾乎看不到整個(gè)光源(5)。將待檢測(cè)表面缺陷的透鏡(8)放置在觀察區(qū)(9)內(nèi)、與光圏(6)相對(duì)、距離光源(5)約200mm，以使得該透鏡(8)的光學(xué)軸(未示出)與觀測(cè)者(7)的觀察方向(10)平行。進(jìn)行測(cè)量的觀測(cè)者的每只眼睛具有10/10的視力，這樣放置觀測(cè)者的眼睛，從而它們位于距離待觀察的透鏡約500mm處。如圖4所示，當(dāng)觀測(cè)者(7)在每個(gè)視覺(jué)區(qū)域中看到所述裝置時(shí)，觀測(cè)者(7)和透鏡(8)位于正確的位置。如前面所述的那樣、在光圏(6)的前面放置透鏡(8)。檢測(cè)區(qū)(10)是通過(guò)透鏡(8)觀看其上半部分與光源(5)的邊緣(11)鄰接、通過(guò)透鏡(8)和透鏡(8)的邊緣(13)觀看其下半部分與開(kāi)孔(6)的下邊緣(12)鄰接的區(qū)域。如圖4所示的檢測(cè)區(qū)(10)顯出了透鏡(8)的大約1/3表面。然后重新放置該透鏡(8)，以便可以在所述檢測(cè)區(qū)中看到整個(gè)的光學(xué)表面。進(jìn)行檢測(cè)的房間內(nèi)的環(huán)境光必須控制在60~130lux之間。觀測(cè)區(qū)(9)內(nèi)的光必須在600~1200lux之間。如果觀測(cè)者如前面規(guī)定的那樣、在上述規(guī)程中定義的測(cè)量條件下于4~8秒的透鏡觀測(cè)時(shí)間內(nèi)沒(méi)有看見(jiàn)缺陷，則認(rèn)為透鏡(或者更一般地，為本發(fā)明透明材料的制品)不具有可見(jiàn)光學(xué)表面缺陷或可見(jiàn)表面處理線條。權(quán)利要求1.一種獲得無(wú)可見(jiàn)表面處理線條的透明制品的方法，其包括-得到由折射率為ns的透明材料制成的基底，其至少一個(gè)主面已被研磨和拋光到在0.001～0.01μm之間的Ra值，但其具有以單獨(dú)細(xì)刮痕形式的可見(jiàn)表面缺陷；-在該基底的所述已被研磨和拋光的主面上直接沉積遮蔽涂層的液體可聚合組合物，其與該基底的所述主面的接觸角等于或小于30°，和其在聚合時(shí)形成折射率為nc和厚度小于10μm的遮蔽涂層，以使得0.01＜|ns-nc|≤0.15，優(yōu)選0.05≤|ns-nc|≤0.15；-聚合所述遮蔽涂層的組合物；和-重新得到所述透明制品，其基底的所述已被研磨和拋光的主面被直接覆蓋所述遮蔽涂層，和其不具有可見(jiàn)的細(xì)小表面處理刮痕。2.根據(jù)權(quán)利要求l所述的方法，其中所述單獨(dú)細(xì)刮痕具有楔形截面。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中所述基底的已被研磨和拋光的主面在拋光步驟之前尚未經(jīng)歷精磨步驟。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的方法，其中所述單獨(dú)細(xì)刮痕的出現(xiàn)不具有規(guī)律性。5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的方法，其中所述單獨(dú)細(xì)刮痕的出現(xiàn)集中位于所述基底的主面上。6.根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述遮蔽涂層的組合物與所述基底的主面的接觸角等于或小于25。，優(yōu)選等于或小于20。，7.根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述遮蔽涂層的組合物與所述基底的主面的接觸角在2~17°、優(yōu)選5~15°之間。8.根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述遮蔽涂層具有1.5~8|iim、優(yōu)選2~5pm的厚度。9.根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述遮蔽涂層的組合物含有環(huán)氧化合物。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述環(huán)氧化合物包含每分子至少兩個(gè)環(huán)氧基團(tuán)。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中所述環(huán)氧化合物選自雙酚類的二環(huán)氧甘油醚、烷醇類的二環(huán)氧甘油醚及它們的混合物。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述環(huán)氧化合物選自雙酚A和雙酚F的二環(huán)氧甘油醚、雙酚A和雙酚F的溴化二環(huán)氧甘油醚、丁二醇的二環(huán)氧甘油醚及它們的混合物。13.根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述遮蔽涂層的組合物不含有任何(甲基)丙烯酸酯化合物。14.才艮據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述遮蔽涂層的組合物是可光聚合的組合物。15.根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中其包含至少一種陽(yáng)離子引發(fā)劑。16.根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中所述遮蔽涂層的組合物通過(guò)旋涂或通過(guò)浸涂進(jìn)行沉積。17.4艮據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中其還定義為包括在所述遮蔽涂層上形成耐沖擊底涂層的步驟。18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中形成所述耐沖擊底涂層的步驟包括在所述遮蔽涂層上沉積膠乳和至少部分地^f吏所述膠乳硬化。19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中所述膠乳選自(甲基)丙烯酸系膠乳和聚氨酯膠乳，優(yōu)選聚氨酯膠乳。20.根據(jù)權(quán)利要求17至19任一項(xiàng)所述的方法，其中其包括在所述遮蔽涂層和所述耐沖擊底涂層之間形成抗干涉條紋涂層的步驟。21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，其中所述抗干涉條紋涂層構(gòu)成四分之一波片。22.根據(jù)權(quán)利要求17至21任一項(xiàng)所述的方法，其中其還包括在所述耐沖擊底涂層上形成耐磨損涂層的步驟。23.根據(jù)前述任一權(quán)利要求所迷的方法，其中所述基底材料的折射率ns等于或大于1.60，優(yōu)選等于或大于1.65，更優(yōu)選等于或大于1.70。24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的方法，其中所述基底材料選自聚硫氨酯的均聚物和共聚物、多聚環(huán)石克化物的均聚物和共聚物、聚碳酸酯的均聚物和共聚物、聚石克代(曱基)丙烯酸酯的均聚物和共聚物以及它們的組合，優(yōu)選聚硫氨酯的均聚物和共聚物。25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的方法，其中所述基底材料是源自至少一種二異氰酸酯和至少一種多元硫醇的加聚的基于聚疏氨酯的材料。26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中所述二異氰酸酯是二甲苯二異氰酸酯(C6H4(CH2NCO)2。27.根據(jù)權(quán)利要求25或26所述的方法，其中所述多元硫醇選自三元石克醇和四元^克醇。28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的方法，其中所述多元硫醇選自具有下式的化合物<formula>formulaseeoriginaldocumentpage4</formula>29.根據(jù)權(quán)利要求25所述的方法，其中所述基底材料源于二曱苯二異氰酸酯與具有下式的多元硫醇的加聚<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>30.根據(jù)權(quán)利要求24所述的方法，其中所述基底材料是源自具有下式的二環(huán);5?；锏木酆匣蚬簿鄣玫降亩嗑郗h(huán)硫化物的均聚物或共聚物<formula>formulaseeoriginaldocumentpage5</formula>或者31.根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的方法，其中其形成光學(xué)透鏡，優(yōu)選眼科透鏡。32.—種制品，其包括由折射率為ns的透明材料制成的基底，該基底的至少一個(gè)主面具有在0.0010.01pm之間的Ra值和具有以單獨(dú)細(xì)刮痕形式的可見(jiàn)表面缺陷，和折射率為nc、厚度小于10的直接覆蓋該基底的所述主面的透明遮蔽涂層，所述折射率iis和nc滿足關(guān)系0.01<|ns-nc|《0.15。33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的制品，其中所述單獨(dú)細(xì)刮痕具有楔形截面。34.根據(jù)權(quán)利要求32或33所述的制品，其中所述遮蔽涂層不含有基于Y-環(huán)氧丙氧基丙基三曱氧基硅烷的漆膜，所述漆膜含有選自具有銳鈦礦型晶體結(jié)構(gòu)的Ti02和其中Ti02具有銳鈦礦型晶體結(jié)構(gòu)的混合物Ti02/Zr02/Si02的無(wú)才幾膠體。35.根據(jù)權(quán)利要求32至34任一項(xiàng)所迷的制品，其中所述單獨(dú)細(xì)刮痕的出現(xiàn)不具有規(guī)律性。36.根據(jù)權(quán)利要求32至35任一項(xiàng)所述的制品，其中所述單獨(dú)細(xì)刮痕的出現(xiàn)集中位于所g底的主面上。37.根據(jù)權(quán)利要求32至36任一項(xiàng)所述的制品，其中所述遮蔽涂層具有1.5~8]nm、優(yōu)選2~5pm的厚度。38.根據(jù)權(quán)利要求32至37任一項(xiàng)所述的制品，其中所述遮蔽涂層的組合物含有環(huán)氧化合物。39.根據(jù)權(quán)利要求38所述的制品，其中所述環(huán)氧化合物包含每分子至少兩個(gè)環(huán)氧基團(tuán)。40.根據(jù)權(quán)利要求39所述的制品，其中所述環(huán)氧化合物選自雙酚類的二環(huán)氧甘油醚、烷醇類的二環(huán)氧甘油醚及它們的混合物。41.才艮據(jù)斥又利要求40所述的制品，其中所述環(huán)氧化合物選自雙酚A和雙酚F的二環(huán)氧甘油醚、雙酚A和雙酚F的溴化二環(huán)氧甘油醚、丁二醇的二環(huán)氧甘油醚及它們的混合物。42.根據(jù)權(quán)利要求32-41任一項(xiàng)所述的制品，其中所述遮蔽涂層的組合物不含有任何(甲基)丙烯酸酯化合物。43.根據(jù)權(quán)利要求32-42任一項(xiàng)所述的制品，其中其包含在所述遮蔽涂層上的耐沖擊底涂層。44.根據(jù)權(quán)利要求43所述的制品，其中所述耐沖擊底涂層包含選自(甲基)丙烯酸系膠乳和聚氨酯膠乳、優(yōu)選聚氨酯膠乳的硬化膠乳。45.根據(jù)權(quán)利要求43至44任一項(xiàng)所述的制品，其中其包含在所述遮蔽涂層和所述耐沖擊底涂層之間的抗干涉條紋涂層。46.根據(jù)權(quán)利要求45所述的制品，其中所述抗干涉條紋涂層構(gòu)成四分之一波片。47.根據(jù)權(quán)利要求43至46任一項(xiàng)所述的制品，其中其包含在所述耐沖擊底涂層上的耐磨損涂層。48.根據(jù)權(quán)利要求32至47任一項(xiàng)所述的制品，其中所述基底材料的折射率ns等于或大于1.60，優(yōu)選等于或大于1.65，更優(yōu)選等于或大于1.70。49.根據(jù)權(quán)利要求32至48任一項(xiàng)所述的制品，其中所述基底材料選自聚石克氨酯的均聚物和共聚物、多聚環(huán)^L化物的均聚物和共聚物、聚碳酸酯的均聚物和共聚物、聚硫代(甲基)丙烯酸酯的均聚物和共聚物以及它們的組合，優(yōu)選聚硫氨酯的均聚物和共聚物。50.根據(jù)權(quán)利要求32至49任一項(xiàng)所述的制品，其中其構(gòu)成光學(xué)透鏡，優(yōu)選眼科透鏡。51.可通過(guò)根據(jù)權(quán)利要求1至31任一項(xiàng)所述的方法得到的制品。全文摘要一種獲得由透明材料制成的無(wú)可見(jiàn)表面處理線條的透明制品的方法，其包括得到由折射率為n_s的透明材料制成的基底，其至少一個(gè)主面已被研磨和拋光到在0.001～0.01μm之間的R_a值，但其具有以單獨(dú)細(xì)刮痕形式的可見(jiàn)表面缺陷；在該基底的所述已被研磨和拋光的主面上直接沉積遮蔽涂層的液體可聚合組合物，其與該基底的所述主面的接觸角等于或小于30°，和其在聚合時(shí)形成折射率為n_c和厚度小于10μm的遮蔽涂層，以使得0.01＜|n_s-n_c|≤0.15；聚合所述遮蔽涂層的組合物；和移走所述透明制品。文檔編號(hào)B29D11/00GK101243335SQ200680030446公開(kāi)日2008年8月13日申請(qǐng)日期2006年6月22日優(yōu)先權(quán)日2005年6月22日發(fā)明者C·比維爾,J-M·帕迪烏,N·勒薩特勒,R·瓦勒里申請(qǐng)人:埃西勒國(guó)際通用光學(xué)公司