專利名稱：一種氧化鋁下料裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種下料裝置，尤其涉及一種氧化鋁下料裝置。可用于氧化鋁和電解鋁廠的氧化鋁輸送系統(tǒng)，可以提高氧化鋁下料的穩(wěn)定性及流暢性。
背景技術(shù)：
在氧化鋁輸送中氧化鋁輸送由儲倉下料到風(fēng)動(dòng)溜槽位置，由于下游氧化鋁用料經(jīng)常有特殊要求，氧化鋁要無雜質(zhì)、均勻、穩(wěn)定。一般設(shè)計(jì)此處有機(jī)械式振動(dòng)篩，風(fēng)動(dòng)溜槽要用到高壓風(fēng)，高壓風(fēng)會(huì)從下料口進(jìn)入到振動(dòng)篩。因此此處下料經(jīng)常表現(xiàn)為冒料，堵料，氧化鋁粉易進(jìn)入機(jī)械設(shè)備導(dǎo)致設(shè)備潤滑系統(tǒng)失效，造成設(shè)備運(yùn)行成本高甚至設(shè)備損壞。
發(fā)明內(nèi)容為解決上述技術(shù)問題本實(shí)用新型提供一種氧化鋁下料裝置，目的為改善氧化鋁倉下料到風(fēng)動(dòng)溜槽處的下料問題，減少氧化鋁粉塵排放，濾除雜質(zhì)，穩(wěn)定下料，減少設(shè)備維護(hù)量。為達(dá)上述目的，本實(shí)用新型是通過如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的一種氧化鋁下料裝置，由下述結(jié)構(gòu)構(gòu)成殼體，殼體形狀為三角形，殼體的一側(cè)頂部設(shè)有進(jìn)料口，殼體的一側(cè)底部設(shè)有出料口 ；殼體的另一側(cè)設(shè)有雜質(zhì)出料管，雜質(zhì)出料管的側(cè)壁上部設(shè)有雜質(zhì)進(jìn)口，雜質(zhì)進(jìn)口與殼體內(nèi)腔相通，進(jìn)料口下方到雜質(zhì)進(jìn)口的底部之間設(shè)有篩網(wǎng)。所述的雜質(zhì)出料管的頂部通過管路與除塵管連通。所述的殼體內(nèi)篩網(wǎng)上方的腔體通過殼體除塵口與除塵管連通。所述的殼體除塵口設(shè)在殼體的上部。所述的進(jìn)料口到雜質(zhì)出料管頂部之間的側(cè)壁上設(shè)有檢查口。所述的出料口到雜質(zhì)出料管下部之間設(shè)有沸騰板。所述的沸騰板上設(shè)有進(jìn)氣管。所述的殼體的外壁上設(shè)有振動(dòng)裝置。所述的殼體的下部設(shè)有減振塊。所述的篩網(wǎng)的角度為30-50度。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)效果本發(fā)明可以濾除氧化鋁中的雜質(zhì)物，并解決了氣固兩相流的問題，使此處下料無粉塵泄露并保證了系統(tǒng)的平穩(wěn)運(yùn)行。減少氧化鋁粉塵排放，濾除雜質(zhì)，穩(wěn)定下料，減少設(shè)備維護(hù)量。采用電磁驅(qū)動(dòng)，用電量小，維護(hù)量小。本設(shè)備的應(yīng)用將會(huì)產(chǎn)生重大環(huán)境社會(huì)效益及企業(yè)生產(chǎn)效益，具有廣闊的市場前景。

圖I是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖I的側(cè)視圖。圖3是圖I的俯視圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型加以詳細(xì)描述，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍不受示意圖所限。如圖所示本實(shí)用新型一種氧化鋁下料裝置，由下 述結(jié)構(gòu)構(gòu)成殼體11，殼體11形狀為三角形，殼體11的一側(cè)頂部設(shè)有進(jìn)料口 1，殼體11的一側(cè)底部設(shè)有出料口 4 ;殼體11的另一側(cè)設(shè)有雜質(zhì)出料管7，雜質(zhì)出料管7的側(cè)壁上部設(shè)有雜質(zhì)進(jìn)口 12，雜質(zhì)進(jìn)口 12與殼體11內(nèi)腔相通，進(jìn)料口 I下方到雜質(zhì)進(jìn)口 12的底部之間設(shè)有篩網(wǎng)5，雜質(zhì)出料管7的頂部通過管路與除塵管3連通，殼體11內(nèi)篩網(wǎng)5上方的腔體通過殼體除塵口 13與除塵管3連通，殼體除塵口 13設(shè)在殼體11的上部，進(jìn)料口 I到雜質(zhì)出料管7頂部之間的側(cè)壁上設(shè)有檢查口 2，出料口 4到雜質(zhì)出料管7下部之間設(shè)有沸騰板9，沸騰板9上設(shè)有進(jìn)氣管10，殼體11的外壁上設(shè)有振動(dòng)裝置6，殼體11的下部設(shè)有減振塊8。篩網(wǎng)5的角度為30-50度。氧化鋁下料是通過進(jìn)料口 I進(jìn)入殼體內(nèi)，經(jīng)過篩網(wǎng)5濾除雜質(zhì)由出料口 4進(jìn)入下一個(gè)工藝流程。其中篩網(wǎng)5角度可以根據(jù)物料情況進(jìn)行調(diào)節(jié)以達(dá)適應(yīng)特定工藝條件需求；除塵管3設(shè)置排氣裝置以解決裝置內(nèi)氣固兩相流問題；設(shè)置沸騰板9以防止積料。
權(quán)利要求1.一種氧化鋁下料裝置，其特征在于由下述結(jié)構(gòu)構(gòu)成殼體，殼體形狀為三角形，殼體的一側(cè)頂部設(shè)有進(jìn)料口，殼體的一側(cè)底部設(shè)有出料口 ；殼體的另一側(cè)設(shè)有雜質(zhì)出料管，雜質(zhì)出料管的側(cè)壁上部設(shè)有雜質(zhì)進(jìn)口，雜質(zhì)進(jìn)口與殼體內(nèi)腔相通，進(jìn)料口下方到雜質(zhì)進(jìn)口的底部之間設(shè)有篩網(wǎng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種氧化鋁下料裝置，其特征在于所述的雜質(zhì)出料管的頂部通過管路與除塵管連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種氧化鋁下料裝置，其特征在于所述的殼體內(nèi)篩網(wǎng)上方的腔體通過殼體除塵口與除塵管連通。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種氧化鋁下料裝置，其特征在于所述的殼體除塵口設(shè)在殼體的上部。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種氧化鋁下料裝置，其特征在于所述的進(jìn)料口到雜質(zhì)出料管頂部之間的側(cè)壁上設(shè)有檢查口。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種氧化鋁下料裝置，其特征在于所述的出料口到雜質(zhì)出料管下部之間設(shè)有沸騰板。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種氧化鋁下料裝置，其特征在于所述的沸騰板上設(shè)有進(jìn)氣管。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種氧化鋁下料裝置，其特征在于所述的殼體的外壁上設(shè)有振動(dòng)裝置。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種氧化鋁下料裝置，其特征在于所述的殼體的下部設(shè)有減振塊。
10.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種氧化鋁下料裝置，其特征在于所述的篩網(wǎng)的角度為30_50 度。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種下料裝置，尤其涉及一種氧化鋁下料裝置。由下述結(jié)構(gòu)構(gòu)成殼體，殼體形狀為三角形，殼體的一側(cè)頂部設(shè)有進(jìn)料口，殼體的一側(cè)底部設(shè)有出料口；殼體的另一側(cè)設(shè)有雜質(zhì)出料管，雜質(zhì)出料管的側(cè)壁上部設(shè)有雜質(zhì)進(jìn)口，雜質(zhì)進(jìn)口與殼體內(nèi)腔相通，進(jìn)料口下方到雜質(zhì)進(jìn)口的底部之間設(shè)有篩網(wǎng)。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)效果本實(shí)用新型減少氧化鋁粉塵排放，濾除雜質(zhì)，穩(wěn)定下料，減少設(shè)備維護(hù)量。采用電磁驅(qū)動(dòng)，用電量小，維護(hù)量小。
文檔編號B65G65/40GK202542500SQ20122012146
公開日2012年11月21日 申請日期2012年3月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月28日
發(fā)明者丁大勇, 張國斌, 曹得志, 李斌, 趙冰洋 申請人:沈陽鋁鎂科技有限公司