飛行器艙室的高溫去污的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及飛行器艙室的高溫去污。提供的是用于艙室如飛行器艙室和其他類(lèi)型艙室的去污方法,和用于實(shí)施這些方法的系統(tǒng)。在一些方面,一種方法涉及檢測(cè)艙室中一種或多種污染物的存在。此信息用于選擇各種去污條件。在一些方面,在選擇所述去污條件的同時(shí),也可考慮其他信息,如艙室類(lèi)型(例如飛行器艙室)、溫度和濕度。去污條件包括將分配在所述艙室的一種或多種去污劑的識(shí)別、流入所述艙室的空氣的溫度分布、和去污劑分配和空氣流動(dòng)操作的定時(shí)。選擇這些條件以增加所選擇的去污劑相對(duì)于所述一種或多種檢測(cè)到的污染物的功效,并減少對(duì)飛行器艙室的影響。
【專(zhuān)利說(shuō)明】飛行器艙室的高溫去污
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及艙室的去污,且更具體地,涉及使用低濃度去污劑的飛行器艙室的高溫去污的方法和系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]傳染病可被引入交通工具,包括商用飛行器和軍用飛行器。隨著航空旅行和新目的地的越來(lái)越受歡迎,傳染病傳播的潛在性已經(jīng)增力卩。特別是,各大陸之間航空旅行的盛行已經(jīng)增加了所述潛在性,并產(chǎn)生局部“熱點(diǎn)”。在一定程度上可通過(guò)空氣過(guò)濾和再循環(huán)飛行器艙室的空氣以及用消毒劑擦拭暴露表面控制傳染病的傳播。然而,這些方法不完全有效、昂貴、耗時(shí),或具有其他意想不到的結(jié)果。例如,在短暫的著陸期間,許多現(xiàn)代飛行器不可能被徹底擦拭。此外,不可能充分接近一些暴露表面如窄通道和開(kāi)口進(jìn)行擦拭。如在高溫下用濃縮的過(guò)氧化氫或潮濕空氣填充飛行器艙室等其他技術(shù)是緩慢的,且對(duì)飛行器具有意想不到的影響。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]提供的是用于艙室如飛行器艙室和其他類(lèi)型艙室的去污方法,和用于實(shí)施這些方法的系統(tǒng)。在一些方面,方法涉及在艙室中檢測(cè)一種或多種污染物的存在。此信息用于選擇去污條件。在一些方面,在選擇所述去污條件的同時(shí),也可考慮附加信息,如艙室(例如飛行器艙室)的類(lèi)型、溫度和濕度。所述去污條件包括分配在所述艙室的一種或多種去污劑的識(shí)別(identificat1n)、流入所述艙室的空氣的溫度分布和所述去污劑分配和空氣流動(dòng)操作的定時(shí)。選擇這些條件,以增加所選擇的去污劑相對(duì)于所述一種或多種檢測(cè)到的污染物的功效,并減少對(duì)飛行器艙室的影響。
[0004]在一些方面,用于艙室去污的方法可以開(kāi)始于檢測(cè)艙室中一種或多種污染物的存在。在一些實(shí)例中,這些污染物包括目標(biāo)病原體和生物制劑。所述檢測(cè)可以通過(guò)例如在去污系統(tǒng)上使用一個(gè)或多個(gè)傳感器自動(dòng)執(zhí)行。可選地,可以使用手動(dòng)檢測(cè)。在一些方面,除具體污染物的識(shí)別以外,這些污染物的濃度和/或其他特征也可以在此操作中被檢測(cè)到。艙室的一些實(shí)例包括飛行器艙室。
[0005]該方法可以繼續(xù)進(jìn)行選擇在艙室中使用的去污條件。所述去污條件是根據(jù)艙室中一種或多種污染物的存在以及這些污染物的特征選擇的。在一些方面,其他信息也用于選擇去污條件,如飛行器的類(lèi)型(例如客機(jī)或貨機(jī))、飛行器的大小、飛行器內(nèi)部和/或外部的溫度和/或濕度水平等等。去污條件可至少包括用于分配的去污劑的識(shí)別(例如化學(xué)名稱(chēng))、用于在去污過(guò)程中流過(guò)艙室的加熱空氣的操作溫度的識(shí)別和分配及流動(dòng)操作的相對(duì)定時(shí)。也可選擇其他去污條件,如溫度分布或更具體地溫度轉(zhuǎn)變分布、去污過(guò)程中艙室內(nèi)部的一個(gè)或多個(gè)濕度水平、重復(fù)一個(gè)或多個(gè)操作的指令等等。氣流的操作溫度可以被優(yōu)化用于所選擇的具體去污劑以及用于一種或多種檢測(cè)到的污染物。因此,去污劑相對(duì)于檢測(cè)到的污染物的功效得到提高。此外,操作溫度可被優(yōu)化,以便減少艙室的腐蝕。
[0006]該方法可以繼續(xù)進(jìn)行在艙室中分配霧化形式的去污劑以及使加熱空氣流動(dòng)通過(guò)艙室。空氣被加熱到所選擇的操作溫度。在一些方面,分配操作在流動(dòng)操作之前??蛇x地,分配操作可在流動(dòng)操作之后。在一些方面,分配操作和/或流動(dòng)操作被重復(fù)一次或多次。例如,空氣最初可在一定溫度下流入艙室,以刺激檢測(cè)到的孢子的發(fā)芽。在去污劑被分配在艙室中之前,空氣可流動(dòng)一段時(shí)間,這允許孢子在與去污劑接觸之前發(fā)芽。發(fā)芽的孢子顯著地比完好孢子(即未進(jìn)行發(fā)芽過(guò)程的孢子)更不易恢復(fù)活力,且因此,仍然可有效地使用濃度較低的去污劑。如果孢子未被允許發(fā)芽,則需要更濃的去污劑。
[0007]在分配去污劑之后,流過(guò)艙室的空氣溫度可增加至較高水平。溫度轉(zhuǎn)變可被具體地控制,以確保去污劑相對(duì)于檢測(cè)到的污染物如上述實(shí)例中的孢子的高功效。隨著溫度增力口,去污劑的功效也增加,直到(由熱引起)去污劑的蒸發(fā)和分解開(kāi)始抑制去污劑的功效。由于蒸發(fā)和分解,去污劑的腐蝕特性也被抑制,并且去污劑至少部分通過(guò)此氣流從該艙室除去。
[0008]在一些方面,所選擇的操作溫度是在約100華氏度和180華氏度之間,或者更具體地,在約120華氏度和140華氏度之間。如上所述,選擇操作溫度,以增加去污劑相對(duì)于一種或多種檢測(cè)到的污染物的功效且減少艙室的腐蝕。在一些方面,選擇操作溫度,以最小化加熱空氣流過(guò)艙室的持續(xù)時(shí)間。還可以選擇操作溫度,以最小化去污劑的濃度。
[0009]在一些方面,去污劑包括過(guò)氧化氫和/或乙酸。去污劑中過(guò)氧化氫的濃度按重量計(jì)可以是小于1%,或更具體地,按重量計(jì)小于0.1%或甚至按重量計(jì)小于0.01%。乙酸的濃度按重量計(jì)可以是小于1%,或更具體地,按重量計(jì)小于0.5%或者甚至按重量計(jì)小于0.05%。如上所述,以霧化形式分配去污劑,使得液滴的大小在約I微米和20微米之間。
[0010]在一些方面,去污條件還包括升溫形狀。升溫形狀可以是線性的或具有一些其他形狀,如指數(shù)增長(zhǎng)形狀。去污條件可包括流過(guò)艙室的加熱空氣的相對(duì)濕度。加熱空氣的相對(duì)濕度可以在40%和80%之間,或者更具體地約60%。
[0011]在一些方面,該方法還涉及提供去污系統(tǒng),該去污系統(tǒng)包括去污劑分配器、空氣加熱器、空氣鼓風(fēng)機(jī)和控制器。該控制器配置來(lái)確定去污條件。該去污系統(tǒng)的至少一部分可以被集成到飛行器中。例如,空氣加熱器和空氣鼓風(fēng)機(jī)可以是飛行器通風(fēng)系統(tǒng)的一部分。在相同的或其他方面,該去污系統(tǒng)的至少一部分可與飛行器分離。例如,去污劑分配器可在去污過(guò)程中被帶到飛行器上。在一些方面,該去污系統(tǒng)還包括用于確定一種或多種污染物的存在的一個(gè)或多個(gè)傳感器。
[0012]還提供一種用于艙室去污的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括用于選擇在艙室中使用的去污條件的控制器。去污條件是根據(jù)一種或多種污染物諸如目標(biāo)病原體和生物制劑的存在選擇的。去污條件至少包括用于以霧化形式分配在艙室的去污劑的識(shí)別。其他去污條件可包括用于在去污過(guò)程中流過(guò)艙室的加熱空氣的操作溫度的識(shí)別和/或分配去污劑和流動(dòng)加熱空氣的相對(duì)定時(shí)。選擇操作溫度,以增加去污劑相對(duì)于一種或多種污染物的功效且減少艙室的腐蝕。該去污系統(tǒng)還包括用于以霧化形式在艙室中分配去污劑的去污劑分配器。該去污系統(tǒng)的其他組件可包括空氣加熱器和/或空氣鼓風(fēng)機(jī),其中所述空氣加熱器將空氣加熱到操作溫度,所述空氣鼓風(fēng)機(jī)使加熱空氣流動(dòng)通過(guò)艙室。
[0013]已經(jīng)討論的特征和功能可以在各種方面被單獨(dú)實(shí)現(xiàn),或者可以在其他方面進(jìn)行組合,所述特征和功能的進(jìn)一步細(xì)節(jié)可以參照下列描述和附圖理解。
【專(zhuān)利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1A至圖1C是根據(jù)一些方面的連接到和/或集成到各自飛行器的各種去污系統(tǒng)的示意圖。
[0015]圖2是根據(jù)一些方面的在去污系統(tǒng)的各種組件之間信息流的示意圖。
[0016]圖3是根據(jù)一些方面的去污劑分配器的示意圖。
[0017]圖4是根據(jù)一些方面的對(duì)應(yīng)飛行器艙室去污方法的工藝流程圖。
[0018]圖5是根據(jù)一些方面的去污過(guò)程中溫度分布和濃度分布的示意圖。
[0019]圖6A是根據(jù)一些方面的反映飛行器制造和使用中的關(guān)鍵操作的工藝流程圖。
[0020]圖6B是示出根據(jù)一些方面的飛行器的各種關(guān)鍵組件的方框圖。
[0021]圖7是示出根據(jù)一些方面的數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)的方框圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022]在下列描述中,闡述了許多具體細(xì)節(jié),以便提供對(duì)所呈現(xiàn)概念的徹底理解。所呈現(xiàn)的概念可在沒(méi)有一些或全部這些具體細(xì)節(jié)的情況下實(shí)施。在其他情況下,并未詳細(xì)描述眾所周知的過(guò)程操作,以便不會(huì)不必要地模糊所描述的概念。雖然一些概念將結(jié)合具體方面進(jìn)行描述,但將會(huì)理解這些方面不意在是限制性的。
[0023]介紹
[0024]交通工具,包括飛行器,可以被各種生物病原體(自然的或人為的)和其他類(lèi)型的不希望的污染物污染。作為周期性服務(wù)的一部分或者當(dāng)懷疑或檢測(cè)到具體污染物時(shí)飛行器或者更具體地飛行器艙室需要進(jìn)行去污。
[0025]在過(guò)去已經(jīng)提出各種去污方法,但是這些去污方法被證明是緩慢的、昂貴的、不完全有效的,或具有對(duì)飛行器產(chǎn)生的意想不到的結(jié)果。例如,商用飛行器目前須通過(guò)周期擦拭,這涉及用去污劑擦拭乘客艙室中暴露的表面。雖然此方法被采用作為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),但是此方法是勞動(dòng)密集型的且不完全有效。許多隱藏的表面和小空洞仍然未被注意到,且能保留大量污染物。此外,許多生物病原體在室溫下十分容易恢復(fù)活力,并且需要濃的刺激性化學(xué)品,如過(guò)氧化物和/或酸?;瘜W(xué)品在所需的高濃度下可以對(duì)飛行器具有影響。使用在180華氏度下保持48小時(shí)至72小時(shí)的干或潮濕空氣(例如,80%至90%相對(duì)濕度),對(duì)某些類(lèi)型的飛行器進(jìn)行熱空氣去污。此方法不僅非常緩慢,而且可引起各種不希望的影響。具體地,空氣中的水蒸氣可以冷凝在表面上并滲透到縫隙中,從而引起腐蝕。
[0026]已經(jīng)發(fā)現(xiàn),去污條件的某些組合可以不同方式影響各種類(lèi)型的生物病原體。例如,當(dāng)例如經(jīng)受熱潮濕空氣時(shí),炭疽孢子與嚴(yán)重急性呼吸綜合征冠狀病毒不同地反應(yīng)。目前的去污方法很少考慮不同類(lèi)型的污染物,反而對(duì)于所有不同類(lèi)型的污染物使用相同的一般清潔程序。因此,這些方法需要非??量痰臈l件,以便處理許多不同類(lèi)型的污染物,如高度濃縮的化學(xué)品。如上所述,這些苛刻條件在一些情況下未必完全有效,例如可能要求落入通用方案以外的獨(dú)特的一組條件的特定種類(lèi)的生物病原體。
[0027]提供的是根據(jù)不同類(lèi)型的污染物,如目標(biāo)病原體和生物制劑,對(duì)飛行器艙室進(jìn)行去污的方法。還提供的是用于實(shí)施這些方法的系統(tǒng)。在一些方面,這些方法設(shè)計(jì)來(lái)檢測(cè)飛行器艙室中具體污染物的存在,并選擇適合于這些檢測(cè)到的污染物且專(zhuān)門(mén)為這些檢測(cè)到的污染物定制的去污條件。換句話說(shuō),考慮了檢測(cè)到的污染物的某些特定脆弱性。例如,一組去污條件可用于炭疽孢子,而另一組可用于嚴(yán)重急性呼吸綜合征冠狀病毒。此定制的方法允許更有效去污,而不需要不必要的苛刻條件,如濃縮的化學(xué)品、高濕度、長(zhǎng)暴露時(shí)間等等。此外,去污持續(xù)時(shí)間可以被減少到幾小時(shí),并且在一些方面,減少到幾分鐘,同時(shí)仍然提供有效結(jié)果。
[0028]所選擇的去污條件包括用于分配到飛行器機(jī)艙內(nèi)的具體去污劑的識(shí)別、用于流入飛行器艙室的熱空氣的操作溫度的識(shí)別、和分配及流動(dòng)操作的相對(duì)定時(shí)。也可選擇其他條件,如流入飛行器艙室的空氣的濕度等等。相同去污過(guò)程中使用的去污劑和加熱空氣的組合可被稱(chēng)為集成的熱空氣去污(IHAD)。此組合允許縮短該去污過(guò)程的持續(xù)時(shí)間且降低去污劑的濃度。例如,在室溫下使用過(guò)氧化氫的常規(guī)去污方法要求按重量計(jì)至少30%濃度的過(guò)氧化氫,以便實(shí)現(xiàn)有效去污。在此濃度下,過(guò)氧化氫腐蝕性極強(qiáng)。同時(shí),將該溫度升到約100華氏度和180華氏度之間的溫度允許將過(guò)氧化氫濃度降低到按重量計(jì)小于1%和甚至到按重量計(jì)小于0.01%,同時(shí)仍然提供有效去污。換句話說(shuō),通過(guò)升高正被去污的環(huán)境的溫度,可大大增強(qiáng)許多去污劑的功效。此外,飛行器艙室中空氣的溫度,以及在一些方面其濕度,可用于控制所分配的去污劑的蒸發(fā),且由此控制表面對(duì)該去污劑的暴露,并防止或至少最小化該去污劑的腐蝕作用。因此,加熱空氣的流動(dòng)可用于蒸發(fā)和/或分解飛行器艙室中所分配的去污劑。
[0029]在一些方面,加熱空氣的流動(dòng)可用于供給一些或大部分(如果不是全部)去污劑到飛行器艙室。例如,一些數(shù)量的去污劑可被分配,而剩余的去污劑可被引入到空氣流中。在一些方面,全部數(shù)量的去污劑被引入到空氣流中。
[0030]一種或多種所選擇的去污劑可由去污系統(tǒng)本身進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)制備。例如,該系統(tǒng)可包括根據(jù)所選擇去污劑的配方組合在一起的一些化學(xué)品(例如,過(guò)氧化物和酸)。具體實(shí)例涉及原位調(diào)節(jié)去污劑的濃縮。
[0031]一種或多種去污劑可以霧化形式被分配在飛行器艙室中,其中液滴大小在約I微米和20微米之間。小液滴能夠達(dá)到飛行器艙室中的隱藏區(qū)域,如縫隙,且更徹底地去污檢測(cè)到的污染物。此外,霧化形式可有助于去污劑在整個(gè)飛行器艙室的更均勻分布,因?yàn)樵诮佑|飛行器艙室內(nèi)的表面之前,液滴可以通過(guò)空氣流動(dòng)被長(zhǎng)距離輸送。
[0032]分配和空氣流動(dòng)操作可被具體地定時(shí),以實(shí)現(xiàn)有效去污。孢子去污的簡(jiǎn)單實(shí)例可有助于進(jìn)一步說(shuō)明此定時(shí)特征。一旦飛行器艙室中檢測(cè)到某些孢子的存在且為這些孢子的去污選擇具體條件,該過(guò)程可繼續(xù)以初始濃度分配去污劑。在此分配過(guò)程中,飛行器艙室內(nèi)的溫度可通過(guò)例如使加熱空氣流動(dòng)保持在一定初始上升水平。在一些方面,不執(zhí)行去污劑的初始分配,且在任何去污劑被引入艙室之前,在一段時(shí)間內(nèi)使加熱空氣流動(dòng)。這些初始條件的組合可被具體選擇,以刺激孢子的發(fā)芽,因?yàn)榘l(fā)芽的孢子比完好孢子對(duì)去污劑的活力恢復(fù)力顯著地更小。在允許出現(xiàn)一些發(fā)芽的一定時(shí)間段之后,分配去污劑。如上所述,此可以是在飛行器艙室中分配去污劑的第一時(shí)間或第二時(shí)間。溫度可被增加到較高水平(例如,在一些進(jìn)一步延遲之后)??蛇x擇溫度分布(例如,從一個(gè)水平到另一個(gè)水平的延遲和/或增加),以用溫度增加去污劑的功效。隨著溫度增加,去污劑的效力被增強(qiáng)直到蒸發(fā)和分解的影響開(kāi)始。溫度被保持在這個(gè)新的升高水平,以蒸發(fā)去污劑,該去污劑已經(jīng)冷凝在表面上和縫隙中。
[0033]根據(jù)飛行器艙室中一種或多種污染物的存在,選擇去污條件。也可以使用其他參數(shù),如飛行器艙室的溫度和/或濕度、飛行器艙室外的環(huán)境條件、飛行器的類(lèi)型(例如,貨機(jī)、商用、飛行器的大小)、時(shí)間限制等等。此外,該去污系統(tǒng)可使用其他一般信息,如關(guān)于不同去污劑對(duì)各種污染物的功效、飛行器材料等的信息。此信息可被存儲(chǔ)在該去污系統(tǒng)的數(shù)據(jù)庫(kù)中和/或在去污系統(tǒng)之前或在該去污系統(tǒng)期間被供給到該系統(tǒng)。例如,新的污染物可被檢測(cè)到,且該去污系統(tǒng)或操作者可接觸用于關(guān)于此污染物的附加信息的外部數(shù)據(jù)庫(kù)。
[0034]使用相同或新的條件,可重復(fù)一些去污操作。例如,空氣的溫度可以在整個(gè)過(guò)程中被改變一次或多次。同樣地,使用相同或不同去污劑(例如,不同濃度的去污劑),可重復(fù)分配操作一次或多次。此外,該系統(tǒng)可具有各種反饋控制環(huán)路,以便保持飛行器艙室中的條件(例如,溫度、濕度、去污劑濃度)在期望水平。
[0035]應(yīng)該注意,污染物監(jiān)測(cè)、具體條件的選擇、和使用這些條件的去污可以大部分在飛行器上完成。在一些方面,該去污系統(tǒng)的部分可被集成到飛行器中,和/或某些飛行器組件如通風(fēng)系統(tǒng)可被用在去污過(guò)程中。更具體地,該去污系統(tǒng)的大部分——如果不是全部——組件可被集成到飛行器中。在這些方面,飛行器可執(zhí)行去污,而不被連接到任何外部組件。當(dāng)飛行器在地面上時(shí)(例如,飛行器艙室是空的時(shí))且在一些情況下當(dāng)飛行器正飛行時(shí),可執(zhí)行去污。
[0036]雖然下列描述涉及飛行器,但是應(yīng)該理解,本文所描述的主題可適用于任何類(lèi)型的交通工具、物體或區(qū)域。例如,本文所描述的主題可以同樣容易地應(yīng)用于機(jī)動(dòng)交通工具、建筑物和/或至少被潛在污染的任何其他區(qū)域的去污。因此,貫穿下列描述對(duì)“飛行器”的任何提及僅僅旨在說(shuō)明本文所描述主題的教導(dǎo)的一個(gè)潛在應(yīng)用。
[0037]如本文所用,術(shù)語(yǔ)“去污”是指除去、滅活和/或破壞表面和/或物品上的病原體,使得該病原體不再能夠傳輸傳染顆粒且使該表面和/或物品進(jìn)行安全處理、使用和/或處置。術(shù)語(yǔ)“病原體”是指任何疾病、病癥和/或感染的產(chǎn)生物質(zhì),其包括但不限于,胚芽、病菌、細(xì)菌、原蟲(chóng)、真菌和/或微生物。
[0038]如本文所用,以單數(shù)形式敘述和以詞“一”或“一個(gè)”開(kāi)始的元件或步驟應(yīng)該被理解為不排除復(fù)數(shù)元件或步驟,除非此類(lèi)排除被明確地?cái)⑹?。此外,?duì)“一個(gè)實(shí)施方式”或“示例性實(shí)施方式”的提及不意在被解釋為排除還包含所述特征的附加方面的存在。
[0039]去污系統(tǒng)實(shí)例
[0040]圖1A至圖1C是根據(jù)一些方面的不同去污系統(tǒng)100、120、130的示意圖。圖1A示出在操作過(guò)程中連接到飛行器102的獨(dú)立去污系統(tǒng)100的實(shí)例。去污系統(tǒng)100包括去污劑分配器104、空氣加熱器106、空氣鼓風(fēng)機(jī)108和控制器110。去污系統(tǒng)100可包括其他組件或更少的組件。例如,空氣加熱器106和空氣鼓風(fēng)機(jī)108可被集成到單個(gè)組件中。可選地,去污系統(tǒng)可利用飛行器通風(fēng)系統(tǒng),用于加熱空氣,使加熱空氣流動(dòng)通過(guò)飛行器艙室,且在一些方面,甚至如圖1B和圖1C中進(jìn)一步所述分配該去污劑。在一些方面,該去污系統(tǒng)還包括用于捕獲從飛行器除去的污染物和去污劑的過(guò)濾組件。
[0041]返回到圖1A,去污劑分配器104用于在飛行器艙室103中以霧化形式分配去污劑。此去污劑分配器104可在其去污過(guò)程中被帶到飛行器102上,且在一些方面,被存儲(chǔ)在飛行器102內(nèi)。去污劑分配器104的一個(gè)實(shí)例被示于圖3中。去污劑分配器300可包括輪式平臺(tái)302,該輪式平臺(tái)的大小適合于安裝在飛行器內(nèi)部和通過(guò)飛行器開(kāi)口如飛行器艙門(mén)。分配器300還可包括一個(gè)或多個(gè)槽,其可操作以包含一種或多種去污劑和/或溶劑(例如,過(guò)氧化氫和水)。圖3示出兩個(gè)槽304和306,例如,槽304用于去污劑,而槽306用于溶劑(例如,水),以稀釋該去污劑。然而,可以使用任意數(shù)量的槽。此數(shù)量可取決于用于配制去污劑的不同化學(xué)品和/或溶劑的數(shù)量以及分配器300可以提供的各種不同配方。在一些方面,分配器300包括僅一個(gè)槽,并且該去污劑的具體配方在分配器300的外部進(jìn)行準(zhǔn)備。一個(gè)或多個(gè)槽由輪式平臺(tái)302支撐。
[0042]分配器300還可包括用于去污劑分布的一個(gè)或多個(gè)噴嘴。圖3具有三個(gè)可見(jiàn)的噴嘴308、310和312。然而,可使用任意數(shù)量的噴嘴:一個(gè)、兩個(gè)、三個(gè)、四個(gè)、六個(gè)、八個(gè)等。噴嘴308、310和312可具有固定的預(yù)定方向或可以是可移動(dòng)噴嘴,該可移動(dòng)噴嘴在分配操作過(guò)程中相對(duì)于分配器300其他組件改變其方向。例如,如果分配器300被用在客機(jī)的過(guò)道中,則兩個(gè)噴嘴可被指向座位下面,而兩個(gè)附加噴嘴可被指向座位上面(該過(guò)道的每邊上各有一個(gè)噴嘴)。在一些方面,兩個(gè)附加噴嘴可被指向頭頂行李艙室。靜電充電系統(tǒng)可被連接到一個(gè)或多個(gè)噴嘴,用于在去污劑被分散時(shí)施加靜電電荷到去污劑。噴霧噴嘴的靜電方面導(dǎo)致帶電去污劑的分散,這引起顆粒粘附到例如在飛行器內(nèi)的各表面,從而減少顆粒懸浮在艙室的時(shí)間量。
[0043]分配器300還可包括用于加壓去污劑的一個(gè)或多個(gè)壓縮機(jī)。所述一個(gè)或多個(gè)壓縮機(jī)能夠通過(guò)噴嘴供給足夠用于去污劑恒定分布的壓力。在一些方面,分配器300具有與現(xiàn)有飛行器服務(wù)車(chē)/食品車(chē)類(lèi)似的大小,這允許存儲(chǔ)在飛行器內(nèi)(替換服務(wù)車(chē)/食品車(chē)中的一個(gè))。
[0044]返回到圖1A,空氣加熱器106用于加熱空氣到由控制器110確定的操作系統(tǒng)。在一些方面,空氣加熱器106配置來(lái)加熱空氣到在約100華氏度和180華氏度之間或者更具體地在約100華氏度和180華氏度之間的溫度。各種電加熱器和其他類(lèi)型的加熱器可用于此目的??諝夤娘L(fēng)機(jī)108強(qiáng)迫加熱空氣通過(guò)飛行器艙室103??諝饬魉倏捎煽刂破?10確定且可以是艙室大小、空氣溫度和其他因素的函數(shù)??諝饧訜崞?06和空氣鼓風(fēng)機(jī)108可被定位在飛行器102的外部且由供應(yīng)管道114連接到飛行器102。空氣可被從飛行器102除去且被引入返回管道116,該返回管道116被連接到空氣加熱器106和空氣鼓風(fēng)機(jī)108。在一些方面,過(guò)濾單元(未示出)被連接到返回管道116,以在空氣返回到飛行器102之前從空氣除去污染物和/或去污劑。在一些方面,一些或大部分(如果不是全部)去污劑被分配到氣流中。例如,分配器104可被集成到供應(yīng)管道114中。
[0045]控制器110用于選擇去污條件,如下面進(jìn)一步描述。這些條件是根據(jù)檢測(cè)飛行器艙室中具體污染物的存在進(jìn)行選擇的,且可包括由空氣加熱器106供給的加熱空氣的操作溫度以及由去污劑分配器104分配的一種或多種去污劑的組成和其他特征??刂破?10可與空氣加熱器106和空氣鼓風(fēng)機(jī)108集成到如圖1A中所示的外部單元112。控制器110通信地連接到分配器、空氣加熱器106和空氣鼓風(fēng)機(jī)108,如現(xiàn)在參照?qǐng)D2將描述的。
[0046]圖2是根據(jù)一些方面的在去污系統(tǒng)200的各種組件之中流動(dòng)的信息的示意圖。去污系統(tǒng)200包括一些輸入組件,如生物傳感器204、化學(xué)傳感器206、溫度傳感器208和濕度傳感器210。也可使用其他類(lèi)型的傳感器。在一些方面,生物傳感器204包括生物識(shí)別組件和生物變換器組件。識(shí)別組件諸如生物接收器可使用生物分子以與感興趣的分析物相互作用。此相互作用可由生物變換器測(cè)量,其輸出與樣品中目標(biāo)分析物的存在成正比的可測(cè)量信號(hào)?;瘜W(xué)傳感器206的一些實(shí)例包括催化珠傳感器、化學(xué)場(chǎng)效應(yīng)晶體管、電化學(xué)氣體傳感器、紅外點(diǎn)傳感器和離子選擇性電極。溫度傳感器208的實(shí)例包括紅外線測(cè)溫儀、電阻溫度計(jì)、熱敏電阻器和熱電偶。濕度計(jì)或濕敏電阻可用于濕度傳感器210。
[0047]輸入組件提供關(guān)于飛行器艙室內(nèi)和艙室外部的環(huán)境的信息到控制器202。例如,生物傳感器204和化學(xué)傳感器206可用于艙室中污染物的檢測(cè),且提供關(guān)于檢測(cè)到的污染物的信息到控制器202。溫度傳感器208和濕度傳感器210可用于分別測(cè)量在飛行器艙室內(nèi)部和艙室外部的溫度和濕度。例如,一個(gè)熱電偶可被定位在飛行器艙室中,而另一熱電偶可被定位在艙室的外部。附加熱電偶可被定位在供氣管道和排氣管道中。此外,多個(gè)熱電偶可被定位在整個(gè)飛行器艙室,特別是在預(yù)期會(huì)經(jīng)歷高溫和低溫的位置中。
[0048]控制器202也可接收來(lái)自輸入/輸出模塊212和/或數(shù)據(jù)庫(kù)214的信息。在一些方面,控制器202與輸入/輸出模塊212和/或數(shù)據(jù)庫(kù)214集成到一個(gè)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中。參照?qǐng)D7在下面描述計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的各種實(shí)例和特征。
[0049]控制器202配置來(lái)根據(jù)一種或多種污染物的存在從輸入/輸出模塊212選擇在飛行器艙室中使用的去污條件和其他信息,例如,從各種傳感器提供的信息。一旦控制器202選擇去污條件,這些條件被發(fā)送到負(fù)責(zé)在飛行器艙室中實(shí)施這些條件的去污系統(tǒng)200的各種組件。這些組件可包括空氣鼓風(fēng)機(jī)224、空氣加熱器226、增濕器228和去污劑分配器230。
[0050]返回到圖1B和圖1C,該去污系統(tǒng)的一些部分或整個(gè)去污系統(tǒng)可被集成到飛行器中。圖1B示出包括分配器124和控制器126的去污系統(tǒng)120的實(shí)例。加熱空氣由通風(fēng)系統(tǒng)128供給,該通風(fēng)系統(tǒng)128在此實(shí)例中是飛行器122的一部分??刂破?26可通信地連接到通風(fēng)系統(tǒng)128,以提供關(guān)于定時(shí)、溫度、氣流和其他條件的指令。圖1C示出去污系統(tǒng)130的另一實(shí)例,該去污系統(tǒng)130被完全集成到飛行器132中。去污系統(tǒng)130包括控制器136,該控制器被定位在飛行器132上且可被集成到飛行器132的其他控制器中??刂破?36可至少在去污過(guò)程中指導(dǎo)通風(fēng)系統(tǒng)138的操作。去污劑的分配可通過(guò)通風(fēng)系統(tǒng)138或機(jī)載分配器(未示出)執(zhí)行。
[0051]去污方法實(shí)例
[0052]圖4是工藝流程圖,其對(duì)應(yīng)根據(jù)一些方面的用于飛行器艙室去污的方法400。方法400可以開(kāi)始于在操作402過(guò)程中提供飛行器和去污系統(tǒng)。飛行器和去污系統(tǒng)的實(shí)例在本文件其他地方進(jìn)行描述。應(yīng)該注意,在一些方面,該去污系統(tǒng)可以是飛行器的一部分且不需要進(jìn)一步操作在功能上相互連接這兩個(gè)。例如,去污劑分配器可以是手推車(chē),該手推車(chē)被存儲(chǔ)在飛行器上且在分配操作過(guò)程中被滾動(dòng)通過(guò)過(guò)道。該空氣加熱器和空氣鼓風(fēng)機(jī)可以是飛行器通風(fēng)系統(tǒng)的一部分。在其他方面,該去污系統(tǒng)的至少一些部分可以不是飛行器的一部分,并且某些功能連接在開(kāi)始執(zhí)行。例如,去污劑分配器可以被帶到飛行器艙室。如果使用外部空氣加熱器和鼓風(fēng)機(jī),則可緊貼飛行器艙門(mén)密封空氣管道。
[0053]方法400可以繼續(xù)在操作404過(guò)程中檢測(cè)飛行器艙室中一種或多種污染物的存在。污染物的一些實(shí)例包括目標(biāo)病原體和生物制劑,如病毒、細(xì)菌、朊病毒和真菌。除污染物的存在以外,操作404還可包括檢測(cè)這些污染物的濃度和其他特點(diǎn)。操作404可通過(guò)取空氣樣品和/或擦拭樣品手動(dòng)執(zhí)行,且通過(guò)使用各種分析技術(shù)分析這些樣品。此分析在去污位置處執(zhí)行和/或被發(fā)送到現(xiàn)場(chǎng)外更詳細(xì)分析。然后使用例如其輸入接口將關(guān)于污染物的信息輸入到去污系統(tǒng)中。
[0054]在一些方面,該去污系統(tǒng)可包括一個(gè)或多個(gè)傳感器,其能夠檢測(cè)某些污染物的存在。此檢測(cè)可例如在開(kāi)啟該系統(tǒng)之后自動(dòng)執(zhí)行。傳感器可配置來(lái)識(shí)別流感、埃博拉病毒、肺結(jié)核、出血熱和/或任何其他傳染病的特定菌株。此外,操作者或其他系統(tǒng)可補(bǔ)充關(guān)于先前出現(xiàn)在飛行器艙室中的人(例如,乘客)、飛行器先前用途和/或位置的信息,識(shí)別常見(jiàn)傳染病的一般化癥狀而不識(shí)別特定菌株,和其他類(lèi)似信息。例如,升高的體溫、咳嗽、出汗和其他癥狀的存在可指示傳染病的存在,并可被提供給去污系統(tǒng)用于分析。
[0055]在一些方面,在操作404過(guò)程中可將附加相關(guān)信息,如飛行器艙室內(nèi)部的溫度和濕度以及飛行器艙室外部的溫度和濕度、飛行器類(lèi)型和大小提供給去污系統(tǒng)。如同關(guān)于污染物存在的信息,此附加信息可用于選擇適當(dāng)去污條件。具體地,內(nèi)部溫度和濕度以及外部溫度和濕度可用于估計(jì)熱耗散和避免在飛行器中具有在去污過(guò)程中不夠暖和的表面如窗戶。飛機(jī)的類(lèi)型(例如,商用客機(jī)、貨機(jī)、軍用飛機(jī))可限制或允許使用某些去污劑。飛機(jī)的大小可用于計(jì)算去污劑和所需的熱空氣流的量。
[0056]方法400可以繼續(xù)在操作406過(guò)程中選擇去污條件。此選擇是根據(jù)在操作404過(guò)程中收集的信息,如一種或多種污染物的存在,和在一些方面,其他相關(guān)信息。該去污系統(tǒng)的控制器可使用各種算法分析此信息和關(guān)于污染物、飛行器等的一般信息。例如,控制器可被連接到關(guān)于各種污染物的信息的數(shù)據(jù)庫(kù),且可從此數(shù)據(jù)庫(kù)提取與飛行器艙室中檢測(cè)到的一種或多種污染物有關(guān)的具體信息。同樣地,該控制器可提取關(guān)于飛行器的信息。在一些方面,該控制器可連接到外部(在去污系統(tǒng)外部的)網(wǎng)絡(luò),并獲取可能不可用的進(jìn)一步信息。飛行器通信系統(tǒng)可用于此目的。
[0057]在操作406過(guò)程中選擇的去污條件至少包括用于在飛行器艙室中以霧化形式分配的去污劑的識(shí)別、在去污過(guò)程中流過(guò)飛行器艙室的加熱空氣的操作溫度、和分配去污劑和使空氣流動(dòng)的相對(duì)定時(shí)。在一些方面,也可使用其他條件,如加熱空氣的濕度、分配和流動(dòng)操作的持續(xù)時(shí)間等等。例如,所述條件可指定用于加熱到在約40%和80%之間,如約60%的相對(duì)濕度。如上所述,對(duì)于不同類(lèi)型檢測(cè)到的污染物,去污條件可以不同。此外,初始確定的去污條件可以稍后改變,如決定方框412進(jìn)一步反映的。
[0058]在操作406過(guò)程中選擇的去污劑可包括多種酸中一種和/或一種或多種過(guò)氧化物。例如,去污劑可包括過(guò)氧化氫。去污劑中過(guò)氧化氫的濃度可按重量計(jì)小于1%,且按重量計(jì)甚至小于0.01%。當(dāng)與較高溫度如在約100華氏度和180華氏度之間結(jié)合時(shí),過(guò)氧化氫可在此低濃度下仍然有效。在一些方面,去污劑包括乙酸。乙酸的濃度可為按重量計(jì)小于1%,且按重量計(jì)甚至小于0.2%。
[0059]在一些方面,可使用各種預(yù)配制的去污劑,如可得自猶他州奧勒姆的SB1MED LLC的steriplex?hc溶液。steriplex?hc溶液包括按重量計(jì)0.03%的銀、按重量計(jì)19%的甘油、按重量計(jì)0.0004%的山梨糖醇、按重量計(jì)10%的乙醇、按重量計(jì)0.03%的過(guò)氧化氫、按重量計(jì)0.25%的過(guò)乙酸、按重量計(jì)0.19%的乙酸、和按重量計(jì)70%的水。SteriplextmHC溶液或其他類(lèi)似溶液可用水稀釋為按重量計(jì)小于50%的溶液、按重量計(jì)小于30%的溶液、和按重量計(jì)甚至小于20%的溶液。去污劑可由去污系統(tǒng)提供,且在一些方面由去污系統(tǒng)配制。
[0060]用于在去污過(guò)程中流過(guò)飛行器艙室的加熱空氣的操作溫度可以在約100華氏度和180華氏度之間,或者更具體地,在約120華氏度和140華氏度之間。此溫度被具體地選擇,以增加去污劑相對(duì)于檢測(cè)到的污染物的功效。用于選擇特定溫度或更具體地特定溫度分布的其他考慮事項(xiàng)是,最小化加熱空氣流過(guò)飛行器艙室的持續(xù)時(shí)間和最小化所確定的去污劑的濃度。
[0061]在一些方面,如參照?qǐng)D5進(jìn)一步描述的,可在去污過(guò)程中改變溫度。在此情況下,去污條件可包括變化和/或升溫形狀的定時(shí)。在一些方面,升溫形狀是線性的。例如,較低初始溫度可用于使孢子發(fā)芽,而較高溫度稍后可與去污劑一起使用來(lái)殺死孢子。
[0062]在操作406過(guò)程中選擇去污條件之后,方法400可以繼續(xù)在操作408過(guò)程中分配去污劑和在操作410過(guò)程中使空氣流動(dòng)。操作408和410的組合持續(xù)時(shí)間——包括如決定方框412指示的這些操作的任何重復(fù)——可小于6小時(shí),或者更具體地,小于I小時(shí)和甚至小于15分鐘。由于去污條件是為檢測(cè)到的污染物具體定制和形成的,可以在相對(duì)短的時(shí)間段內(nèi)實(shí)現(xiàn)有效去污。在一些方面,在完成方法400之后,除去或滅活95%以上檢測(cè)到的污染物,或者更具體地,99%以上,甚至99.9%以上。
[0063]分配去污劑(即操作408)和使空氣流動(dòng)(即操作410)的相對(duì)定時(shí)是在操作406過(guò)程中選擇的另一去污條件。在一些方面,操作408在操作410之前開(kāi)始。操作408可在操作410開(kāi)始之前完成,或者這些操作之間有一些重疊。在一些方面,操作408可被重復(fù)一次或多次,而操作410繼續(xù)??蛇x地,操作410可在操作408之前開(kāi)始。在操作408執(zhí)行的同時(shí)操作410可繼續(xù)。在一些方面,操作408和/或操作410的一個(gè)或多個(gè)參數(shù)被改變,而這些操作繼續(xù)或被重復(fù)。現(xiàn)在將參照?qǐng)D5描述這些實(shí)例中的一些。
[0064]具體地,圖5是根據(jù)一些方面的作為時(shí)間函數(shù)的在去污過(guò)程中的溫度分布502和濃度分布504的示意圖。該去污過(guò)程可在時(shí)間O處開(kāi)始,這對(duì)應(yīng)于去污劑的某一濃度(Cl)和流入飛行器艙室的空氣的某一溫度(Tl)。在一些方面,該去污劑未被引入到艙室,直到稍后時(shí)間(例如,tl),并且該去污劑的初始濃度(在tO和tl之間,即濃度Cl)可以約為零。在其他方面,一些去污劑在該去污過(guò)程開(kāi)始時(shí)(在to處)被引入到艙室。此濃度可以顯著地低于常規(guī)使用的去污劑濃度。例如,該去污劑可以是過(guò)氧化氫,并且初始濃度可以是按重量計(jì)小于%或甚至按重量計(jì)小于0.01%。初始溫度(Tl)可以高于室溫,且在一些方面可以在約90華氏度和160華氏度之間,或更具體地在約100華氏度和140華氏度之間,或甚至在約100華氏度和120華氏度之間。如上所述,可具體選擇在此初始階段的條件,以刺激孢子的發(fā)芽,因?yàn)榘l(fā)芽的孢子對(duì)去污劑的活力恢復(fù)顯著地低于完好孢子。
[0065]在時(shí)間(tl)中的某個(gè)點(diǎn)處,去污劑的濃度被增加到高于初始濃度(Cl)的新水平(C2)。例如,可以在tl處分配相同但更濃縮的去污劑(與tO相比),或者可添加附加去污劑。分配在新濃度(C2)下的去污劑,以準(zhǔn)備殺死發(fā)芽孢子。應(yīng)該注意,殺死發(fā)芽孢子所需的濃度顯著地低于殺死完好孢子所需的濃度,并且C2可仍然顯著低于常規(guī)使用的去污劑的濃度。例如,在此階段可以霧化形式分配按重量計(jì)小于1%的過(guò)氧化氫或甚至按重量計(jì)小于0.01%的過(guò)氧化氫。新濃度與原始濃度的比(即C2/C1)可以為至少約2、至少約5、至少約10和甚至至少約100。
[0066]在時(shí)間t2處,溫度可開(kāi)始斜坡上升到新的較高水平(T2)。應(yīng)該注意,此新的溫度水平(T2)仍然低于常規(guī)使用的熱去污(例如,使用熱的潮濕空氣的方法)。例如,新溫度(T2)可以在約100華氏度和180華氏度之間,或者更具體地在約120華氏度和160華氏度之間或甚至在約130華氏度和140華氏度之間。如同在初始階段(tO-tl)使用的條件,此溫度(T2)可被選擇用于先前檢測(cè)到的具體污染物。在一些方面,新溫度(T2)和初始溫度(Tl)之間的差可以是在約10華氏度和50華氏度之間,或者更具體地,在20華氏度和40華氏度之間。
[0067]在時(shí)間t3處,溫度達(dá)到新的水平(T2)。該溫度升高可遵循線性形狀(如圖5中所示)、指數(shù)形狀、階梯狀形狀和其他類(lèi)型的形狀。在t2=>t3階段,平均溫度上升速率可以在約每分鐘I華氏度和每分鐘20華氏度之間??删唧w選擇此溫度上升階段的持續(xù)時(shí)間和/或該溫度分布,以增加去污劑相對(duì)于檢測(cè)到的污染物的功效。隨著溫度增加,去污劑的功效被增強(qiáng),直到由于去污劑的蒸發(fā)和分解其變得偏離。在一些方面,去污過(guò)程還包括在飛行器艙室中保持一定濕度分布(圖5中未示出),以更好控制蒸發(fā)和/或分解。在溫度上升之后,可保持溫度在新的水平(T2),以蒸發(fā)去污劑。
[0068]返回到圖4,操作408涉及使用例如氣溶膠噴涂設(shè)備、霧化器噴嘴、噴霧器、電噴射和振動(dòng)孔氣溶膠發(fā)生器(V0AG),在飛行器艙室中以霧化形式分配去污劑。參照?qǐng)D3在上面描述了此類(lèi)設(shè)備的一個(gè)實(shí)例。此設(shè)備可以是移動(dòng)站的形式,其可以被滾動(dòng)通過(guò)飛行器艙室,以確保去污劑的均勻分布。在其他方面,該氣溶膠設(shè)備可被集成到通風(fēng)設(shè)備中,并且操作408和410可部分或完全重疊。操作408還涉及配制去污劑。
[0069]可至少根據(jù)去污劑的粘度、去污劑保持電荷的能力(如果使用靜電特征)、去污劑的期望揮發(fā)性(即蒸發(fā)時(shí)間)和飛行器艙室內(nèi)的溫度選擇從該設(shè)備排出的氣溶膠液滴的大小。在一些方面,氣溶膠液滴的大小平均在約I微米和20微米之間。
[0070]操作410涉及在操作溫度下使加熱空氣流動(dòng)通過(guò)飛行器艙室。如上所述,空氣加熱器和鼓風(fēng)機(jī)可用于此操作。
[0071]在一些方面,使用相同或不同條件重復(fù)一個(gè)或多個(gè)操作404 - 410,如決定方框412反映的。例如,去污過(guò)程可涉及用于監(jiān)視各種參數(shù)的反饋控制環(huán)路,如飛行器艙室中污染物的存在、去污劑的濃度、飛行器艙室中的空氣溫度等等。例如,可額外一次或多次檢查污染物的存在,以確保去污過(guò)程的有效性。例如,如參照?qǐng)D5在上面描述的,可在該過(guò)程中改變?nèi)ノ蹢l件。
[0072]飛行器的實(shí)例
[0073]現(xiàn)在將描述圖6A中所示的飛行器制造和服務(wù)方法600以及圖6B中所示的飛行器630,以更好說(shuō)明本文所呈現(xiàn)的去污方法和系統(tǒng)的各種特征。在生產(chǎn)前期間,飛行器制造和服務(wù)方法600可包括飛行器630的規(guī)格和設(shè)計(jì)602和材料采購(gòu)604。該生產(chǎn)階段涉及飛行器630的組件和子部件制造606以及系統(tǒng)集成608。此后,飛行器630可通過(guò)認(rèn)證和交付610,以便被置于使用612中。在由客戶進(jìn)行使用時(shí),飛行器630按計(jì)劃進(jìn)行日常維護(hù)和服務(wù)614 (其也可包括修改、重新配置、翻新等)。雖然本文所描述的方面一般涉及商用飛行器的維修,但是這些方面可以在飛行器制造和服務(wù)方法600的其他階段實(shí)行。例如,去污過(guò)程可在飛行器生產(chǎn)的各種階段實(shí)施,因?yàn)樵S多人可以在生產(chǎn)過(guò)程中接近飛行器及其組件。
[0074]飛行器制造和服務(wù)方法600的每個(gè)過(guò)程都可由系統(tǒng)集成商、第三方和/或操作者(例如客戶)執(zhí)行或?qū)嵤?。為了此描述的目的,系統(tǒng)集成商可包括但不限于,任意數(shù)量的飛行器制造商和主系統(tǒng)分包商;第三方可包括例如但不限于,任意數(shù)量的賣(mài)方、分包商和供應(yīng)商;且操作者可以是航空公司、租賃公司、軍事實(shí)體、服務(wù)組織等。
[0075]如圖6B中所示,通過(guò)飛行器制造和服務(wù)方法600生產(chǎn)的飛行器630可包括機(jī)身632、內(nèi)部636、和多個(gè)系統(tǒng)634及內(nèi)部636。系統(tǒng)634的實(shí)例包括推進(jìn)系統(tǒng)638、電氣系統(tǒng)640、液壓系統(tǒng)642和環(huán)境系統(tǒng)644中的一個(gè)或多個(gè)。此實(shí)例中可包括任意數(shù)量的其他系統(tǒng)。雖然示出飛行器實(shí)例,但是本公開(kāi)的原理可應(yīng)用于其他行業(yè),如汽車(chē)行業(yè)。
[0076]本文所具體體現(xiàn)的裝置和方法可在飛行器制造和服務(wù)方法600的任意一個(gè)或多個(gè)階段使用。例如但不限于,可以與當(dāng)飛行器630處于使用中時(shí)生產(chǎn)的組件或子部件類(lèi)似的方式生產(chǎn)或制造對(duì)應(yīng)組件和子部件制造606的組件或子部件。
[0077]此外,例如但不限于通過(guò)顯著加快飛行器630的裝配或降低飛行器630的成本,可在組件和子部件制造606及系統(tǒng)集成608過(guò)程中利用一個(gè)或多個(gè)裝置方面、方法方面或其組合。類(lèi)似地,在飛行器630處于使用中時(shí),可利用裝置方面、方法方面或其組合中的一個(gè)或多個(gè),例如但不限于,可在系統(tǒng)集成608和/或維護(hù)和服務(wù)614過(guò)程中使用維護(hù)和服務(wù)614,以確定各部分是否可以被彼此連接和/或配合。
[0078]控制器計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的實(shí)例
[0079]現(xiàn)在轉(zhuǎn)向圖7,根據(jù)一些方面描繪數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)700的圖示。數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)700可用于執(zhí)行在上述去污系統(tǒng)的控制器或其他組件中使用的一臺(tái)或多臺(tái)計(jì)算機(jī)。在一些方面,數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)700包括通信框架702,其提供處理器單元704、存儲(chǔ)器706、持久性存儲(chǔ)器708、通信單元710、輸入/輸出(I/O)單元712、和顯示器714之間的通信。在此實(shí)例中,通信框架702可采取總線系統(tǒng)的形式。
[0080]處理器單元704用于執(zhí)行可被加載到存儲(chǔ)器706的軟件指令。處理器單元704可以是一些處理器、多處理器芯或一些其他類(lèi)型的處理器,這取決于具體實(shí)施。
[0081 ] 存儲(chǔ)器706和持久性存儲(chǔ)器708是存儲(chǔ)器件716的實(shí)例。存儲(chǔ)器件是能夠存儲(chǔ)信息例如但不限于數(shù)據(jù)、函數(shù)形式的程序代碼和/或臨時(shí)和/或永久性的其他合適信息的任何硬件。在這些說(shuō)明性實(shí)例中存儲(chǔ)器件716也可被稱(chēng)為計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)器件。在這些實(shí)例中,存儲(chǔ)器706可以是例如隨機(jī)存取存儲(chǔ)器或任何其他合適易失性或非易失性存儲(chǔ)器件。持久性存儲(chǔ)器708可采取各種形式,這取決于具體實(shí)施。例如,持久性存儲(chǔ)器708可包含一個(gè)或多個(gè)組件或器件。例如,持久性存儲(chǔ)器708可以是硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器、快閃式存儲(chǔ)器、可改寫(xiě)光盤(pán)、可改寫(xiě)磁帶、或上述的一些組合。持久性存儲(chǔ)器708所使用的介質(zhì)也可以是可移動(dòng)的。例如,可移動(dòng)硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器可用于持久性存儲(chǔ)器708。
[0082]在這些說(shuō)明性實(shí)例中,通信單元710提供與其他數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)或器件的通信。在這些說(shuō)明性實(shí)例中,通信單元710是網(wǎng)絡(luò)接口卡。
[0083]輸入/輸出單元712允許與可連接到數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)700的其他器件的數(shù)據(jù)輸入和輸出。例如,輸入/輸出單兀712可通過(guò)鍵盤(pán)、鼠標(biāo)和/或一些其他合適輸入器件為用戶輸入提供連接。此外,輸入/輸出單元712可將輸出發(fā)送到打印機(jī)。顯示器714提供顯示信息給用戶的機(jī)構(gòu)。
[0084]用于操作系統(tǒng)的指令、應(yīng)用和/或程序可位于存儲(chǔ)器件716中,所述存儲(chǔ)器件716通過(guò)通信框架702與處理器單元704通信。不同方面的過(guò)程可使用計(jì)算機(jī)實(shí)施的指令由處理器單元704執(zhí)行,所述計(jì)算機(jī)實(shí)施的指令可位于存儲(chǔ)器中,如存儲(chǔ)器706。
[0085]這些指令被稱(chēng)為可由處理器單元704中的處理器讀取或執(zhí)行的程序代碼、計(jì)算機(jī)可用程序代碼或計(jì)算機(jī)可讀程序代碼。不同方面中的程序代碼可被具體體現(xiàn)在不同物理或計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)上,如存儲(chǔ)器706或持久性存儲(chǔ)器708。
[0086]程序代碼718以函數(shù)形式位于計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)720上,該計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)720是選擇性地可移動(dòng)的且可被加載到或轉(zhuǎn)移到用于由處理器單元704執(zhí)行的數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)700。在這些說(shuō)明性實(shí)例中,程序代碼718和計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)720形成計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品722。在一個(gè)實(shí)例中,計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)720可以是計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)724或計(jì)算機(jī)可讀信號(hào)介質(zhì) 726。
[0087]在這些說(shuō)明性實(shí)例中,計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)724是物理或有形存儲(chǔ)器件,其用于存儲(chǔ)程序代碼718而不是傳播或傳輸程序代碼718的介質(zhì)。
[0088]可選地,使用計(jì)算機(jī)可讀信號(hào)介質(zhì)726可將程序代碼718轉(zhuǎn)移到數(shù)據(jù)處理器系統(tǒng)700。計(jì)算機(jī)可讀信號(hào)介質(zhì)726可以是例如包含程序代碼718的傳播數(shù)據(jù)信號(hào)。例如,計(jì)算機(jī)可讀信號(hào)介質(zhì)726可以是電磁信號(hào)、光學(xué)信號(hào)和/或任何其他合適類(lèi)型的信號(hào)。這些信號(hào)可被通過(guò)通信鏈路傳輸,如無(wú)線通信鏈路、光纖電纜、同軸電纜、電線和/或任何其他合適類(lèi)型的通信鏈路。
[0089]示出用于數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)700的不同組件并不旨在提供對(duì)其中可實(shí)施不同方面的方式的構(gòu)造限制。不同的說(shuō)明性方面可在數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)中實(shí)施,該數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)包括除示出用于數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)700的那些組件以外和/或代替示出用于數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)700的那些組件的組件。圖7中所示的其他組件可以隨所示說(shuō)明性示例的變化而變化??墒褂媚軌蜻\(yùn)行程序代碼718的任何硬件器件或系統(tǒng)實(shí)施不同方面。
[0090]第I條、一種用于艙室去污的方法,該方法包括:根據(jù)所述艙室中一種或多種污染物的存在選擇用于在所述艙室中使用的去污條件,所述去污條件至少包括用于在所述艙室中以霧化形式分配的去污劑、用于在去污過(guò)程中流過(guò)所述艙室的加熱空氣的操作溫度、和用于分配所述去污劑和流動(dòng)所述加熱空氣的相對(duì)定時(shí);
[0091]在所述艙室中以所述霧化形式分配所述去污劑;和
[0092]在所述操作溫度下使所述加熱空氣流動(dòng)通過(guò)所述艙室,其中為所述去污劑相對(duì)于所述一種或多種污染物的功效選擇所述操作溫度。
[0093]第2條、根據(jù)第I條所述的方法,其中所述操作溫度在約100華氏度和180華氏度之間。
[0094]第3條、根據(jù)第I條或第2條所述的方法,其中所述操作溫度在約120華氏度和140華氏度之間。
[0095]第4條、根據(jù)第I條或第2條所述的方法,其中選擇所述操作溫度,以最小化所述加熱空氣流過(guò)所述艙室的持續(xù)時(shí)間。
[0096]第5條、根據(jù)第I條或第2條所述的方法,其中選擇所述操作溫度,以最小化所述去污劑的濃度。
[0097]第6條、根據(jù)第I條所述的方法,其中所述去污劑包括過(guò)氧化氫和乙酸。
[0098]第7條、根據(jù)第6條所述的方法,其中所述去污劑中過(guò)氧化氫的濃度按重量計(jì)小于1%。
[0099]第8條、根據(jù)第6條所述的方法,其中所述去污劑中過(guò)氧化氫的濃度按重量計(jì)小于0.01%。
[0100]第9條、根據(jù)第I條所述的方法,其中所述去污條件進(jìn)一步包括升溫形狀。
[0101]第10條、根據(jù)第9條所述的方法,其中所述升溫形狀是線性的。
[0102]第11條、根據(jù)第I條所述的方法,其中在所述操作溫度下使所述加熱空氣流動(dòng)通過(guò)所述艙室之前,分配所述去污劑。
[0103]第12條、根據(jù)第I條所述的方法,其中在所述操作溫度下使所述加熱空氣流動(dòng)通過(guò)所述艙室之后,分配所述去污劑。
[0104]第13條、根據(jù)第I條所述的方法,其中所述去污條件進(jìn)一步包括流過(guò)所述艙室的加熱空氣的相對(duì)濕度。
[0105]第14條、根據(jù)第13條所述的方法,其中所述加熱空氣的相對(duì)濕度在40%和80%之間。
[0106]第15條、根據(jù)第I條所述的方法,其中霧化形式的所述去污劑包括液滴,所述液滴的大小在約I微米和20微米之間。
[0107]第16條、根據(jù)第I條所述的方法,其進(jìn)一步包括提供去污系統(tǒng),所述去污系統(tǒng)包括去污劑分配器、空氣加熱器、空氣鼓風(fēng)機(jī)和控制器,所述控制器配置來(lái)確定所述去污條件。
[0108]第17條、根據(jù)第16條所述的方法,其中所述去污系統(tǒng)的至少一部分被集成到飛行器中。
[0109]第18條、根據(jù)第16條所述的方法,其中所述去污系統(tǒng)的至少一部分與飛行器分離。
[0110]第19條、根據(jù)第16-18條任一項(xiàng)所述的方法,其中所述去污系統(tǒng)進(jìn)一步包括用于確定所述一種或多種污染物的存在的一個(gè)或多個(gè)傳感器。
[0111]第20條、一種用于艙室去污的系統(tǒng),該系統(tǒng)包括:控制器,其根據(jù)一種或多種污染物的存在選擇用于在所述艙室中使用的去污條件,所述去污條件至少包括用于在所述艙室中以霧化形式分配的去污劑、用于在去污過(guò)程中流過(guò)所述艙室的加熱空氣的操作溫度、和分配所述去污劑和流動(dòng)所述加熱空氣的相對(duì)定時(shí);去污劑分配器,其以霧化形式在所述艙室中分配所述去污劑;空氣加熱器,其將空氣加熱到所述操作溫度;和空氣鼓風(fēng)機(jī),其使所述加熱空氣流動(dòng)通過(guò)所述艙室,其中為所述去污劑相對(duì)于所述一種或多種污染物的功效選擇所述操作溫度。
[0112]總結(jié)
[0113]雖然前述概念已經(jīng)為了清楚理解的目的進(jìn)行了詳細(xì)描述,但是將顯而易見(jiàn)的是某些變化和修改可在所附權(quán)利要求的范圍內(nèi)實(shí)施。應(yīng)該注意,有許多實(shí)施所述過(guò)程、系統(tǒng)和設(shè)備的替代方式。因此,本發(fā)明的方面都被認(rèn)為是說(shuō)明性的而不是限制性的。
【權(quán)利要求】
1.一種用于艙室去污的方法,所述方法包括: 根據(jù)所述艙室中一種或多種污染物的存在,選擇在所述艙室中使用的去污條件(操作406), 所述去污條件至少包括 用于在所述艙室中以霧化形式分配的去污劑, 用于在去污過(guò)程中流過(guò)所述艙室的加熱空氣的操作溫度,和 分配所述去污劑和使所述加熱空氣流動(dòng)的相對(duì)定時(shí); 在所述艙室中以霧化形式分配所述去污劑(操作408);和 在所述操作溫度下使所述加熱空氣流動(dòng)通過(guò)所述艙室(操作410), 其中為所述去污劑相對(duì)于所述一種或多種污染物的功效選擇所述操作溫度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述操作溫度在約100華氏度和180華氏度之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的方法,其中選擇所述操作溫度以最小化所述加熱空氣流過(guò)所述艙室的持續(xù)時(shí)間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的方法,其中選擇所述操作溫度以最小化所述去污劑的濃度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述去污劑包括過(guò)氧化氫和乙酸。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中所述去污劑中過(guò)氧化氫的濃度按重量計(jì)小于1%。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述去污條件進(jìn)一步包括升溫形狀。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述去污條件進(jìn)一步包括流過(guò)所述艙室的加熱空氣的相對(duì)濕度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中所述加熱空氣的相對(duì)濕度在40%和80%之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中以霧化形式的所述去污劑包括大小在I微米和20微米之間的液滴。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其進(jìn)一步包括提供去污系統(tǒng), 所述去污系統(tǒng)包括去污劑分配器、空氣加熱器、空氣鼓風(fēng)機(jī)和控制器, 所述控制器配置來(lái)確定所述去污條件。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其中所述去污系統(tǒng)進(jìn)一步包括用于確定所述一種或多種污染物存在的一個(gè)或多個(gè)傳感器。
13.一種用于艙室去污的系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括: 控制器,其用于根據(jù)一種或多種污染物的存在,選擇在所述艙室中使用的去污條件, 所述去污條件至少包括 用于在所述艙室中以霧化形式分配的去污劑, 用于在去污過(guò)程中流過(guò)所述艙室的加熱空氣的操作溫度,和 分配所述去污劑和使所述加熱空氣流動(dòng)的相對(duì)定時(shí); 去污劑分配器,其以霧化形式在所述艙室中分配所述去污劑; 空氣加熱器,其將空氣加熱到所述操作溫度;和 空氣鼓風(fēng)機(jī),其使所述加熱空氣流動(dòng)通過(guò)所述艙室, 其中為所述去污劑相對(duì)于所述一種或多種污染物的功效選擇所述操作溫度。
【文檔編號(hào)】B64D13/08GK104044740SQ201410092801
【公開(kāi)日】2014年9月17日 申請(qǐng)日期:2014年3月13日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月15日
【發(fā)明者】S·H·帕克, L·佩爾茨, R·T·達(dá)提克, C·J·V·卡姆普 申請(qǐng)人:波音公司