本發(fā)明涉及在觸摸面板等顯示元件的領域中所使用的覆膜形成用涂布液、覆膜形成用涂布液的制造方法、及帶覆膜的基材。
背景技術：
以往，對于觸摸面板等顯示元件，存在可看到ITO(氧化銦錫)布線圖案、使顯示性降低的問題。因此，提出了通過折射率匹配(Index Matching)來使布線圖案不容易被看見的技術。例如，已知有通過濺射等導入高折射率薄膜層(IM層)的技術。另一方面，也有通過利用較廉價且耐久性高的無機系涂布液材料的透明性覆膜來形成IM層的需求。
另外，在觸摸面板等顯示元件中，通常通過樹脂材料的涂布進行金屬布線等的覆蓋。但是，將無機系涂布液材料涂布在這樣的樹脂上時存在如下問題：容易產生裂紋、根據(jù)情況而成為顯示元件的不良的原因。
另外，對于觸摸面板等顯示元件中所使用的覆膜，除了從防止輸送工序中的損傷的觀點出發(fā)而要求硬度以外，還要求對將金屬等布線進行圖案化時所使用的蝕刻液的耐化學藥品性。進而，從對周邊構件的影響來看，觸摸面板等顯示元件中所使用的覆膜還要求在300℃以下進行焙燒。
與此相對，已知使用包含乙酰丙酮螯合物化合物、硅烷化合物和除了硅以外的金屬醇鹽的涂布液時，通過在干燥時或干燥后進行紫外線照射在較低溫下固化，可以形成耐久性優(yōu)異的透明陶瓷覆膜(參照文獻1：日本特開平2-48403號公報)。另外，已知使用包含由甲基三甲氧基硅烷(MTMS)等例示的金屬醇鹽、由硝酸鋁九水合物等例示的金屬鹽和抗析出劑等的涂布液時，可以形成抑制電極的圖案顯眼、具有高的強度、即使涂布在樹脂上時也能夠防止裂紋產生的涂膜(參照文獻2：WO2012/099253)。
另一方面，文獻1中公開的涂布液中，可以提供在較低溫下固化的透明覆膜，但是存在如下問題：例如基底為樹脂的情況下，稍難以抑制裂紋的產生。另外，未必可以說透明覆膜的硬度、耐化學藥品性充分。另外，文獻2中公開的涂布液中，由于使用由具有非鍵合性官能團的MTMS等例示的金屬醇鹽，因此在低溫下焙燒的情況下，覆膜的交聯(lián)度較低、耐化學藥品性不充分。
技術實現(xiàn)要素：
發(fā)明要解決的問題
本發(fā)明的目的在于，提供涂布于基材后具有充分的硬度、且難以產生裂紋、進而耐化學藥品性也優(yōu)異的覆膜形成用涂布液、覆膜形成用涂布液的制造方法、及帶覆膜的基材。
本發(fā)明人等為了消除上述問題進行了深入研究，結果發(fā)現(xiàn)：使用在包含水和有機溶劑的混合溶劑中溶解或分散有能夠與金屬醇鹽形成螯合物的有機化合物、特定的6官能硅烷化合物、金屬醇鹽(其中，硅醇鹽除外)的涂布液時，可以得到具有充分的硬度、且難以產生裂紋、進而耐化學藥品性也優(yōu)異的覆膜。本發(fā)明是基于該發(fā)現(xiàn)而完成的。
即，本發(fā)明提供如下所述的覆膜形成用涂布液、覆膜形成用涂布液的制造方法、及帶覆膜的基材。
另外，本發(fā)明還提供能夠在不在覆膜形成用涂布液中配混高折射率顆粒的情況下形成高折射率(折射率1.3～2.3)的覆膜的覆膜形成用涂布液。
〔1〕一種覆膜形成用的涂布液，其特征在于，其是在包含水和有機溶劑的混合溶劑中溶解或分散有能夠與金屬醇鹽形成螯合物的有機化合物(A成分)、下述式(2)所示的6官能硅烷化合物及其水解縮合物中的至少一者(B成分)和下述式(3)所示的金屬醇鹽及其水解縮合物中的至少一者(C成分)而成的，A成分的摩爾數(shù)(M1)與C成分的摩爾數(shù)(M3)的摩爾比(M1/M3)處于0.25以上且小于2的范圍，B成分的摩爾數(shù)(M2)與C成分的摩爾數(shù)(M3)的摩爾比(M2/M3)處于0.5以上且8以下的范圍。
(R3為碳數(shù)2～6的亞烷基。R4～R9為碳數(shù)1至8的未取代或取代烷氧基、未取代或取代芳氧基、乙烯基氧基、羥基、氫原子及鹵素原子中的任一者，任選相同或不同。)
M(OR10)n(3)
(M為選自Be、Al、Sc、Ti、V、Cr、Fe、Ni、Zn、Ga、Ge、As、Se、Y、Zr、Nb、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、W、Pb、Bi、Ce及Cu中的1種元素，R10為碳數(shù)1至10的未取代或取代烷基。n為與M的化合價相同的整數(shù)。)
〔2〕根據(jù)上述〔1〕所述的覆膜形成用的涂布液，其特征在于，在該覆膜形成用涂布液中，源自B成分的SiO2換算濃度(濃度C2)處于0.005～12質量％的范圍，源自C成分的MOX換算濃度(濃度C3)處于0.02～14質量％的范圍，濃度C2和濃度C3的總計(濃度CT)處于0.1～15質量％的范圍。
〔3〕根據(jù)上述〔1〕或〔2〕所述的覆膜形成用的涂布液，其特征在于，其還包含下述式(4)所示的4官能硅烷化合物及其水解縮合物中的至少一者(D成分)，D成分的摩爾數(shù)(M4)相對于B成分的摩爾數(shù)(M2)的摩爾比(M4/M2)的值處于0.01以上且1以下的范圍。
Si(R11)4(4)
(R11為碳數(shù)1至8的未取代或取代烷氧基、未取代或取代芳氧基、乙烯基氧基、羥基、氫原子及鹵素原子中的任一者，任選相同或不同。)
〔4〕根據(jù)上述〔3〕所述的覆膜形成用的涂布液，其特征在于，在該覆膜形成用涂布液中，源自B成分的SiO2換算濃度(濃度C2)為0.005～12質量％，源自C成分的MOX換算濃度(濃度C3)為0.02～14質量％，源自D成分的SiO2換算濃度(濃度C4)為12質量％以下，濃度C2、濃度C3及濃度C4的總計(濃度CT)為0.1～15質量％。
〔5〕根據(jù)上述〔1〕～〔4〕中任一項所述的覆膜形成用的涂布液，其特征在于，有機溶劑的沸點為120℃以上，20℃時的粘度處于1～400mPa·s的范圍。
〔6〕根據(jù)上述〔1〕～〔5〕中任一項所述的覆膜形成用的涂布液的制造方法，其特征在于，實施以下的預備工序1、預備工序2及主工序。
預備工序1：將有機溶劑、水、B成分(式(2)所示的6官能硅烷化合物)和水解催化劑配混來制備6官能硅烷溶液的工序(其中，B成分的配混量相對于預備工序2中的C成分金屬1摩爾為0.5摩爾以上且8摩爾以下的范圍。)
預備工序2：將有機溶劑、A成分和C成分(式(3)所示的金屬醇鹽)配混來制備金屬醇鹽溶液的工序(其中，A成分的配混量相對于C成分金屬1摩爾為0.25摩爾以上且小于2摩爾的范圍。)
主工序：在由預備工序1得到的6官能硅烷溶液中添加由預備工序2得到的金屬醇鹽溶液，接著添加水，在5℃以上且40℃以下的溫度下進行攪拌混合的工序
(R3為碳數(shù)2～6的亞烷基。R4～R9為碳數(shù)1至8的未取代或取代烷氧基、未取代或取代芳氧基、乙烯基氧基、羥基、氫原子、及鹵素原子中的任一者，任選相同或不同。)
M(OR10)n(3)
(M為選自Be、Al、Sc、Ti、V、Cr、Fe、Ni、Zn、Ga、Ge、As、Se、Y、Zr、Nb、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、W、Pb、Bi、Ce及Cu中的1種元素。R10為碳數(shù)1至10的未取代或取代烷基。n為與M的化合價相同的整數(shù)。)
〔7〕根據(jù)上述〔6〕所述的覆膜形成用的涂布液的制造方法，其特征在于，水解及縮合后的B成分的重均分子量(聚苯乙烯換算)為300以上且3000以下的范圍。
〔8〕根據(jù)上述〔6〕或〔7〕所述的覆膜形成用的涂布液的制造方法，其特征在于，在預備工序1中，進一步添加上述〔3〕中的D成分(式(4)所示的4官能硅烷化合物)，D成分的摩爾數(shù)(M4)相對于B成分的摩爾數(shù)(M2)的摩爾比(M4/M2)為0.01以上且0.5以下的范圍。
〔9〕根據(jù)上述〔6〕或〔7〕所述的覆膜形成用的涂布液的制造方法，其特征在于，在主工序中，進行B成分和C成分的共水解及縮合反應。
〔10〕根據(jù)上述〔8〕所述的覆膜形成用的涂布液的制造方法，其特征在于，在主工序中，進行B成分、C成分及D成分的共水解及縮合反應。
〔11〕一種帶覆膜的基材，其特征在于，其是將上述〔1〕～〔5〕中任一項所述的覆膜形成用的涂布液涂布于基材而成的。
〔12〕根據(jù)上述〔11〕所述的帶覆膜的基材，其特征在于，覆膜的平均膜厚為20nm以上且200nm以下。
〔13〕根據(jù)上述〔11〕或〔12〕所述的帶覆膜的基材的制造方法，其特征在于，實施以下的成膜工序1至成膜工序4。
成膜工序1：將覆膜形成用涂布液涂布于基材的工序，
成膜工序2：在成膜工序1后將基材在80℃以上且150℃以下進行加熱并干燥的工序，
成膜工序3：在成膜工序2后對在基材上形成的涂布膜照射紫外線的工序，
成膜工序4：在成膜工序3后將在基材上形成的涂布膜在80℃以上且300℃以下進行加熱的工序。
〔14〕根據(jù)上述〔13〕所述的帶覆膜的基材的制造方法，其特征在于，紫外線包含波長254nm的紫外線和波長365nm的紫外線中的至少任一者。
根據(jù)本發(fā)明，能夠提供涂布于基材后具有充分的硬度、且難以產生裂紋、進而耐化學藥品性也優(yōu)異的覆膜形成用涂布液、覆膜形成用涂布液的制造方法、及帶覆膜的基材。
更詳細而言，本發(fā)明的覆膜形成用涂布液通過UV處理及80～300℃這種在較低溫下的加熱處理能夠形成顯示出充分的硬度和耐擦傷性等、顯示出高折射率(折射率1.3～2.3)的覆膜。
通過本發(fā)明的帶覆膜的基材的制造方法，能夠形成即使對耐熱性差的基材也顯示出充分的硬度和耐擦傷性等的覆膜。
本發(fā)明的帶覆膜的基材可以優(yōu)選用于液晶顯示裝置的電極基板與取向膜之間使用的絕緣膜、觸摸面板的電極上的保護膜等。
具體實施方式
以下，關于本發(fā)明的覆膜形成用涂布液、覆膜形成用涂布液的制造方法、帶覆膜的基材、及帶覆膜的基材的制造方法，詳細地說明一個實施方式。
〔覆膜形成用涂布液〕
本實施方式中的覆膜形成用涂布液(以下，也簡稱為“本涂布液”。)是在包含水和有機溶劑的混合溶劑中溶解或分散有能夠與金屬醇鹽形成螯合物的有機化合物(A成分)、上述式(2)所示的6官能硅烷化合物及其水解縮合物中的至少任一者(B成分)和上述式(3)所示的金屬醇鹽及其水解縮合物中的至少任一者(C成分)而成的。
<A成分>
本涂布液中的A成分為能夠與金屬醇鹽形成螯合物的有機化合物。
作為能夠與金屬醇鹽形成螯合物的有機化合物，例如可以舉出：乙酰丙酮、三氟乙酰丙酮、六氟乙酰丙酮、苯甲酰丙酮、苯甲酰三氟丙酮、二苯甲酰甲烷、呋喃甲酰丙酮、三氟呋喃甲酰丙酮、苯甲酰呋喃甲酰甲烷、噻吩甲酰丙酮、三氟噻吩甲酰丙酮、呋喃甲酰噻吩甲酰丙酮、羥喹啉、2-甲基羥喹啉、4-甲基羥喹啉、5-甲基羥喹啉、6-甲基羥喹啉、7-甲基羥喹啉、羥喹啉-5-磺酸、7-碘羥喹啉-5-磺酸、喹啉-2-羧酸、喹啉-8-羧酸、8-羥基噌啉、4-羥基-1,5-萘啶、8-羥基-1,6-萘啶、8-羥基-1,7-萘啶、5-羥基喹喔啉、8-羥基喹唑啉、2,2′-聯(lián)吡啶、2-(2′-噻吩基)吡啶、1,10-菲咯啉、2-甲基-1,10-菲咯啉、5-甲基-1,10-菲咯啉、2,9-二甲基-1,10-菲咯啉、4,7-二甲基-1,10-菲咯啉、5-氯-1,10-菲咯啉、6-溴-1,10-菲咯啉、5-硝基-1,10-菲咯啉、5-苯基-1,10-菲咯啉、4,7-二苯基-1,10-菲咯啉、二甲基乙二肟、二甲基乙二肟-鄰甲基酯、二甲基二硫代氨基甲酸鹽、二乙基二硫代氨基甲酸鹽、N-亞硝基苯基羥基胺、1-亞硝基-2-萘酚、2-亞硝基-1-萘酚、3-羥基黃酮、5-羥基黃酮、1-(2-吡啶基偶氮)-2-萘酚、4-(2-吡啶基偶氮)間苯二酚、2-(4′-二甲基氨基苯基偶氮)吡啶、鉻黑A、鉻黑T、鉻藍黑B、鉻藍黑R、酞紫、鏈烷醇胺及羥基酸等。
作為A成分，特別優(yōu)選下述式(1)所示的具有2個以上羰基的羰基化合物。
上述式(1)中，R1為碳數(shù)1～10的有機基團。R2為碳數(shù)1～10的有機基團或羥基。
作為R1，例如可以舉出：甲基、乙基、異丙基、苯基、呋喃基、噻吩基、三氟甲基、甲氧基及乙氧基等。作為R1，特別優(yōu)選甲基、乙基及乙氧基。
作為R2中的有機基團，例如可以舉出：甲基、乙基、異丙基、苯基、呋喃基、噻吩基、三氟基、甲氧基及乙氧基等。
作為A成分，可以使用1種也可以混合任意2種以上來使用，從作為螯合劑的效果的觀點出發(fā)，特別優(yōu)選使用乙酰丙酮。
<B成分>
本涂布液中的B成分為下述式(2)所示的6官能硅烷化合物及其水解縮合物中的至少任一者。通過本涂布液中配混B成分，涂布膜的耐裂紋性提高，且耐化學藥品性、絕緣性也提高。
此處，R3為碳數(shù)2～6的亞烷基。另外，R4～R9為碳數(shù)1至8的未取代或取代烷氧基、未取代或取代芳氧基、乙烯基氧基、羥基、氫原子及鹵素原子中的任一者，任選相同或不同。
作為這樣的6官能硅烷化合物，例如優(yōu)選可以舉出：1,2-雙(三乙氧基甲硅烷基)乙烷((C2H5O)3-Si-C2H4-Si(OC2H5)3)、1,2-雙(三乙氧基甲硅烷基)丙烷、1,2-雙(三乙氧基甲硅烷基)丁烷、1,2-雙(三乙氧基甲硅烷基)戊烷、1,2-雙(三乙氧基甲硅烷基)己烷、1,2-雙(三甲氧基甲硅烷基)乙烷、1,2-雙(三甲氧基甲硅烷基)丙烷、1,2-雙(三甲氧基甲硅烷基)丁烷、1,2-雙(三甲氧基甲硅烷基)戊烷及1,2-雙(三甲氧基甲硅烷基)己烷等。它們可以使用1種也可以混合任意2種以上來使用。R3的鏈變得過于長時，有難以得到充分的硬度的擔心，因此作為亞烷基，優(yōu)選碳數(shù)2以上且6以下的亞烷基。另外，R4～R9彼此不同時，水解速度產生差異，難以引起均勻的反應。因此，作為B成分，優(yōu)選使用(C2H5O)3-Si-C2H4-Si(OC2H5)3。
另外，水解縮合后的B成分的重均分子量(聚苯乙烯換算)為300以上且3000以下的范圍時，從耐裂紋性的觀點出發(fā)，為更優(yōu)選。此處，重均分子量可以通過GPC(凝膠滲透色譜法)求出。
如上述那樣，通過本涂布液中配混B成分(6官能硅烷化合物)，涂布膜(覆膜)的耐裂紋性提高。可以說這是因為：6官能硅烷化合物具有的有機基團(亞烷基)的存在會對覆膜賦予撓性，進而與形成覆膜的基材(有機材料)的濕潤性提高。另外，通過成膜工序中的紫外線照射，該有機基團一部分或全部分解的情況下，也向緩和應力集中的方向起作用，因此可以說這也有助于耐裂紋性的提高。另外，與MTMS(甲基三甲氧基硅烷)等具有取代烷基的硅烷化合物不同，可以在不使覆膜的交聯(lián)度降低的情況下制成致密的，因此耐化學藥品性會提高。
進而，在本發(fā)明的覆膜形成用涂布液的制造方法中，理想的是，使B成分(6官能硅烷化合物)低聚物化(重均分子量(聚苯乙烯換算)為300以上且3000以下)后，與C成分(金屬醇鹽及其水解縮合物中的至少一者)進行共水解縮合，這樣得到的共水解縮合物是致密的、耐裂紋性優(yōu)異。
<C成分>
本涂布液中的C成分為下述式(3)所示的金屬醇鹽及其水解縮合物中的至少任一者。
M(OR10)n(3)
此處，R10為碳數(shù)1至10的未取代或取代烷基。M為金屬元素。n為與M的化合價相同的整數(shù)。
此處，作為金屬元素M，選擇除了Si以外的金屬元素。具體而言，金屬元素M使用選自Be、Al、Sc、Ti、V、Cr、Fe、Ni、Zn、Ga、Ge、As、Se、Y、Zr、Nb、In、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、W、Pb、Bi、Ce及Cu中的至少1種元素。
作為C成分的金屬醇鹽，例如可優(yōu)選列舉出：三甲氧基鋁、三乙氧基鋁、三丙氧基鋁、三異丙氧基鋁、三正丁氧基鋁、三異丁氧基鋁、三叔丁氧基鋁、三戊氧基鋁、三己氧基鋁、三辛氧基鋁、三芐氧基鋁、三苯氧基鋁、三甲氧基乙氧基鋁、三甲氧基乙氧基乙氧基鋁、三甲氧基丙氧基鋁、四甲氧基鈦、四乙氧基鈦、四丙氧基鈦、四異丙氧基鈦、四甲氧基乙氧基鈦、四丁氧基鈦、四甲氧基鋯、四乙氧基鋯、四丙氧基鋯、四異丙氧基鋯、四甲氧基乙氧基鋯、丁氧基鋯、五乙氧基鈮、三甲氧基銦、三乙氧基銦、三丙氧基銦、三異丙氧基銦、三正丁氧基銦、三異丁氧基銦、三叔丁氧基銦、三戊氧基銦、三己氧基銦、三辛氧基銦、三芐氧基銦、三苯氧基銦、三甲氧基乙氧基銦、三甲氧基乙氧基乙氧基銦、三甲氧基丙氧基銦、三甲氧基銻、三乙氧基銻、三丙氧基銻、三異丙氧基銻、三正丁氧基銻及三異丁氧基銻等。它們可以使用1種也可以混合任意2種以上來使用，從水解速度合適、獲得容易的觀點出發(fā)，優(yōu)選使用四異丙氧基鈦。
<混合溶劑>
作為本涂布液中的混合溶劑，使用水和有機溶劑的混合溶劑。優(yōu)選被混合的有機溶劑中的至少1種有機溶劑的沸點為120℃以上。其中，優(yōu)選沸點為300℃以下。另外，20℃下的有機溶劑的粘度優(yōu)選處于1～400mPa·s的范圍、更優(yōu)選處于20～350mPa·s的范圍。
作為有機溶劑，例如可優(yōu)選列舉出：甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、二丙酮醇、糠醇、乙二醇、己二醇等醇類、乙酸甲酯、乙酸乙酯等酯類、二乙基醚、乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二醇單丁基醚、丙二醇單甲基醚、丙二醇單丙基醚等醚類、丙酮及甲乙酮等酮類等。它們可以使用1種也可以混合任意2種以上來使用。
需要說明的是，作為本涂布液中的該有機溶劑，將能夠與金屬醇鹽形成螯合物的有機化合物(A成分)排除在外。
<D成分>
另外，在本涂布液中，作為D成分，可以進一步配混下述式(4)所示的4官能硅烷化合物及其水解縮合物中的至少一者。
Si(R11)4(4)
此處，R11為碳數(shù)1至8的未取代或取代烷氧基、未取代或取代芳氧基、乙烯基氧基、羥基、氫原子、及鹵素原子中的任一者，任選相同或不同。
作為碳數(shù)1至8的未取代烷氧基，可以舉出：甲氧基、乙氧基、異丙氧基及丁氧基等。同樣作為取代烷氧基，可以舉出：將未取代烷氧基的氫原子取代為甲基、乙基等而成的基團。作為芳氧基，可以舉出：苯氧基和萘氧基等。作為鹵素原子，可以舉出：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子等。
通過進一步配混D成分，能夠進一步提高涂布膜的硬度。
作為D成分的4官能硅烷化合物，例如可列舉出：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四異丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷四氯硅烷及三甲氧基硅烷等。作為D成分，特別優(yōu)選四乙氧基硅烷。
D成分可以僅使用1種也可以任意混合2種以上來使用。
<本涂布液中的各成分的配混比例>
在本涂布液中，A成分的摩爾數(shù)(M1)與C成分的摩爾數(shù)(M3)的摩爾比(M1/M3)必須處于0.25以上且小于2的范圍，優(yōu)選處于0.5以上且1以下的范圍。此處，在A成分、C成分水解的情況下，M1、M2也是以水解前的結構作為基準的值。
摩爾比(M1/M3)為2以上時，A成分配位于C成分中的OR10部的大部分，有B成分與C成分的反應被抑制的擔心，因此，膜固化時難以形成-M-O-Si-的交聯(lián)，有所得覆膜的硬度變得不充分的擔心。另外，覆膜中殘留的A成分的量增加，還有膜的表面電阻值等電特性經時變化、可靠性降低的擔心。
另外，摩爾比(M1/M3)小于0.25時，C成分的反應的進行變得過大，因此涂布液中的水解縮合物的穩(wěn)定性變差、涂布液壽命變短，因此，有對所得覆膜的耐裂紋性帶來不良影響的擔心。
另外，源自B成分的SiO2換算濃度(濃度C2)優(yōu)選為0.005～12質量％、更優(yōu)選為0.01～8質量％。濃度C2為0.005質量％以上時，水解反應更順利地進行，在形成覆膜時可以充分提高耐裂紋性。另外，濃度C2為12質量％以下時，水解反應不會過度進行，可以得到穩(wěn)定的涂布液。
源自C成分的SiO2換算濃度(濃度C3)優(yōu)選為0.02～14質量％、更優(yōu)選為0.04～9.5質量％。濃度C3為0.02質量％以上時，水解反應更順利地進行，在形成覆膜時可以充分提高耐裂紋性。另外，濃度C3為14質量％以下時，水解反應也不會過度進行，可以得到穩(wěn)定的涂布液。
源自D成分的SiO2換算濃度(濃度C4)優(yōu)選為0.0001～12質量％、更優(yōu)選為0.0005～9.5質量％。濃度C4為0.0001質量％以上時，膜的硬度提高，從而優(yōu)選，為12質量％以下時，難以引起耐裂紋性的降低，是優(yōu)選的。
B成分的摩爾數(shù)(M2)與C成分的摩爾數(shù)(M3)的摩爾比(M2/M3)必須處于0.5以上且8以下的范圍，優(yōu)選處于0.6以上且7.5以下的范圍。此處，在B成分、C成分水解的情況下，(M2)、(M3)也是以水解前的結構作為基準的值。
摩爾比(M2/M3)小于0.5時，涂布液的穩(wěn)定性降低、涂布液壽命也變短，因此有時所得覆膜的膜厚、折射率、硬度等特性不能恒定，進而還有耐裂紋性降低的擔心。
摩爾比(M2/M3)超過8時，所得覆膜的硬度變得不充分，還有耐裂紋性降低的擔心。
在本涂布液中，作為濃度C2和濃度C3的總計值的濃度CT(總固體成分濃度)優(yōu)選處于0.1～15質量％的范圍、更優(yōu)選處于0.2～10質量％的范圍。濃度CT為0.1質量％以上時，可以在通常的涂布條件下使所得到的膜厚增厚，為了得到用于表現(xiàn)本發(fā)明效果的膜厚而進行重復涂布的必要性也變少。濃度CT為15質量％以下時，可以在通常的涂布條件下將所得到的膜厚控制為適當?shù)暮穸龋种屏鸭y的產生變得容易。另外，涂布液的穩(wěn)定性也變得充分，因此，可以抑制經時的粘度上升、穩(wěn)定地得到所得覆膜的膜厚、折射率、硬度等特性。
D成分的摩爾數(shù)(M4)相對于B成分的摩爾數(shù)(M2)的摩爾比(M4/M2)的值優(yōu)選處于0.01以上且1以下的范圍、進一步優(yōu)選為0.01以上且0.5以下的范圍。摩爾比(M4/M2)為0.01以上時，膜的硬度提高而優(yōu)選，為1以下時，難以引起耐裂紋性的降低，是優(yōu)選的。
此處，在B成分、D成分水解的情況下，(M2)、(M4)也是以水解前的結構作為基準的值。
在本涂布液中，可以是B成分的一部分與C成分的一部分進行共水解縮合。即，本涂布液可以含有式(2)所示的6官能硅烷化合物及其水解縮合物的一部分與式(3)所示的金屬醇鹽及其水解縮合物的一部分的共水解縮合物。
另外，在本涂布液進一步含有D成分的情況下，可以含有式(2)所示的6官能硅烷化合物及其水解縮合物的一部分、式(3)所示的金屬醇鹽及其水解縮合物的一部分、以及式(4)所示的4官能硅烷化合物及其水解縮合物的一部分的共水解縮合物。
本涂布液中有時殘留來自后述本涂布液的制造工序的水解用催化劑0.2質量％左右。作為這樣的水解催化劑，代表性地可以舉出硝酸等?？梢愿鶕?jù)本涂布液的適用用途、根據(jù)期望去除水解催化劑。作為這樣的操作，例如可以舉出：離子交換、中和、蒸餾等。
需要說明的是，本發(fā)明的覆膜形成用涂布液中，可以在不妨礙其效果的范圍內添加任意成分。作為這樣的任意成分的例子，可列舉出：無機氧化物微粒、有機樹脂微粒、有機聚硅氧烷樹脂微粒、顏料、著色料、抗靜電劑及表面活性劑等。
從可視性的觀點出發(fā)，由本發(fā)明的覆膜形成用涂布液得到的覆膜優(yōu)選為透明的。
〔本涂布液的制造方法〕
本涂布液的制造方法的特征在于，其包括下述的預備工序1、預備工序2及主工序。
預備工序1：將有機溶劑、水、B成分(式(2)所示的6官能硅烷化合物)和水解催化劑配混來制備6官能硅烷溶液的工序(其中，B成分的配混量相對于預備工序2中的C成分金屬1摩爾為0.5摩爾以上且8摩爾以下的范圍。)
(本申請中，將預備工序1中制備的包含6官能硅烷化合物及其水解縮合物中的至少任一者的溶液稱為“6官能硅烷溶液”。)
預備工序2：將有機溶劑、A成分和C成分(式(3)所示的金屬醇鹽)配混來制備金屬醇鹽溶液的工序(其中，A成分相對于C成分的金屬元素M1摩爾為0.25摩爾以上且小于2摩爾的范圍。)
(本申請中，將預備工序2中制備的包含金屬醇鹽及其水解縮合物中的至少任一者的溶液稱為“金屬醇鹽溶液”。)
主工序：在由預備工序1得到的6官能硅烷溶液中添加由預備工序2得到的金屬醇鹽溶液，接著添加水，在5℃以上且40℃以下的溫度下進行攪拌混合的工序。
關于上述各工序，以下詳細地說明優(yōu)選實施方式。
<預備工序1>
預備工序1中，在有機溶劑中在水及水解用催化劑的存在下，使作為B成分的6官能硅烷化合物進行水解縮合，制備6官能硅烷化合物的水解縮合物分散于混合溶劑中而成的6官能硅烷溶液。
作為水解催化劑，可以使用以往公知的催化劑，作為其例子，可以例示出(a)硝酸、乙酸、鹽酸、硫酸、磷酸、氟化氫等無機酸、(b)草酸、馬來酸等羧酸、(c)甲磺酸等磺酸、以及(d)酸性或弱酸性的無機鹽等，但不限定于這些。另外，這些催化劑可以任意地混合使用多種。
水解催化劑的量相對于B成分的6官能硅烷化合物(SiO2換算)以增量(日文：外割；英文：outer percentage)計優(yōu)選在0.001～1摩爾％的范圍內。
水的用量相對于B成分的6官能硅烷化合物1摩爾(SiO2換算)以增量計優(yōu)選為0.5～4摩爾的范圍。如果為該摩爾比的范圍，則在有效地推進B成分的6官能硅烷化合物的水解方面是有效的。需要說明的是，水的用量更優(yōu)選為1～3摩爾的范圍。
B成分在混合溶劑中的量只要為水解縮合能夠進行的程度就沒有特別限定，優(yōu)選為0.01～8質量％(SiO2換算)的范圍。
預備工序1中，通常在有機溶劑中添加水、水解用催化劑、B成分(式(2)所示的6官能硅烷化合物)，在5～40℃下進行5～120分鐘的攪拌，來制備6官能硅烷溶液。
需要說明的是，在進一步配混D成分的情況下，在該預備工序1中進行配混。優(yōu)選的配混量如上所述。
<預備工序2>
預備工序2中，在有機溶劑中添加A成分和C成分(式(3)所示的金屬醇鹽)并攪拌，從而制備包含金屬醇鹽、其水解縮合物的金屬醇鹽溶液。優(yōu)選的有機溶劑如上所述。另外，作為A成分、C成分的例子，可以優(yōu)選舉出上述各化合物。
預備工序2中的A成分的摩爾數(shù)(M1)相對于C成分的摩爾數(shù)(M3)的摩爾比(M1/M3)必須處于0.25以上且小于2的范圍。預備工序2中，A成分配位于C成分的烷氧基，如果摩爾比(M1/M3)為0.25以上且小于2的范圍，則會殘留不與A成分具有的螯合物配位基配位的金屬醇鹽，因此在抑制C成分的反應性的方面是優(yōu)選的。需要說明的是，摩爾比(M1/M3)更優(yōu)選為0.5以上且1以下的范圍。
摩爾比(M1/M3)為2以上時，金屬醇鹽對于烷氧基的配位過度進行，因此金屬醇鹽的穩(wěn)定化變得過大，還影響與6官能硅烷等的共水解縮合，有也不適于覆膜形成用涂布液的低溫固化(80～300℃)的擔心。
預備工序2中的C成分的MOX換算濃度優(yōu)選為0.04～9.5質量％的范圍。
由預備工序2制備的金屬醇鹽溶液包含配位有A成分的金屬醇鹽、其水解縮合物。
〔主工序〕
在由預備工序1制備的6官能硅烷溶液中添加由預備工序2制備的金屬醇鹽溶液，接著添加水，在5～40℃下進行攪拌混合，制備本涂布液。
此處，B成分的摩爾數(shù)(M2)與C成分的摩爾數(shù)(M3)優(yōu)選摩爾比(M2/M3)滿足0.5以上且8以下的范圍。這是因為：摩爾比(M2/M3)處于該范圍時，共水解反應順利進行。
通過上述水的添加，6官能硅烷的水解縮合物與金屬醇鹽和/或其水解縮合物的共水解縮合反應得到促進，因此在得到致密的覆膜方面為優(yōu)選。
〔帶覆膜的基材的制造方法〕
本實施方式的帶覆膜的基材的制造方法的特征在于，實施以下的成膜工序1至成膜工序4。
成膜工序1：將本涂布液涂布于基材的工序，
成膜工序2：在前述成膜工序1后將前述基材在80℃以上且150℃以下進行加熱并干燥的工序，
成膜工序3：在前述成膜工序2后對前述基材照射紫外線的工序，
成膜工序4：在前述成膜工序3后對前述基材在80℃以上且300℃以下進行加熱的工序。
關于上述各成膜工序，以下詳細地說明優(yōu)選實施方式。
<成膜工序1>
成膜工序1中，將本涂布液涂布于基材。作為涂布方法，可以采用浸漬法、旋轉法、棒涂法、噴涂法、輥涂法、柔性版印刷法、狹縫涂布法等以往公知的方法。作為前述基材，例如可列舉出：玻璃、ITO膜經過處理的基材、使用了聚碳酸酯、丙烯酸類樹脂(acrylic resin)、PET及TAC等原材料的片、薄膜及面板等。
<成膜工序2>
對于加熱及干燥的溫度，如果可以在不使基材變質的情況下得到期望的強度、硬度、耐擦傷性等，則沒有特別限制，優(yōu)選為80～150℃的范圍、更優(yōu)選為90～140℃的范圍。另外，加熱及干燥優(yōu)選用1～10分鐘左右。
干燥和加熱沒有明確的界限，如果可以得到具有期望的硬度、強度等的覆膜，則可以同時實施干燥和加熱，也可以在干燥后在比干燥溫度還高溫下進行加熱。
作為干燥方法、加熱方法，可以采用以往公知的方法。另外，也可以組合使用電磁波照射處理。
干燥溫度及加熱溫度低于80℃時，由于溶劑殘留、-M-O-M-或-M-O-Si-的交聯(lián)不足而無法得到充分的膜強度，加熱干燥溫度超過350℃時，B成分的有機基團分解，有時無法得到目標的膜特性。
<成膜工序3>
成膜工序3中，在成膜工序2后對加熱干燥了的覆膜照射紫外線(UV)。例如，使用2kw的高壓汞燈，照射3000mJ/cm2的紫外線。通過UV照射，加熱干燥了的覆膜內產生A成分的脫離，覆膜在成膜工序4中變?yōu)槿菀捉宦?lián)的狀態(tài)。作為紫外線，從殘留溶劑的去除、促進-M-O-M-或-M-O-Si-的交聯(lián)的觀點出發(fā)，更優(yōu)選含有波長254nm的紫外線和波長365nm的紫外線中的至少任一者。特別是，進一步優(yōu)選含有波長254nm的紫外線和波長365nm的紫外線這兩者。
<成膜工序4>
在成膜工序3后，作為成膜工序4，將覆膜在80～300℃的范圍內進行加熱。通過該加熱，覆膜變?yōu)槌浞诌M行了交聯(lián)的狀態(tài)。如果加熱溫度處于80～300℃的范圍，則例如在抑制ITO布線的電阻變化這方面是有利的。需要說明的是，加熱時間優(yōu)選為1～10分鐘。
〔帶覆膜的基材〕
本實施方式中的帶覆膜的基材能夠抑制在觸摸面板等顯示元件中布線被看到、鉛筆硬度、耐化學藥品性及絕緣性高。另外，若使用本實施方式中的覆膜形成用涂布液，則基本不產生涂布膜的裂紋、能夠以較低溫進行固化。
此處，通過上述成膜工序得到的覆膜基材的覆膜的平均膜厚(T)優(yōu)選處于20～200nm的范圍、更優(yōu)選處于40～150nm的范圍。
覆膜的平均膜厚(T)為20nm以上時，膜厚充分，因此難以產生無法成膜的部分(涂布不均)，也可以充分得到成膜的效果。另一方面，覆膜的平均膜厚(T)為200nm以下時，可以充分抑制裂紋的產生，而且膜的強度、硬度也變得充分。
本發(fā)明的帶覆膜的基材可以優(yōu)選用于液晶顯示裝置的電極基板與取向膜之間使用的絕緣膜、觸摸面板的電極上的保護膜等。
實施例
通過以下的實施例，對用于形成透明的覆膜的涂布液和帶覆膜的基材進行說明，但本發(fā)明不受這些實施例的限定。
〔實施例1〕
用于制造覆膜形成用涂布液及帶覆膜的基材的各工序如下。將配混的各成分的種類及配混量示于表1。
(預備工序1)
將己二醇(和光純藥株式會社制)4673.08g、純水214.07g及濃度60質量％的硝酸3.57g混合，攪拌5分鐘。接著，邊攪拌邊添加作為B成分6官能硅烷化合物的1,2-雙(三乙氧基甲硅烷基)乙烷(YAMANAKA HUTECH CORPORATION制：SiO2濃度33.8質量％)1055.55g，攪拌30分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液1-1。
(預備工序2)
將己二醇(和光純藥株式會社制)2966.06g、作為A成分含羰基有機化合物的乙酰丙酮(和光純藥株式會社制)148.66g、作為C成分金屬醇鹽的Orgatix TA-10(Matsumoto Fine Chemical Co.Ltd.制：TiO2濃度28質量％)849.47g混合，攪拌5分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液2-1。
(主工序)
邊攪拌邊在預備液1-1中混合預備液2-1，攪拌10分鐘，然后加入純水49.55g，在5℃下攪拌144小時。攪拌結束后，用0.2μm的過濾器進行過濾，去除聚集物等，制備總固體成分濃度6.0質量％的覆膜形成用涂布液(1)。
(帶覆膜的基材(1)的制造)
通過柔性版印刷法將覆膜形成用涂布液(1)涂布于帶ITO膜的玻璃基板(AGC fabritech Co.,Ltd制、厚度：1.1mm)上，在90℃下干燥5分鐘，接著，照射波長365nm的紫外線(3000mJ/cm2)和波長254nm的紫外線(2000mJ/cm2)，然后在230℃下加熱30分鐘，從而制備帶覆膜的基材(1-1)。
對于得到的帶覆膜的基材(1-1)，用以下方法測定膜厚、鉛筆硬度、表面電阻、耐化學藥品性。將其結果示于表1。
另外，在帶二氧化硅膜的玻璃基板(AGC fabritech Co.,Ltd制、厚度：1.1mm)上形成2μm的丙烯酸類樹脂(acrylic resin)層。使用棒涂機(No.3)涂布丙烯酸類樹脂層，接著在90℃下干燥5分鐘，然后在230℃下加熱30分鐘。通過柔性版印刷法將覆膜形成用涂布液(1)涂布于該帶丙烯酸類樹脂層的玻璃基板上，在90℃下干燥5分鐘，接著，照射3000mJ/cm2的紫外線(波長365nm)，然后在230℃下加熱30分鐘，從而制備帶覆膜的基材(1-2)。
對于得到的帶覆膜的基材(1-2)，用以下方法測定耐裂紋性。將其結果示于表1。
另外，通過柔性版印刷法將覆膜形成用涂布液(1)涂布于6英寸硅晶圓(MATSUZAKI SEISAKUSYO CO.,LTD.制、厚度：0.625mm)上，在90℃下干燥5分鐘，接著，照射3000mJ/cm2的紫外線(波長365nm)，然后在230℃下加熱30分鐘，從而制備帶覆膜的基材(1-3)。
對于得到的帶覆膜的基材(1-3)，用以下方法測定折射率。將其結果示于表1。
〔實施例2〕
除了以下的預備工序以外，與實施例1同樣地操作，制備覆膜形成用涂布液(2)，進而制造帶覆膜的基材(2-1)～(2-3)。然后，與實施例1同樣地操作并進行評價。
(預備工序1)
將己二醇(和光純藥株式會社制)5841.36g、純水267.58g及濃度60質量％的硝酸4.46g混合，攪拌5分鐘。接著，邊攪拌邊添加作為B成分6官能硅烷化合物的1,2-雙(三乙氧基甲硅烷基)乙烷(YAMANAKA HUTECH CORPORATION制：SiO2濃度33.8質量％)1319.44g，攪拌30分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液1-2。
(預備工序2)
將己二醇(和光純藥株式會社制)1853.78g、作為A成分含羰基有機化合物的乙酰丙酮(和光純藥株式會社制)92.91g、作為C成分金屬醇鹽的Orgatix TA-10(Matsumoto Fine Chemical Co.Ltd.制：TiO2濃度28質量％)530.92g混合，攪拌5分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液2-2。
〔實施例3〕
除了以下的預備工序以外，與實施例1同樣地操作，制備覆膜形成用涂布液(3)，進而制造帶覆膜的基材(3-1)～(3-3)。然后，與實施例1同樣地操作并進行評價。
(預備工序1)
將己二醇(和光純藥株式會社制)6620.20g、純水303.26g及濃度60質量％的硝酸5.05g混合，攪拌5分鐘。接著，邊攪拌邊添加作為B成分6官能硅烷化合物的1,2-雙(三乙氧基甲硅烷基)乙烷(YAMANAKA HUTECH CORPORATION制：SiO2濃度33.8質量％)1495.36g，攪拌30分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液1-3。
(預備工序2)
將己二醇(和光純藥株式會社制)1112.27g、作為A成分含羰基有機化合物的乙酰丙酮(和光純藥株式會社制)55.75g、作為C成分金屬醇鹽的Orgatix TA-10(Matsumoto Fine Chemical Co.Ltd.制：TiO2濃度28質量％)318.55g混合，攪拌5分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液2-3。
〔實施例4〕
除了以下的預備工序以外，與實施例1同樣地操作，制備覆膜形成用涂布液(4)，進而制造帶覆膜的基材(4-1)～(4-3)。然后，與實施例1同樣地操作并進行評價。
(預備工序1)
將己二醇(和光純藥株式會社制)2336.54g、純水107.03g及濃度60質量％的硝酸1.78g混合，攪拌5分鐘。接著，邊攪拌邊添加作為B成分6官能硅烷化合物的1,2-雙(三乙氧基甲硅烷基)乙烷(YAMANAKA HUTECH CORPORATION制：SiO2濃度33.8質量％)527.78g，攪拌30分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液1-4。
(預備工序2)
將己二醇(和光純藥株式會社制)5190.60g、作為A成分含羰基有機化合物的乙酰丙酮(和光純藥株式會社制)260.15g、作為C成分金屬醇鹽的Orgatix TA-10(Matsumoto Fine Chemical Co.Ltd.制：TiO2濃度28質量％)1486.57g混合，攪拌5分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液2-4。
〔實施例5〕
除了以下的預備工序以外，與實施例1同樣地操作，制備覆膜形成用涂布液(5)，進而制造帶覆膜的基材(5-1)～(5-3)。然后，與實施例1同樣地操作并進行評價。
(預備工序1)
將己二醇(和光純藥株式會社制)4612.00g、純水214.07g及濃度60質量％的硝酸3.57g混合，攪拌5分鐘。接著，邊攪拌邊添加作為B成分6官能硅烷化合物的1,2-雙(三乙氧基甲硅烷基)乙烷(YAMANAKA HUTECH CORPORATION制：SiO2濃度33.8質量％)703.7g和作為D成分4官能硅烷化合物的硅酸乙酯(多摩化學株式會社制：SiO2濃度28.8質量％)412.94g，攪拌30分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液1-5。
(預備工序2)
將己二醇(和光純藥株式會社制)2966.06g、作為A成分含羰基有機化合物的乙酰丙酮(和光純藥株式會社制)148.66g、作為C成分金屬醇鹽的Orgatix TA-10(Matsumoto Fine Chemical Co.Ltd.制：TiO2濃度28質量％)849.47g混合，攪拌5分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液2-5。
〔實施例6〕
除了以下的預備工序以外，與實施例1同樣地操作，制備覆膜形成用涂布液(6)，進而制造帶覆膜的基材(6-1)～(6-3)。
然后，與實施例1同樣地操作并進行評價。
(預備工序1)
將己二醇(和光純藥株式會社制)4612.00g、純水214.07g及濃度60質量％的硝酸3.57g混合，攪拌5分鐘。接著，邊攪拌邊添加作為B成分6官能硅烷化合物的1,2-雙(三乙氧基甲硅烷基)乙烷(YAMANAKA HUTECH CORPORATION制：SiO2濃度33.8質量％)703.7g和作為3官能硅烷化合物的甲基三甲氧基硅烷(信越化學工業(yè)株式會社制：KBM-13、SiO2濃度33.7質量％)352.89g，攪拌30分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液1-6。
(預備工序2)
將己二醇(和光純藥株式會社制)2966.06g、作為A成分含羰基有機化合物的乙酰丙酮(和光純藥株式會社制)148.66g、作為C成分金屬醇鹽的Orgatix TA-10(Matsumoto Fine Chemical Co.Ltd.制：TiO2濃度28質量％)849.47g混合，攪拌5分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液2-6。
〔比較例1〕
除了以下的預備工序以外，與實施例1同樣地操作，制備覆膜形成用涂布液(7)，進而制造帶覆膜的基材(7-1)～(7-3)。然后，與實施例1同樣地操作并進行評價。
(預備工序1)
將己二醇(和光純藥株式會社制)6737.03g、純水308.61g及濃度60質量％的硝酸5.14g混合，攪拌5分鐘。接著，邊攪拌邊添加作為B成分6官能硅烷化合物的1,2-雙(三乙氧基甲硅烷基)乙烷(YAMANAKA HUTECH CORPORATION制：SiO2濃度33.8質量％)1521.75g，攪拌30分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液1-7。
(預備工序2)
將己二醇(和光純藥株式會社制)1001.04g、作為A成分含羰基有機化合物的乙酰丙酮(和光純藥株式會社制)50.17g、作為C成分金屬醇鹽的Orgatix TA-10(Matsumoto Fine Chemical Co.Ltd.制：TiO2濃度28質量％)286.70g混合，攪拌5分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液2-7。
〔比較例2〕
除了以下的預備工序以外，與實施例1同樣地操作，制備覆膜形成用涂布液(8)，進而制造帶覆膜的基材(8-1)～(8-3)。然后，與實施例1同樣地操作并進行評價。
(預備工序1)
將己二醇(和光純藥株式會社制)1791.35g、純水82.06g及濃度60質量％的硝酸1.37g混合，攪拌5分鐘。接著，邊攪拌邊添加作為B成分6官能硅烷化合物的1,2-雙(三乙氧基甲硅烷基)乙烷(YAMANAKA HUTECH CORPORATION制：SiO2濃度33.8質量％)404.63g，攪拌30分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液1-8。
(預備工序2)
將己二醇(和光純藥株式會社制)5709.66g、作為A成分含羰基有機化合物的乙酰丙酮(和光純藥株式會社制)286.16g、作為C成分金屬醇鹽的Orgatix TA-10(Matsumoto Fine Chemical Co.Ltd.制：TiO2濃度28質量％)1635.22g混合，攪拌5分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液2-8。
〔比較例3〕
除了以下的預備工序以外，與實施例1同樣地操作，制備覆膜形成用涂布液(9)，進而制造帶覆膜的基材(9-1)～(9-3)。然后，與實施例1同樣地操作并進行評價。
(預備工序1)
將己二醇(和光純藥株式會社制)4669.95g、純水214.07g及濃度60質量％的硝酸3.57g混合，攪拌5分鐘。接著，邊攪拌邊添加作為硅烷化合物的硅酸乙酯(多摩化學株式會社制：SiO2濃度28.8質量％)1055.68g，攪拌30分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液1-9。
(預備工序2)
將己二醇(和光純藥株式會社制)2966.06g、作為A成分含羰基有機化合物的乙酰丙酮(和光純藥株式會社制)148.66g、作為C成分金屬醇鹽的Orgatix TA-10(Matsumoto Fine Chemical Co.Ltd.制：TiO2濃度28質量％)849.47g混合，攪拌5分鐘，從而制備固體成分濃度6.0質量％的預備液2-9。
〔評價項目·評價方法〕
對通過各實施例·各比較例得到的帶覆膜的基材進行以下的評價。另外，對覆膜形成用涂布液也如下所述地評價經時穩(wěn)定性。將其結果示于表1。
(1)膜厚
用表面粗糙度測定機(東京精密株式會社制：Surfcom)進行測定。
(2)表面電阻值
表面電阻值用表面電阻測定機(Mitsubishi Chemical Analytech Co.,Ltd.制：Hiresta UX MCP-HT800)進行測定。
(3)涂布膜的耐裂紋性
目視觀察涂布膜的表面，按照以下基準評價耐裂紋性。
◎：在涂布面內沒有確認到裂紋
○：在邊緣部確認到少量裂紋
×：在涂布面內產生裂紋
(4)鉛筆硬度
依據(jù)JIS-K-5600，用鉛筆硬度試驗器進行測定。即，對覆膜表面以45度的角度安裝鉛筆，負荷規(guī)定的加重，以一定速度牽拉，觀察損傷的有無。
(5)折射率
用光譜橢偏儀(SOPRA株式會社制：ES4G、@550nm)進行測定。
(6)耐化學藥品性
將各帶覆膜的基材浸漬在加熱至40℃的磷酸/硝酸/乙酸/水(質量比：80/5/5/10)混合液中5分鐘，用純水進行清洗。然后將該帶覆膜的基材浸漬在加熱至60℃的二乙二醇單丁基醚/2-氨基乙醇(質量比：70/30)混合液中5分鐘，用純水進行清洗，然后通過目視和光學顯微鏡來觀察涂布膜的狀態(tài)，按照以下基準評價耐化學藥品性。
○：有確認到涂布膜沒變化
×：產生涂布膜的剝離或裂紋
(7)涂布液的經時穩(wěn)定性
將涂布液在40℃下加熱72小時，然后用E型粘度計(東機產業(yè)株式會社制：TV‐25型)測定粘度，按照以下基準進行評價。
◎：沒有確認到粘度變化
○：可見粘度的微小的增加(小于5mPa·s)
×：可見粘度明顯的增加(5mPa·s以上)
[表1]
〔評價結果〕
如表1所示那樣可知，根據(jù)實施例1～6，使用本發(fā)明的覆膜形成用涂布液制造的帶覆膜的基材的表面硬度、耐裂紋性及耐化學藥品性全部優(yōu)異。
另一方面，根據(jù)比較例1～3，對于使用了沒有本發(fā)明的構成的覆膜形成用涂布液的情況，無法滿足表面硬度、耐裂紋性及耐化學藥品性的全部。