一種取向膜涂布裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種取向膜涂布裝置，其包括：機(jī)臺(tái)；二流體生成器，所述二流體生成器設(shè)置在所述機(jī)臺(tái)上，該二流體生成器包括液體進(jìn)料管、壓縮空氣進(jìn)氣管、二流體形成腔和旋轉(zhuǎn)噴頭；所述液體進(jìn)料管向所述二流體形成腔輸入的取向膜溶液與所述壓縮空氣進(jìn)氣管向所述二流體形成腔輸入的壓縮空氣在所述二流體形成腔混合并形成旋轉(zhuǎn)的包含取向膜溶液的二流體，再通過(guò)所述旋轉(zhuǎn)噴頭進(jìn)行噴涂；與所述二流體生成器配合使用的掩模板，該掩模板上設(shè)有遮擋區(qū)和開(kāi)口區(qū)。本發(fā)明提供的取向膜涂布裝置涂布的取向膜的膜厚可以得到精確的控制，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便，能夠提高取向膜涂布的效率，提高了產(chǎn)品的良品率和生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。
【專利說(shuō)明】一種取向膜涂布裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種取向膜涂布裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來(lái)，隨著數(shù)字電視的普及，傳統(tǒng)陰極射線顯像管顯示器由于其數(shù)字化困難，以及體積大，重量大，有輻射等缺點(diǎn)，已經(jīng)出現(xiàn)了被新一代顯示技術(shù)取代的趨勢(shì)，代表性的新顯示技術(shù)如有機(jī)發(fā)光二極管、液晶顯示器等，其中液晶顯示器由于具有重量輕、體積薄、無(wú)輻射、低耗電、顯示效果好等優(yōu)點(diǎn)已經(jīng)開(kāi)始大量的普及，成為主流產(chǎn)品。液晶面板的制造工藝有以下幾個(gè)步驟:陣列基板，對(duì)盒，制作模組。其中對(duì)盒工藝又包括:印刷取向膜，摩擦取向，液晶注入(在一基板上涂布封框膠，在另一基板上滴液晶，將兩張基板對(duì)盒)。
[0003]現(xiàn)用印刷取向膜的涂布技術(shù)是轉(zhuǎn)印式涂布，主要存在的問(wèn)題有:一是轉(zhuǎn)印裝置復(fù)雜、成本高，整個(gè)裝置主要由點(diǎn)膠機(jī)、調(diào)節(jié)輥、傳墨輥、安裝APR印刷版的版胴以及APR印刷版等構(gòu)成。其中，多數(shù)裝置配件的價(jià)格昂貴且易于磨損。二是受限于APR版本身的制造工藝以及使用過(guò)程的不確定因素，使得取向膜的涂布過(guò)程難以實(shí)現(xiàn)定量控制，進(jìn)而取向膜的均勻性存在偏差，尤其是取向膜的邊緣區(qū)域范圍，其精確度有待提高。三是轉(zhuǎn)印式涂布前期的調(diào)試階段時(shí)間長(zhǎng)，需要大量的預(yù)轉(zhuǎn)印進(jìn)行調(diào)試，效率相對(duì)較低。
[0004]為了解決以上問(wèn)題，本發(fā)明做了有益改進(jìn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005](一)要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0006]本發(fā)明的目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)中的取向膜涂覆成本高、效率低，以及涂布均勻性差、膜厚不易控制等問(wèn)題。
[0007](二)技術(shù)方案
[0008]本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:一種取向膜涂布裝置，其包括:機(jī)臺(tái)；二流體生成器，所述二流體生成器設(shè)置在所述機(jī)臺(tái)上，該二流體生成器包括液體進(jìn)料管、壓縮空氣進(jìn)氣管、二流體形成腔和旋轉(zhuǎn)噴頭；所述液體進(jìn)料管用于向所述二流體形成腔輸入取向膜溶液，所述壓縮空氣進(jìn)氣管用于向所述二流體形成腔輸入壓縮空氣，所述二流體形成腔用于混合所述取向膜溶液和壓縮空氣并形成旋轉(zhuǎn)的包含有取向膜溶液的二流體，所述旋轉(zhuǎn)噴頭用于噴涂所述包含有取向膜溶液的二流體；
[0009]與所述二流體生成器配合使用的掩模板，該掩模板上設(shè)有遮擋區(qū)和開(kāi)口區(qū)。進(jìn)一步，所述液體進(jìn)料管上設(shè)有液體流量計(jì)；所述壓縮空氣進(jìn)氣管上設(shè)有氣壓表。
[0010]具體地，所述機(jī)臺(tái)上設(shè)有支撐軸；所述旋轉(zhuǎn)噴頭內(nèi)設(shè)噴頭腔體；所述二流體形成腔與所述噴頭腔體以可相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)的方式連通；所述旋轉(zhuǎn)噴頭以可繞所述支撐軸旋轉(zhuǎn)的方式設(shè)置在所述支撐軸上。
[0011]進(jìn)一步，所述支撐軸上設(shè)有對(duì)所述旋轉(zhuǎn)噴頭進(jìn)行限位的螺母。
[0012]其中，所述旋轉(zhuǎn)噴頭內(nèi)設(shè)有傾斜通道和與所述傾斜通道連接的噴嘴；所述噴頭腔體內(nèi)的二流體通過(guò)擠壓所述傾斜通道使所述旋轉(zhuǎn)噴頭旋轉(zhuǎn)，且通過(guò)所述傾斜通道和噴嘴進(jìn)行噴涂。
[0013]進(jìn)一步，所述旋轉(zhuǎn)噴頭沿周向均勻設(shè)置有多個(gè)噴嘴。
[0014]優(yōu)選地，所述噴嘴采用線型噴嘴、菱型噴嘴或圓型噴嘴。
[0015]進(jìn)一步，所述二流體生成器還包括液體清洗劑進(jìn)料管，所述液體清洗劑進(jìn)料管與所述二流體形成腔連通。
[0016]再進(jìn)一步，所述機(jī)臺(tái)上設(shè)有能夠移動(dòng)的滑軌，所述二流體生成器設(shè)置在所述滑軌上。
[0017]其中，所述掩模板的開(kāi)口區(qū)厚度大于該掩模板的遮擋區(qū)厚度；所述遮擋區(qū)內(nèi)設(shè)有用于存儲(chǔ)二流體的凹槽。
[0018](三)有益效果
[0019]與現(xiàn)有技術(shù)和產(chǎn)品相比，本發(fā)明有如下優(yōu)點(diǎn):
[0020]本發(fā)明提供的取向膜噴涂裝置將取向膜溶液與壓縮空氣形成二流體，然后通過(guò)旋轉(zhuǎn)噴頭和掩模板噴涂于基板上；二流體的旋轉(zhuǎn)噴涂均勻性遠(yuǎn)高于目前的轉(zhuǎn)印方式，且取向膜的膜厚可以得到精確的控制；該取向膜噴涂裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作方便，能夠提高取向膜涂布的效率，提聞了廣品的良品率和生廣效率，降低了生廣成本。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0021]圖1是本發(fā)明的二流體生成器的結(jié)構(gòu)圖；
[0022]圖2是本發(fā)明的掩模板結(jié)構(gòu)圖；
[0023]圖3是本發(fā)明的掩模板與基板的貼合示意圖；
[0024]圖4是本發(fā)明的一種旋轉(zhuǎn)噴頭的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖5是本發(fā)明的另一種旋轉(zhuǎn)噴頭的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖6是本發(fā)明的另一種旋轉(zhuǎn)噴頭的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖7是本發(fā)明的掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0028]附圖中，各標(biāo)號(hào)所代表的組件如下:
[0029]1-液體進(jìn)料管；2_液體清洗劑進(jìn)料管；3_壓縮空氣進(jìn)氣管；4_氣壓表；5_液體流量計(jì)；6_ 二流體形成腔；7_支撐軸；8_旋轉(zhuǎn)噴頭；81_傾斜通道；9_噴嘴；10_螺母；20_掩模板；201_遮擋區(qū)；202_開(kāi)口區(qū)；203-凹槽；30_基板。
【具體實(shí)施方式】
[0030]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】做一個(gè)詳細(xì)的說(shuō)明。
[0031]本實(shí)施例提供一種取向膜涂布裝置，包括:機(jī)臺(tái)(圖中未顯示)；二流體生成器設(shè)置在所述機(jī)臺(tái)上，如圖1所示，該二流體生成器包括液體進(jìn)料管1、壓縮空氣進(jìn)氣管3、二流體形成腔6和旋轉(zhuǎn)噴頭8 ;所述液體進(jìn)料管I向所述二流體形成腔6輸入的取向膜溶液(如聚酰亞胺，Polyimide,以下簡(jiǎn)稱PI液)與所述壓縮空氣進(jìn)氣管3向所述二流體形成腔6輸入的壓縮空氣在所述二流體形成腔6混合并形成高速旋轉(zhuǎn)的包含有PI液的二流體，再通過(guò)所述旋轉(zhuǎn)噴頭8進(jìn)行噴涂。如圖2所示，該取向膜涂布裝置還包括與二流體生成器配合使用的掩模板20，該掩模板20上設(shè)有遮擋區(qū)201和開(kāi)口區(qū)202。掩模板20的作用在于噴涂過(guò)程中，遮擋基板30上不需要噴涂的位置，其與基板30的設(shè)計(jì)相對(duì)應(yīng)，附圖3為掩模板20與基板3貼合后的示意圖，上層為掩模板20，下層為基板30，掩模板20的開(kāi)口區(qū)202即為基板30需要噴涂的區(qū)域。
[0032]取向膜涂布裝置將需要噴涂的PI液體進(jìn)行霧化處理。霧化是指通過(guò)噴嘴或用高速氣流使液體分散成微小液滴的操作。PI液體經(jīng)過(guò)二流體形成腔化成小滴，成霧狀噴射出去。本發(fā)明中通過(guò)高速氣流將PI液分散成小液滴，再經(jīng)過(guò)噴嘴的高速旋轉(zhuǎn)將其呈霧狀噴射，對(duì)于PI液的粘度要求范圍沒(méi)那么嚴(yán)格，對(duì)于目前產(chǎn)線使用的PI液，本裝置完全可以使用，即使比較粘稠的液體，可以通過(guò)加大壓縮氣體的壓力以及減少PI液體的流量來(lái)應(yīng)對(duì)。所述取向膜涂布裝置通過(guò)二流體生成器將生成的旋轉(zhuǎn)PI液二流體在掩模板的輔助作用下，通過(guò)旋轉(zhuǎn)噴頭的快速旋轉(zhuǎn)作用下，噴涂在基板的指定位置上，形成一層厚度可控的均勻取向膜層。其中，噴涂取向膜的厚度可通過(guò)噴涂的時(shí)間來(lái)進(jìn)行控制。
[0033]進(jìn)一步，如圖1所示，所述液體進(jìn)料管I上設(shè)有液體流量計(jì)5 ;所述壓縮空氣進(jìn)氣管3上設(shè)有氣壓表4。液體流量計(jì)5方便控制通過(guò)液體進(jìn)料管I進(jìn)入的PI液的質(zhì)量，氣壓表4能夠計(jì)量壓縮空氣的氣壓。本發(fā)明可通過(guò)液體流量計(jì)5和氣壓表4來(lái)調(diào)節(jié)PI液二流體的轉(zhuǎn)速及噴涂過(guò)程中的霧化效果。
[0034]其中，所述取向膜涂布裝置還設(shè)有支撐軸7 ;所述旋轉(zhuǎn)噴頭8內(nèi)設(shè)噴頭腔體(圖中未顯示)；所述二流體形成腔6與所述噴頭腔體以可相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)的方式相連通；所述旋轉(zhuǎn)噴頭8以可繞所述支撐軸7旋轉(zhuǎn)的方式設(shè)置在所述支撐軸7上。具體地，可在二流體形成腔6的一側(cè)設(shè)有形成二流體出口，所述噴頭腔體對(duì)應(yīng)的一側(cè)設(shè)有二流體入口，二流體入口與所述二流體出口扣接在一起，使所述二流體形成腔6與所述噴頭腔體連通，并且以可相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)的方式相連。進(jìn)一步，所述支撐軸7上設(shè)有對(duì)所述旋轉(zhuǎn)噴頭8進(jìn)行限位的螺母10，通過(guò)該螺母10可方便地實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)噴頭8的更換。
[0035]進(jìn)一步，所述旋轉(zhuǎn)噴頭8內(nèi)設(shè)有傾斜通道81和與所述傾斜通道81連接的噴嘴9 ；所述噴頭腔體內(nèi)的PI液二流體通過(guò)所述傾斜通道81和噴嘴9進(jìn)行噴涂，PI液二流體通過(guò)擠壓所述傾斜通道81帶動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)噴頭8旋轉(zhuǎn)。為了能夠?qū)崿F(xiàn)二流體流經(jīng)旋轉(zhuǎn)噴頭8進(jìn)行旋轉(zhuǎn)噴涂，將PI液二流體在旋轉(zhuǎn)噴頭8內(nèi)部的流經(jīng)途徑設(shè)計(jì)為傾斜通道81，這樣在PI液二流體的快速噴涂擠壓下，旋轉(zhuǎn)噴頭8能夠?qū)崿F(xiàn)快速旋轉(zhuǎn)，使得噴涂出的PI液的二流體更加均勻。
[0036]具體地，所述旋轉(zhuǎn)噴頭8沿周向均勻設(shè)置有多個(gè)噴嘴9。例如，在旋轉(zhuǎn)噴頭上設(shè)置9個(gè)噴嘴，均勻設(shè)置在該旋轉(zhuǎn)噴頭的周圍。當(dāng)然，噴嘴的形狀以及數(shù)量可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)計(jì)。優(yōu)選地，如圖4、圖5和圖6所示，所述噴嘴9采用線型噴嘴、菱型噴嘴或圓型噴嘴。
[0037]其中，如圖1所示，所述二流體生成器還包括液體清洗劑進(jìn)料管2，所述液體清洗劑進(jìn)料管2與所述二流體形成腔6連通。該取向膜涂布裝置可通過(guò)液體清洗劑進(jìn)料管2通入清洗劑進(jìn)行清洗旋轉(zhuǎn)噴頭8，例如傾斜通道以及噴嘴，清洗完畢后，在正式噴涂前一定要進(jìn)行潤(rùn)洗噴涂一段時(shí)間，以防清洗劑殘留于旋轉(zhuǎn)噴頭內(nèi)的傾斜通道以及噴嘴內(nèi)部影響噴涂質(zhì)量。
[0038]進(jìn)一步，為了實(shí)現(xiàn)更好的噴涂效果，還可以將二流體生成器設(shè)置在可以自由移動(dòng)定位的機(jī)臺(tái)上。所述機(jī)臺(tái)上設(shè)有能夠自由移動(dòng)的滑軌，所述二流體生成器設(shè)置在所述滑軌上，這樣可以實(shí)現(xiàn)滑動(dòng)噴涂。[0039]再進(jìn)一步，如圖7所示，掩模板20對(duì)應(yīng)設(shè)置在所述基板30上方。所述掩模板20的開(kāi)口區(qū)202厚度大于該掩模板20的遮擋區(qū)201厚度；所述遮擋區(qū)201內(nèi)設(shè)有用于存儲(chǔ)二流體的凹槽203。這樣設(shè)計(jì)是為了將噴涂過(guò)程中噴涂于遮擋區(qū)的二流體存儲(chǔ)在遮擋區(qū)201的凹槽203里，使其不會(huì)由于積累于掩模板20開(kāi)口區(qū)202邊緣而影響噴涂效果。
[0040]以上實(shí)施方式僅用于說(shuō)明本發(fā)明，而并非對(duì)本發(fā)明的限制，有關(guān)【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本發(fā)明的范疇，本發(fā)明的專利保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
【權(quán)利要求】
1.一種取向膜涂布裝置，其特征在于，其包括: 機(jī)臺(tái)； 二流體生成器，所述二流體生成器設(shè)置在所述機(jī)臺(tái)上，該二流體生成器包括液體進(jìn)料管、壓縮空氣進(jìn)氣管、二流體形成腔和旋轉(zhuǎn)噴頭；所述液體進(jìn)料管用于向所述二流體形成腔輸入取向膜溶液，所述壓縮空氣進(jìn)氣管用于向所述二流體形成腔輸入壓縮空氣，所述二流體形成腔用于混合所述取向膜溶液和壓縮空氣并形成旋轉(zhuǎn)的包含有取向膜溶液的二流體，所述旋轉(zhuǎn)噴頭用于噴涂所述包含有取向膜溶液的二流體； 與所述二流體生成器配合使用的掩模板，該掩模板上設(shè)有遮擋區(qū)和開(kāi)口區(qū)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜涂布裝置，其特征在于，所述液體進(jìn)料管上設(shè)有液體流量計(jì)；所述壓縮空氣進(jìn)氣管上設(shè)有氣壓表。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜涂布裝置，其特征在于，所述機(jī)臺(tái)上設(shè)有支撐軸；所述旋轉(zhuǎn)噴頭內(nèi)設(shè)噴頭腔體；所述二流體形成腔與所述噴頭腔體以可相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)的方式連通；所述旋轉(zhuǎn)噴頭以可繞所述支撐軸旋轉(zhuǎn)的方式設(shè)置在所述支撐軸上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的取向膜涂布裝置，其特征在于，所述支撐軸上設(shè)有對(duì)所述旋轉(zhuǎn)噴頭進(jìn)行限位的螺母。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的取向膜涂布裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)噴頭內(nèi)設(shè)有傾斜通道和與所述傾斜通道連接的噴嘴；所述噴頭腔體內(nèi)的二流體可通過(guò)擠壓所述傾斜通道使所述旋轉(zhuǎn)噴頭旋轉(zhuǎn)，且通過(guò)所述傾斜通道和噴嘴進(jìn)行噴涂。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的取向膜涂布裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)噴頭沿周向均勻設(shè)置有多個(gè)噴嘴。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的取向膜涂布裝置，其特征在于，所述噴嘴采用線型噴嘴、菱型噴嘴或圓型噴嘴。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜涂布裝置，其特征在于，所述二流體生成器還包括液體清洗劑進(jìn)料管，所述液體清洗劑進(jìn)料管與所述二流體形成腔連通。
9.根據(jù)權(quán)利要求1?8任一項(xiàng)所述的取向膜涂布裝置，其特征在于，所述機(jī)臺(tái)上設(shè)有能夠移動(dòng)的滑軌，所述二流體生成器設(shè)置在所述滑軌上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1?8任一項(xiàng)所述的取向膜涂布裝置，其特征在于，所述掩模板的開(kāi)口區(qū)厚度大于該掩模板的遮擋區(qū)厚度；所述遮擋區(qū)內(nèi)設(shè)有用于存儲(chǔ)二流體的凹槽。
【文檔編號(hào)】B05B3/06GK103909039SQ201410114573
【公開(kāi)日】2014年7月9日 申請(qǐng)日期:2014年3月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月25日
【發(fā)明者】周永山, 趙承潭, 李京鵬, 林海云 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司