專利名稱：耐酸堿貼膜的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種耐酸堿貼膜，尤其涉及一種用于在酸性或堿性環(huán)境中對表面進行保護的膜。
背景技術：
電子行業(yè)中，保護膜無處不在，一般筆記本前蓋后蓋的制程保護，以及背光模組的組裝過程中導光板、偏光膜、擴散膜的保護等等。普通的保護膜已經不能滿足市場需求，特殊要求的制程保護膜越來越多，例如耐酸堿制程保護膜，在玻璃基材的電容屏邊緣腐蝕處理時，需采用制程保護膜與電容屏上、下表面貼合，從而在實現(xiàn)電容屏邊緣光滑處理時，保護電容屏的上、下表面。現(xiàn)有制程保護膜，在制程中無法有效排泄靜電，從而導致電容屏的可靠性下降，因此，如何設計一種能耐酸堿，也有效防止加工制程中靜電對電容屏中線路的影響，從而利于進一步保護電容屏，成為本領域普通技術人員努力的方向。
發(fā)明內容本實用新型提供一種耐酸堿貼膜，此耐酸堿貼膜既解決了現(xiàn)有保護膜不能耐酸堿的問題，也有效防 止加工制程中靜電對電容屏中線路的影響，從而利于進一步保護電容屏。為達到上述目的，本實用新型采用的技術方案是:一種耐酸堿貼膜，包括第二基材層、第一基材層和位于第一基材層上表面的耐酸膠粘劑層，此耐酸膠粘劑層上表面覆蓋有一離型膜，所述第一基材層與第二基材層之間具有高粘膠黏劑層；所述耐酸膠粘劑層與第一基材層涂覆有抗靜電涂層。上述技術方案中進一步改進的技術方案如下:1.上述方案中，所述第一基材層、第二基材層為聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚氯乙烯薄膜、雙向拉伸聚丙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚酰亞胺薄膜。2.上述方案中，所述高粘膠黏劑層的厚度為1(Γ30微米。3.上述方案中，所述第二基材層的厚度為5(Γ200微米。由于上述技術方案運用，本實用新型與現(xiàn)有技術相比具有下列優(yōu)點:本實用新型耐酸堿貼膜，其當耐酸堿膠粘劑貼合到被貼物，例如素玻璃、鋁板等之上，即使浸泡在一定濃度的酸性或堿性溶液中30min，撕除耐酸堿保護膜時，不會在被貼物表面留有殘膠，被貼物表面也不會產生腐蝕；其次，其耐酸膠粘劑層與第一基材層涂覆有抗靜電涂層，在解決了保護膜耐酸堿的問題同時，也有效防止加工中靜電對電容屏中線路的影響，從而利于進一步保護電容屏。

附圖1為本實用新型耐酸堿貼膜結構示意圖。以上附圖中:1、第一基材層；2、第二基材層；3、耐酸膠粘劑層；4、離型膜；5、高粘膠黏劑層；6、抗靜電涂層。
具體實施方式

以下結合附圖及實施例對本實用新型作進一步描述:實施例1:一種耐酸堿貼膜，包括第二基材層2、第一基材層I和位于第一基材層I上表面的耐酸膠粘劑層3，此耐酸膠粘劑層3上表面覆蓋有一離型膜4，所述第一基材層I與第二基材層2之間具有高粘膠黏劑層5 ;所述耐酸膠粘劑層3與第一基材層I涂覆有抗靜電涂層6。上述第一基材層I為聚氯乙烯薄膜、第二基材層2為聚丙烯薄膜。上述高粘膠黏劑層5的厚度為16微米，上述第二基材層2的厚度為70微米。實施例2: —種耐酸堿貼膜,包括第二基材層2、第一基材層I和位于第一基材層I上表面的耐酸膠粘劑層3，此耐酸膠粘劑層3上表面覆蓋有一離型膜4，所述第一基材層I與第二基材層2之間具有高粘膠黏劑層5 ;所述耐酸膠粘劑層3與第一基材層I涂覆有抗靜電涂層6。上述第一基材層I為聚酰亞胺薄膜，第二基材層2為雙向拉伸聚丙烯薄膜。上述高粘膠黏劑層5的厚度為12微米，上述第二基材層2的厚度為160微米。采用上述耐酸堿貼膜時，其當耐酸堿膠粘劑貼合到被貼物，例如素玻璃、鋁板等之上，即使浸泡在一定濃度的酸性或堿性溶液中30min，撕除耐酸堿保護膜時，不會在被貼物表面留有殘膠，被貼物 表面也不會產生腐蝕；其次，其耐酸膠粘劑層與第一基材層涂覆有抗靜電涂層，在解決了保護膜耐酸堿的問題同時，也有效防止加工中靜電對電容屏中線路的影響，從而利于進一步保護電容屏。上述實施例只為說明本實用新型的技術構思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術的人士能夠了解本實用新型的內容并據(jù)以實施，并不能以此限制本實用新型的保護范圍。凡根據(jù)本實用新型精神實質所作的等效變化或修飾，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。
權利要求1.一種耐酸堿貼膜，其特征在于:包括第二基材層(2)、第一基材層(I)和位于第一基材層(I)上表面的耐酸膠粘劑層(3 )，此耐酸膠粘劑層(3 )上表面覆蓋有一離型膜(4 )，所述第一基材層(I)與第二基材層(2)之間具有高粘膠黏劑層(5);所述耐酸膠粘劑層(3)與第一基材層(I)涂覆有抗靜電涂層(6 )。
2.根據(jù)權利要求1所述的耐酸堿貼膜，其特征在于:所述第一基材層(I)、第二基材層(2)為聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚氯乙烯薄膜、雙向拉伸聚丙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚酰亞胺薄膜。
3.根據(jù)權利要求1所述的耐酸堿貼膜，其特征在于:所述高粘膠黏劑層(5)的厚度為10 30微米。
4.根據(jù)權利要求1所述的耐酸堿貼膜，其特征在于:所述第二基材層(2)的厚度為50 200微 米。
專利摘要本實用新型公開一種耐酸堿貼膜，包括第二基材層、第一基材層和位于第一基材層上表面的耐酸膠粘劑層，此耐酸膠粘劑層上表面覆蓋有一離型膜，所述第一基材層與第二基材層之間具有高粘膠黏劑層；所述耐酸膠粘劑層與第一基材層涂覆有抗靜電涂層，所述第一基材層、第二基材層為聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜、雙向拉伸聚丙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或者聚酰亞胺薄膜，所述高粘膠黏劑層的厚度為10~30微米，所述第二基材層的厚度為50~200微米。本實用新型既解決了現(xiàn)有保護膜不能耐酸堿的問題，也有效防止加工制程中靜電對電容屏中線路的影響，從而利于進一步保護電容屏。
文檔編號C09J7/02GK203095965SQ201320072850
公開日2013年7月31日 申請日期2013年2月8日 優(yōu)先權日2013年2月8日
發(fā)明者金闖, 謝洪濤 申請人:斯迪克新型材料(江蘇)有限公司