專利名稱：濕處理裝置及濕處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電路板制作技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種濕處理裝置及濕處理方法。
背景技術(shù)：
隨著科學(xué)技術(shù)的進步，印刷電路板在電子領(lǐng)域得到的廣泛的應(yīng)用。關(guān)于電路板的
Takahashi, A. Ooki, N. Nagai, Α. Akahoshi, H. Mukoh, Α. Wajima, Μ. Res. Lab,High density multilayer printed circuit boardfor HITAC M-880,IEEE Trans.on Components, Packaging, and ManufacturingTechnology,1992,15(4) :418_425。濕制程(Wet Process)作為一種常用的電路板制作工序，是將處理液，如各種化學(xué)藥液或水噴灑于電路基板表面，以對電路板進行鍍通孔、鍍銅、蝕刻、顯影、剝膜、鍍有機保護膜、表面改性或清洗等處理。在生產(chǎn)過程中，電路板會依次送入多個不同的濕制程單元進行處理，如，在顯影生產(chǎn)線完成顯影工序后，即被送至蝕刻生產(chǎn)線進行蝕刻。為避免電路板的銅層在送至蝕刻生產(chǎn)線過程中被空氣氧化，通常在顯影生產(chǎn)線，電路板表面噴淋了顯影液以及純水之后，還會依次經(jīng)歷冷風(fēng)、熱風(fēng)及冷風(fēng)以進行烘干。通過中心定位機和收板機將電路板收集于一起后，再輸送至蝕刻生產(chǎn)線。在蝕刻生產(chǎn)線，再次進行水洗。如此，不僅水洗、烘干、再水洗的過程將造成資源的浪費，烘干的過程還可能造成電路板的尺寸發(fā)生變化，不利于提高產(chǎn)品質(zhì)量。因此，有必要提供一種濕處理裝置及濕處理方法，以節(jié)省資源、提高電路板產(chǎn)品質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容
為了節(jié)省資源、提高電路板產(chǎn)品質(zhì)量，本發(fā)明提出一種濕處理裝置及濕處理方法。一種濕處理裝置，用于對基板進行濕處理。所述濕處理裝置包括第一濕處理單元、 第二濕處理單元、清洗單元、收板槽和放板單元。所述清洗單元、收板槽和放板單元均位于所述第一濕處理單元和第二濕處理單元之間。所述第一濕處理單元用于對基板進行第一濕處理，其具有用于儲存第一濕處理液的第一儲存槽。所述第二濕處理單元用于對基板進行第二濕處理，其具有用于儲存第二濕處理液的第二儲存槽。所述清洗單元用于對基板進行清洗，其包括引導(dǎo)傳送機構(gòu)和清洗液噴淋機構(gòu)。所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)用于將經(jīng)所述第一濕處理單元處理后的基板傳送至收板槽。所述清洗液噴淋機構(gòu)與所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)相對，用于向所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)傳送的基板噴淋清洗液。所述收板槽內(nèi)盛有保存液，用于浸置自引導(dǎo)傳送機構(gòu)傳送的基板。所述放板單元與收板槽相對，用于從所述收板槽的保存液中吸取基板，并將所述基板放置于所述第二濕處理單元以進行第二濕處理。一種使用如上所述的濕處理裝置的濕處理方法，包括步驟提供基板；將所述基板送入所述第一濕處理單元進行第一濕處理；將經(jīng)所述第一濕處理單元處理后的基板置于所述清洗單元，使所述清洗液噴淋機構(gòu)對所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)傳送的基板噴淋清洗液以進行清洗，并使清洗后的基板落入所述收板槽內(nèi)；通過所述放板單元從所述收板槽的保存液中吸取基板，并將所述基板放置于所述第二濕處理單元以對基板進行第二濕處理。本技術(shù)方案的濕處理裝置采用盛有保存液的收板槽暫時存放經(jīng)清洗単元清洗后 的基板，一方面可避免基板因摩擦或碰撞產(chǎn)生刮傷，另一方面還可避免多個基板之間因靜 電作用而粘在一起。此外，還可省去清洗后的烘干過程，避免基板發(fā)生變形。收板槽內(nèi)的基 板不必進行清洗即可送入第二濕處理單元進行處理。使用如上所述的濕處理裝置的濕處理 方法可減少處理工序、節(jié)省大量資源，有利于提高產(chǎn)品質(zhì)量。


圖1是本技術(shù)方案實施例提供的濕處理裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本技術(shù)方案實施例提供的濕處理裝置的收板槽與放板単元結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是使用本技術(shù)方案實施例提供的濕處理裝置處理基板的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4是本技術(shù)方案實施例提供的濕處理裝置的放板単元吸取基板的結(jié)構(gòu)示意圖。主要元件符號說明濕處理裝置10第一濕處理單元11第一傳送機構(gòu) 110第一儲存槽111第一噴淋機構(gòu) 112第一承載傳送輥113第一壓制傳送輥114第一噴頭115清洗單元12引導(dǎo)傳送機構(gòu) 120清洗液儲存槽 121清洗液噴淋機構(gòu)122承載傳送滾輪 123壓制傳送滾輪 124傳輸部125下板部126清洗液噴頭127收板槽13保存液130側(cè)壁131底壁132快拆塞133放板單元14移動臂140安裝架141吸盤142
第一安裝桿143連接桿144第二安裝桿145第二濕處理單元15第二傳送機構(gòu)150第二儲存槽151第二噴淋機構(gòu)152第二承載傳送輥153第二壓制傳送輥154第二噴頭155基板100
具體實施例方式以下將結(jié)合附圖和實施例，對本技術(shù)方案提供的濕處理裝置及濕處理方法進行詳 細描述。請ー并參閱圖1和圖2，本技術(shù)方案實施例提供ー種濕處理裝置10，用于對基板進 行濕處理。所述濕處理裝置10包括第一濕處理單元11、清洗単元12、收板槽13、放板単元 14和第二濕處理單元15。所述清洗単元12、收板槽13和放板単元14均位于所述第一濕處 理單元11和第二濕處理單元15之間。所述第一濕處理單元11用于對基板進行第一濕處理。所述第一濕處理單元11包 括第一傳送機構(gòu)110、第一儲存槽111和第一噴淋機構(gòu)112。所述第一傳送機構(gòu)110位于第 一儲存槽111與第一噴淋機構(gòu)112之間，且用于將基板傳送至清洗単元12。所述第一儲存 槽111用于儲存第一濕處理液。所述第一噴淋機構(gòu)112連通于所述第一儲存槽111，用于向 第一傳送機構(gòu)110傳送的基板噴淋第一濕處理液。所述第一傳送機構(gòu)110包括多根第一承 載傳送輥113和多根第一壓制傳送輥114。所述多根第一承載傳送輥113并排設(shè)置，且均靠 近所述第一儲存槽111。所述多根第一壓制傳送輥114并排設(shè)置，且均靠近所述第一噴淋 機構(gòu)112。所述多根第一承載傳送輥113均沿第一方向繞其中心軸轉(zhuǎn)動，所述多根第一壓 制傳送輥114均沿與第一方向相反的第二方向繞其中心軸轉(zhuǎn)動，從而帶動位于所述多根第 ー承載傳送輥113和多根第一壓制傳送輥114之間的基板移動。所述第一噴淋機構(gòu)112包 括多個第一噴頭115。所述多個第一噴頭115均與所述多根第一壓制傳送輥114相対。當 然，所述多個第一噴頭115還可以在所述第一傳送機構(gòu)110的兩側(cè)均有分布，如此，可以對 基板的兩個表面進行同時處理。本實施例中，所述第一濕處理單元11為顯影単元，所述第 一儲存槽111內(nèi)儲存有顯影液，顯影液自第一噴淋機構(gòu)112噴向基板后，還可以流回所述第 一儲存槽111內(nèi)。優(yōu)選地，所述第一濕處理單元11還包括ー個第一濕處理液調(diào)節(jié)器(圖未 示)，所述第一濕處理液調(diào)節(jié)器用于監(jiān)控所述第一儲存槽111內(nèi)的第一濕處理液的濃度并 在該濃度低于預(yù)定值時進行補充調(diào)節(jié)。當然，所述第一濕處理單元11還可以采用浸泡的方式對基板進行第一濕處理，如 此，所述第一濕處理單元11可以不具有噴淋機構(gòu)，僅需將基板置入第一儲存槽111內(nèi)，使第 一濕處理液浸泡所述基板，即可對基板進行第一濕處理。
所述清洗單元12與所述第一濕處理單元11相鄰設(shè)置，所述清洗單元12用于對基板進行清洗，以去除基板上殘留的第一濕處理液。所述清洗單元12包括引導(dǎo)傳送機構(gòu)120、 清洗液儲存槽121和清洗液噴淋機構(gòu)122。所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)120連接于所述第一傳送機構(gòu)110的一端，且位于清洗液儲存槽121與清洗液噴淋機構(gòu)122之間。所述引導(dǎo)傳送機構(gòu) 120用于將經(jīng)所述第一濕處理單元11處理后的基板傳送至收板槽13。所述清洗液儲存槽 121用于儲存第一濕處理液。所述清洗液噴淋機構(gòu)122連通于所述清洗液儲存槽121，用于向引導(dǎo)傳送機構(gòu)120傳送的基板噴淋清洗液。所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)120包括多根承載傳送滾輪123和多根壓制傳送滾輪124。所述多根承載傳送滾輪123均靠近所述清洗液儲存槽 121。所述多根承載傳送滾輪123并排設(shè)置，且與所述第一傳送機構(gòu)110的多根第一承載傳送輥113相鄰。所述多根壓制傳送滾輪IM均靠近所述清洗液噴淋機構(gòu)122。所述多根壓制傳送滾輪124并排設(shè)置，且所述第一傳送機構(gòu)110的多根第一壓制傳送輥114相鄰。所述多根承載傳送滾輪123均沿第一方向繞其中心軸轉(zhuǎn)動，所述多根壓制傳送滾輪IM均沿與第一方向相反的第二方向繞其中心軸轉(zhuǎn)動，從而帶動位于所述多根承載傳送滾輪123和多根壓制傳送滾輪1 之間的基板移動。所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)120包括相鄰的傳輸部125和下板部126。所述傳輸部125靠近所述第一濕處理單元11的第一傳送機構(gòu)110，且與所述清洗液噴淋機構(gòu)122相對。基板主要在所述傳輸部125接受清洗液的噴淋。所述收板槽13 靠近所述下板部126。所述下板部1 的傳輸方向與所述傳輸部125的傳輸方向成銳角，且向靠近收板槽13的方向傾斜，以使自傳輸部125傳送至下板部126的基板落入收板槽13。 本實施例中，所述夾角約為30度。所述清洗液噴淋機構(gòu)122包括多個清洗液噴頭127。所述多個清洗液噴頭127均與所述多根壓制傳送滾輪IM相對。當然，所述多個清洗液噴頭 127還可以在所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)120的兩側(cè)均有分布，如此，可以對基板的兩個表面進行同時處理。本實施例中，所述清洗液儲存槽121內(nèi)儲存的清洗液為純水。所述收板槽13內(nèi)盛有保存液130，用于浸置自所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)120傳送的基板。 所述收板槽13位于所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)120的一端，以使得經(jīng)所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)120傳送的基板落入所述收板槽13內(nèi)。所述收板槽13靠近所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)120的下板部126。所述收板槽13為一端不封口的長方體形槽，其包括相連接的側(cè)壁131和底壁132。所述收板槽13在側(cè)壁131靠近底壁132處設(shè)置有快拆塞133，以便于清洗或更換保存液。當然，所述收板槽13并不限于為長方體形，還可以為圓柱體形、多棱柱或其它不規(guī)則形狀。僅需其橫截面略大于基板的橫截面即可。優(yōu)選地，所述收板槽13為透明材質(zhì)。本實施例中，所述保存液130為純水。所述放板單元14與收板槽13相對，用于從所述收板槽13的保存液130中吸取基板，并將所述基板放置于第二濕處理單元15以進行第二濕處理。所述放板單元14靠近所述第二濕處理單元15設(shè)置。所述放板單元14包括一個移動臂140、一個安裝架141和多個吸盤142。所述安裝架141連接于所述移動臂140。所述多個吸盤142安裝于所述安裝架141。所述移動臂140可機械連接于一個驅(qū)動器(圖未示)，從而可在驅(qū)動器的驅(qū)動下移動。所述移動臂140用于帶動安裝架141移動。所述安裝架141包括第一安裝桿143、連接桿144和第二安裝桿145。所述連接桿144連接于所述移動臂140。所述第一安裝桿143 和第二安裝桿145分別連接于所述連接桿144相對的兩端。所述多個吸盤142相互間隔地安裝于所述第一安裝桿143和第二安裝桿145，用于在移動臂140帶動下浸入保存液130中吸取基板。所述多個吸盤142可通過抽液管(圖未示)連接于一個泵(圖未示)。通過控制泵來控制吸盤142的抽取保存液和放出保存液的動作，而實現(xiàn)吸取和釋放基板。本實施例中，所述吸盤142的數(shù)量為四個。所述第一安裝桿143和第二安裝桿145上分別安裝有兩個吸盤142。所述第二濕處理單元15包括第二傳送機構(gòu)150、第二儲存槽151和第二噴淋機構(gòu) 152。所述第二傳送機構(gòu)150位于第二儲存槽151與第二噴淋機構(gòu)152之間，且用于傳送放板單元14放置的基板。所述第二儲存槽151用于儲存第二處理液。所述第二噴淋機構(gòu)152 連通于所述第二儲存槽151，與第二傳送機構(gòu)150相對，用于向第二傳送機構(gòu)150傳送的基板噴淋第二濕處理液。所述第二傳送機構(gòu)150包括多根第二承載傳送輥153和多根第二壓制傳送輥154。所述多根第二承載傳送輥153并排設(shè)置，且均靠近所述第二儲存槽151。所述多根第二壓制傳送輥巧4并排設(shè)置，且均靠近所述第二噴淋機構(gòu)152。所述多根第二承載傳送輥153均沿第一方向繞其中心軸轉(zhuǎn)動，所述多根第二壓制傳送輥IM均沿與第一方向相反的第二方向繞其中心軸轉(zhuǎn)動，從而帶動位于所述多根第二承載傳送輥153和多根第二壓制傳送輥IM之間的基板移動。所述第二噴淋機構(gòu)152包括多個第二噴頭145。所述多個第二噴頭145均分布于所述第二傳送機構(gòu)150靠近所述多根第二壓制傳送輥154的一側(cè)，即，與所述多根第二壓制傳送輥巧4相對。當然，所述多個第二噴頭145還可以在所述第二傳送機構(gòu)150的兩側(cè)均有分布，如此，可同時對基板的兩個表面進行處理。本實施例中， 所述第二濕處理單元15為蝕刻單元，所述第二儲存槽151內(nèi)儲存有蝕刻液，蝕刻液自第二噴淋機構(gòu)152噴向基板后，還可以流回所述第二儲存槽151內(nèi)。優(yōu)選地，所述第二濕處理單元15還包括一個第二處理液調(diào)節(jié)器(圖未示)，如此，可對所述第二儲存槽151內(nèi)的第二處理液的成份進行實時補充調(diào)節(jié)。當然，所述第二濕處理單元15還可以采用浸泡的方式對基板進行第一濕處理，如此，所述第二濕處理單元15可以不具有噴淋機構(gòu)，僅需將基板置入第二儲存槽151內(nèi)，使第二濕處理液浸泡所述基板，即可對基板進行第二濕處理?？梢岳斫猓趯嶋H生產(chǎn)過程中，由于空間的限制，所述清洗單元12與所述第二濕處理單元15可能并非首尾相接。此時，可設(shè)置多個收板槽13，將裝滿基板的一個收板槽13 移到所述第二濕處理單元15處，通過放板單元14將基板送給所述第二濕處理單元15進行處理。而在清洗單元12的下板部1 放置一個盛有保存液130而沒有放置基板的收板槽 13，以接收并浸置經(jīng)過所述清洗單元12清洗后的基板。請一并參閱圖1、圖3和圖4，使用如上所述的濕處理裝置10的濕處理方法可包括以下步驟首先，提供基板100。本實施例中，所述基板100為方形的電路板基板，在進入濕處理裝置10之前，可在其表面形成光致抗蝕劑層并進行曝光。其次，將所述基板100送入第一濕處理單元11以進行第一濕處理?；?00在所述第一傳送機構(gòu)Iio的摩擦作用下傳送。所述第一噴淋機構(gòu)112的多個第一噴頭115向所述基板100靠近所述多根第一壓制傳送輥114的表面噴淋第一濕處理液，即，顯影液?；?100表面的光致抗蝕劑層部分溶解。再次，將經(jīng)所述第一濕處理單元11處理后的基板100置于所述清洗單元12，使所述清洗液噴淋機構(gòu)122對所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)120傳送的基板100噴淋清洗液以進行清洗，
8并使清洗后的基板100落入所述收板槽13內(nèi)。本實施例中，由于所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)120連接于所述第一傳送機構(gòu)110 —端，經(jīng)所述第一濕處理單元11處理后的基板100直接被傳送至清洗單元12的引導(dǎo)傳送機構(gòu)120。當基板100自傳輸部125傳送到下板部1 后，由于所述下板部126的傳輸方向與所述傳輸部125的傳輸方向成銳角，且向靠近收板槽13的方向傾斜，基板100傾斜落入收板槽13內(nèi)，并逐漸下沉。后續(xù)落入收板槽13的基板100依次堆疊于前一基板100的上方。由于收板槽13內(nèi)盛有保存液130，基板100不會因摩擦或碰撞產(chǎn)生刮傷，多個基板100之間也不會因靜電作用而粘在一起。最后，通過所述放板單元14從所述收板槽13的保存液130中吸取基板100，并將所述基板100放置于所述第二濕處理單元15以對基板100進行第二濕處理。所述移動臂 140帶動所述安裝架141和多個吸盤142進入收板槽13內(nèi)。使每個吸盤142均與基板100 的一個頂角相對。啟動泵，每個吸盤142與基板100之間的保存液130被吸走，從而在基板 100靠近吸盤142的表面形成負壓，使得基板100被多個吸盤142吸附住。所述多個吸盤 142在所述移動臂140的帶動下離開所述收板槽13，將基板100承載于第二傳送機構(gòu)150 的多根第二承載傳送輥153上后，通過調(diào)節(jié)泵使基板100脫離所述多個吸盤142。利用所述第二濕處理單元15對基板100進行濕處理時，所述多個第二噴頭145向所述基板100的表面噴淋第二處理液，即蝕刻液。基板100暴露于光致抗蝕劑層的部分導(dǎo)電銅層與蝕刻液發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而被蝕刻掉?？梢岳斫猓舻诙裉幚韱卧?5與清洗單元12之間距離較大，在本步驟之前，可先將收板槽13移至所述第二濕處理單元15附近。本技術(shù)方案提供的濕處理裝置10采用盛有保存液130的收板槽13浸置經(jīng)清洗單元12清洗后的基板100，從而一方面可避免基板100因摩擦或碰撞產(chǎn)生刮傷，另一方面還可避免多個基板100之間因靜電作用而粘在一起。此外，還可省去清洗后的烘干過程，避免基板100發(fā)生變形。收板槽13內(nèi)的基板100不必進行清洗即可送入第二濕處理單元15進行處理。使用如上所述的濕處理裝置10的濕處理方法可減少處理工序、節(jié)省大量資源，有利于提高產(chǎn)品質(zhì)量。以上對本技術(shù)方案的濕處理裝置及濕處理方法進行了詳細描述，但不能理解為是對本技術(shù)方案構(gòu)思的限制。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本技術(shù)方案的技術(shù)構(gòu)思做出其它各種相應(yīng)的改變與變形，而所有改變與變形都應(yīng)屬于本申請權(quán)利要求的保護范圍。
權(quán)利要求
1.一種濕處理裝置，用于對基板進行濕處理，所述濕處理裝置包括第一濕處理單元、第二濕處理單元、清洗單元、收板槽和放板單元，所述清洗單元、收板槽和放板單元均位于所述第一濕處理單元和第二濕處理單元之間，所述第一濕處理單元用于對基板進行第一濕處理，其具有用于儲存第一濕處理液的第一儲存槽，所述第二濕處理單元用于對基板進行第二濕處理，其具有用于儲存第二濕處理液的第二儲存槽，所述清洗單元用于對基板進行清洗，其包括引導(dǎo)傳送機構(gòu)和清洗液噴淋機構(gòu)，所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)用于將經(jīng)所述第一濕處理單元處理后的基板傳送至收板槽，所述清洗液噴淋機構(gòu)與所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)相對，用于向所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)傳送的基板噴淋清洗液，所述收板槽內(nèi)盛有保存液，用于浸置自引導(dǎo)傳送機構(gòu)傳送的基板，所述放板單元與收板槽相對，用于從所述收板槽的保存液中吸取基板， 并將所述基板放置于所述第二濕處理單元以進行第二濕處理。
2.如權(quán)利要求1所述的濕處理裝置，其特征在于，所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)包括相鄰的傳輸部和下板部，所述傳輸部與清洗液噴淋機構(gòu)相對，所述收板槽靠近所述下板部，所述下板部的傳輸方向與所述傳輸部的傳輸方向成銳角，且向靠近收板槽的方向傾斜，以使自傳輸部傳送至下板部的基板落入收板槽。
3.如權(quán)利要求1所述的濕處理裝置，其特征在于，所述清洗單元還包括用于儲存清洗液的清洗液儲存槽，所述清洗液噴淋機構(gòu)與所述清洗液儲存槽相連通，所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)位于所述清洗液儲存槽和所述清洗液噴淋機構(gòu)之間，所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)包括多根承載傳送滾輪和多根壓制傳送滾輪，所述多根承載傳送滾輪并排設(shè)置，且均靠近所述清洗液儲存槽， 所述多根壓制傳送滾輪并排設(shè)置，且均靠近所述清洗液噴淋機構(gòu)，所述多根承載傳送滾輪和多根壓制傳送滾輪相對設(shè)置，用于傳送位于多根承載傳送滾輪和多根壓制傳送滾輪之間的基板。
4.如權(quán)利要求3所述的濕處理裝置，其特征在于，所述清洗單元與所述第一濕處理單元相鄰設(shè)置，所述第一濕處理單元還包括第一傳送機構(gòu)和第一噴淋機構(gòu)，所述第一傳送機構(gòu)連接于所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)的一端，用于將基板傳送至所述清洗單元的引導(dǎo)傳送機構(gòu)，所述第一傳送機構(gòu)位于所述第一儲存槽與第一噴淋機構(gòu)之間，所述第一噴淋機構(gòu)與第一儲存槽相連通，用于向所述第一傳送機構(gòu)傳送的基板噴出第一濕處理液。
5.如權(quán)利要求4所述的濕處理裝置，其特征在于，所述第一傳送機構(gòu)包括多根第一承載傳送輥和多根第一壓制傳送輥，所述多根第一承載傳送輥均靠近所述第一儲存槽，所述多根第一承載傳送輥并排設(shè)置，且與所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)的多根承載傳送滾輪相鄰，所述多根第一壓制傳送輥均靠近所述第一噴淋機構(gòu)，所述多根第一壓制傳送輥并排設(shè)置，且與所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)的多根壓制傳送滾輪相鄰，所述多根第一承載傳送輥和多根第一壓制傳送輥相對設(shè)置，用于傳送位于多根第一承載傳送輥和多根第一壓制傳送輥之間的基板。
6.如權(quán)利要求1所述的濕處理裝置，其特征在于，所述第一濕處理單元還包括一個第一濕處理液調(diào)節(jié)器，所述第一濕處理液調(diào)節(jié)器用于監(jiān)控所述第一儲存槽內(nèi)的第一濕處理液的濃度并在該濃度低于預(yù)定值時進行補充調(diào)節(jié)。
7.如權(quán)利要求1所述的濕處理裝置，其特征在于，所述第二濕處理單元還包括第二傳送機構(gòu)和第二噴淋機構(gòu)，所述第二傳送機構(gòu)位于所述第二儲存槽與第二噴淋機構(gòu)之間，所述第二傳送機構(gòu)用于傳送來自放板單元的基板，所述第二噴淋機構(gòu)與第二儲存槽相連通， 用于向所述第二傳送機構(gòu)傳送的基板噴出第二濕處理液。
8.如權(quán)利要求7所述的濕處理裝置，其特征在于，所述第二傳送機構(gòu)包括多根第二承載傳送輥和多根第二壓制傳送輥，所述多根第二承載傳送輥并排設(shè)置，且均靠近所述第二儲存槽，所述多根第二壓制傳送輥并排設(shè)置，且均靠近所述第二噴淋機構(gòu)，所述多根第二承載傳送輥和多根第二壓制傳送輥相對設(shè)置，用于傳送位于多根第二承載傳送輥和多根第二壓制傳送輥之間的基板。
9.如權(quán)利要求1所述的濕處理裝置，其特征在于，所述放板單元包括一個移動臂、一個安裝架和多個吸盤，所述安裝架連接于所述移動臂，所述移動臂用于帶動安裝架移動，所述多個吸盤相互間隔地安裝于所述安裝架，用于在移動臂帶動下浸入保存液中吸取基板。
10.一種使用如權(quán)利要求1所述的濕處理裝置的濕處理方法，包括步驟提供基板；將所述基板送入所述第一濕處理單元進行第一濕處理；將經(jīng)所述第一濕處理單元處理后的基板置于所述清洗單元，使所述清洗液噴淋機構(gòu)對所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)傳送的基板噴淋清洗液以進行清洗，并使清洗后的基板落入所述收板槽內(nèi)；通過所述放板單元從所述收板槽的保存液中吸取基板，并將所述基板放置于所述第二濕處理單元以對基板進行第二濕處理。
全文摘要
一種濕處理裝置包括第一濕處理單元、第二濕處理單元、清洗單元、收板槽和放板單元。所述清洗單元、收板槽和放板單元均位于所述第一濕處理單元和第二濕處理單元之間。所述清洗單元包括相對的引導(dǎo)傳送機構(gòu)和清洗液噴淋機構(gòu)。所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)用于將經(jīng)所述第一濕處理單元處理后的基板傳送至收板槽。所述清洗液噴淋機構(gòu)用于向所述引導(dǎo)傳送機構(gòu)傳送的基板噴淋清洗液。所述收板槽內(nèi)盛有保存液，用于浸置自引導(dǎo)傳送機構(gòu)傳送的基板。所述放板單元與收板槽相對，用于從所述收板槽的保存液中吸取基板，并將所述基板放置于所述第二濕處理單元以進行第二濕處理。本發(fā)明還提供一種濕處理方法。
文檔編號B05C13/00GK102404937SQ201010278398
公開日2012年4月4日 申請日期2010年9月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月10日
發(fā)明者林釗文 申請人:富葵精密組件(深圳)有限公司, 臻鼎科技股份有限公司