專利名稱：：涂料組合物的制作方法涂料組合物本發(fā)明涉及一種涂料組合物，特別地涉及一種水性涂料組合物。涂料組合物可用于涂布多種表面并且出于多種原因例如保護(hù)和/或裝飾而使用。因此，表面覆蓋有干燥層，該層通常被稱為漆層，但更正確地被稱為涂層。涂料組合物可被大致看作包含三種成分基料(binder)、溶劑和顏料。概括地說，基料是成膜組分，其與溶劑一起形成用于將顏料供至被選擇的基材上的載體。在本領(lǐng)域中普遍接受的是，如同許多其他涂料組分那樣，涂料中基料的選擇可以決定該涂料的許多性能。裝飾涂料可以是溶劑基的或水基的；在該后一情形中，水基的硅烷和硅乳液被用于保護(hù)戶外表面例如混凝土或建筑物表面免受雨水和大氣破壞。用于這些目的的涂料包括耐久防水涂料、防污涂料、防涂鴉涂料等。防腐蝕涂料被用于眾多應(yīng)用中以保護(hù)基材免于腐蝕。一種這類涂料是所謂的預(yù)涂底漆。預(yù)涂底漆或預(yù)先構(gòu)造的底漆通常作為保護(hù)涂料的薄層用在基材上。例如，用于重型鋼結(jié)構(gòu)工業(yè)(例如造船工業(yè))的熱軋鋼通常使用自動化程序在線噴砂并且立即涂布預(yù)涂底漆薄層。一種有效的預(yù)涂底漆應(yīng)該具有以下品質(zhì)—具有足夠的儲存壽命和有效期；-可容易地噴涂，特別是以薄層噴涂；—物理地干燥以在噴涂過程結(jié)束時進(jìn)行處理；—為基材提供良好的腐蝕保護(hù)；-提供良好的耐機(jī)械性；-不會千擾基材可能經(jīng)歷的焊接和切割操作；-耐受基材可能經(jīng)歷的焊接和切割操作的熱和應(yīng)力；—在焊接操作期間不會帶來健康危害例如釋放有害煙氣等；7-為可能施加在其之上的其它涂層提供相容性，這被稱為"再涂性(overcoatability)，，。本領(lǐng)域已知的一種M是硅酸鹽類M。例如，EP-A-346385披露了一種包含硅酸鹽基基料的涂料組合物，但需要使用揮發(fā)性溶劑。一般而言，從環(huán)境觀點(diǎn)出發(fā)，應(yīng)該避免在涂料組合物中使用揮發(fā)性溶劑。EP-A-1191075披露了一種具有l(wèi)JH"的水溶性預(yù)涂底漆組合物，該基料包含至少一種co-氛基烷基三烷ltj^硅烷、至少一種強(qiáng)酸和至少一種具有三烷氧基或烷基二烷氧基硅烷和環(huán)氧基作為端基的化合物的反應(yīng)產(chǎn)物。該基料用于雙組分體系的第一組分中，并且所述雙組分體系中的第二組分包含細(xì)碎的鋅作為防腐劑。盡管這些已知的基料的使用使得所述組合物是水基的并且因此避免了揮發(fā)性溶劑的使用，但已經(jīng)發(fā)現(xiàn)這類底漆具有不良的長期性能并且在預(yù)涂底漆外涂布適用于浸入操作的涂料體系并且浸入水中之后容易起泡。對于造船工業(yè)而言，這是一個重要的問題。本發(fā)明的實(shí)施方案的一個目的是解決上述問題并且提供一種含有很少或不含揮發(fā)性溶劑并且使得當(dāng)被外涂布和被浸入水中時起泡最小化的涂料組合物。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種雙組分涂料組合物，其在混合之后包含在水溶液中的以下組分a)來自第一組分i)水性絲，該水性絲包括低聚或聚合化合物，所迷低聚或聚合化合物由至少一種通式I的單體Si(0R1)4I其中每一W獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(O0)R4基團(tuán)，和每一R4基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和至少一種具有通式II的單體(R2)4-raSi(OR3)mII其中每一R2獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和其中至少一個-R2基團(tuán)包括基團(tuán)-RXQRZ或-RXN(RW)2，其中RX是任何C「d。二價(jià)有機(jī)橋連基團(tuán)，Q選自氧或硫基團(tuán)和RZ包括H、烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和每一r獨(dú)立地如上面針對Rz那樣選擇和定義；其中每一R3獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(O0)R5基團(tuán)，其中R5如上面針對r那樣定義，和m=1~3;和任選地至少一種膠體二氧化硅形成；b)來自第二組分i)至少一種活性填料。優(yōu)選地，該涂料組合物是防腐蝕涂料組合物，更特別的是防腐蝕底漆涂料組合物。優(yōu)選地，該涂料組合物是水性涂料組合物。優(yōu)選地，該涂料組合物是裝飾涂料組合物。更優(yōu)選地，該涂料組合物是保護(hù)涂料組合物。作為選擇，該涂料組合物是防水浸漬劑組合物，其優(yōu)選用于織物或墻壁應(yīng)用。有利地，根據(jù)第一方面的涂料組合物是穩(wěn)定的、水溶性的并且不需要存在極性有機(jī)溶劑以實(shí)現(xiàn)足夠的穩(wěn)定性。優(yōu)選地，該涂料包含少于20%(以總涂料的重量計(jì))的有機(jī)溶劑，更優(yōu)選少于10%和最優(yōu)選少于5%。合適的活性填料的實(shí)例包括但不限于以下的一種或多種鐵氧化物(包括云母鐵礦)；天然和沉淀硫酸鋇、重晶石、鋇白；硅酸鋁、高呤土、高嶺石、瓷土；硅酸鎂和含水硅酸鎂、云母、滑石、綠泥石、透閃石；二氧化硅、表面處理的二氧化硅、無定形石英、結(jié)晶石英、熱解法二氧化硅；氧化鋁和氫氧化鋁、鋁土礦、熟礬土；碳酸鈞鎂、白云石；天然和沉淀碳酸鉤；鋁硅酸鹽；長石；霞石正長巖；鈣硅酸鹽、^石；氧化鋅；磷酸鋅；石墨；釩酸鉍；鉻酸鉛；碳化硅；沸石；葉蠟石；玻璃薄片;磷化鐵；磷化鎳；中空球體；和鋁。還可以是天然纖維和其他類型的硫酸鹽、碳酸鹽、硅酸鹽、氧化物和釩酸鹽。優(yōu)選地，活性填料是堿性填料。例如，根據(jù)方法ISO787/9或ASTMD821，活性填料具有大于7的pH。優(yōu)選地，活性填料應(yīng)該與包括在第一組分中的任何材料同時反應(yīng)；以酸-堿或氧化還原反應(yīng)，優(yōu)選在0~40^,更優(yōu)選10~25匸的溫度下。優(yōu)選地，第一組分包含水。優(yōu)選地，根據(jù)方法ISO787/9或ASTMD821,第一組分具有小于7的pH。因此，優(yōu)選地，低聚或聚合化合物是酸性水基化合物。優(yōu)選地，第一組分包含少于約10%的有機(jī)溶劑，更優(yōu)選少于約5°/。的有機(jī)溶劑，更優(yōu)選少于3%的有機(jī)溶劑和最優(yōu)選少于約1°/。的有機(jī)溶劑。優(yōu)選地，活性填料包括含堿性離子例如鉀、鈉、鎂、鉀、錳或鐵的任何礦物填料。合適的活性填料的其它實(shí)例包括但不限于以下的一種或多種碳酸釣、透閃石滑石(Tremolitictalc)、滑石、珪灰石、重晶石、硅藻土、長石、葉蠟石、霞石正長巖、白云石、方石英、白云母、金云母、明礬石、膨潤土、碳酸巖、粘土、剛玉、螢石、富勒土、石骨、云母、橄欖石、珍珠巖、石英、硅砂、蛭石、沸石、氧化鋅和氧化鋁。優(yōu)選地，至少一種活性填料以1%~99%(以重量計(jì))、更優(yōu)選5%~60%的量存在于涂料組合物中。優(yōu)選地，所述低聚或聚合化合物由至少兩種通式II的單體形成。優(yōu)選地，所述聚合或低聚物質(zhì)由至少一種通式II的單體和至少一種膠體二氧化硅形成。在一個優(yōu)選實(shí)施方案中，所述低聚或聚合化合物由至少一種通式I的單體Si(0R1)4I其中每一R1獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(C-0)R4基團(tuán)，和每一R4基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和任選地至少一種膠體二氧化硅；和至少一種具有通式II的單體形成(R2)4-mSi(OR3)raII其中每一R2獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和其中至少一個-R2基團(tuán)包括基團(tuán)-RXQRZ或-RXN(RW)2,其中RX是任何C「do二價(jià)有機(jī)橋連基團(tuán)，Q選自氧或硫基團(tuán)和RZ包括H、烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和每一IT獨(dú)立地如上面針對RZ那樣選擇和定義；其中每一R3獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(C-0)R5基團(tuán)，其中R5如上面針對R4那樣定義，和m-l-3。因此，根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了一種包含水性基料的涂料組合物，該水性基料包括低聚或聚合化合物，所述低聚或聚合化合物由至少一種通式I的單體Si(0R1)4I其中每一W獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(C-0)R4基團(tuán)，和每一R4基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和任選地至少一種膠體二氧化硅；和至少一種具有通式II的單體形成(R2)4—Si(OR3)mII其中每一R2獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和其中至少一個-R2基團(tuán)包括基團(tuán)-RXQRZ或-RXN(RW)2，其中W是任何C「d。二價(jià)有機(jī)橋連基團(tuán)，Q選自氧或硫基團(tuán)和RZ包括H、烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和每一RW獨(dú)立地如上面針對RZ那樣選擇和定義；其中每一R3獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(O0)R5基團(tuán)，其中R5如上面針對R4那樣定義，和m=1~和所述涂料組合物進(jìn)一步包含至少一種活性填料。優(yōu)選地，至少一種通式I的單體至少一種通式II的單體的比例(以重量計(jì))為199:99~1。更優(yōu)選地，至少一種通式I的單體至少一種通式II的單體的比例(以重量計(jì))為51~99:49~1。優(yōu)選地，單體I:II的比例(以重量計(jì))為51~95:49~5。優(yōu)選地，單體I:II的比例(以重量計(jì))為51~85:49~15。優(yōu)選地，單體I:II的比例(以重量計(jì))為51~75:49~25。優(yōu)選地，單體I:II的比例(以重量計(jì))為51~66:49~34。優(yōu)選地，單體I:II的比例(以重量計(jì))為55~65:45~35。最優(yōu)選地，單體I:II的比例(以重量計(jì))為約60:40。在聚合過程期間，通式I的單體(當(dāng)存在時)、膠體二氧化硅(當(dāng)存在時)和通式II的單體聚合，即烴氣基或(乙)酰氧M烷水解和所形成的硅醇縮合并釋放出醇?？梢詫⒋紡姆磻?yīng)混合物中分離，通常蒸餾出來以留下一般具有[-0-Si-0-Si-]主鏈的低聚或聚合產(chǎn)物。因此，R'和W應(yīng)被選擇為使得該聚合能夠在考慮一些因素例如W和W的化學(xué)性質(zhì)以及空間性質(zhì)的情況下以有利的速率進(jìn)行的任何合適部分。術(shù)語化學(xué)性質(zhì)不僅是指Si-0W和Si-OW進(jìn)行水解并且因此聚合和釋放出醇的潛能，而且應(yīng)該考慮反應(yīng)體系中存在的其他化學(xué)物質(zhì)并且W和113基團(tuán)應(yīng)被選擇為在所述反應(yīng)條件下優(yōu)先不與這些其他基團(tuán)反應(yīng)，由此避免聚合。優(yōu)選地，Ri被選擇為使得R力-是優(yōu)良的離去基團(tuán)。術(shù)語優(yōu)良的離去基團(tuán)是指R10-基團(tuán)當(dāng)從連接其的硅原子上脫離時具有優(yōu)良的能量穩(wěn)定性。優(yōu)選地，R3被選擇為使得1130-是優(yōu)良的離去基團(tuán)。術(shù)語優(yōu)良的離去基團(tuán)是指R3()-基團(tuán)當(dāng)從連接其的硅原子上脫離時具有優(yōu)良的能量穩(wěn)定性。pKa小于或等于16、更優(yōu)選小于或等于15、最優(yōu)選小于或等于14(在H20中在298K下測量)的分子可被認(rèn)為是優(yōu)良的離去基團(tuán)。優(yōu)選地，Rx獨(dú)立地選自任何亞烷基、亞烯基、亞炔基、亞芳烷基或亞芳基、或其任意組合。優(yōu)選地，Rx是任何C「C6二價(jià)有機(jī)橋連基團(tuán)。優(yōu)選地，Rx選自亞乙基、亞丙基或亞丁基。優(yōu)選地，Q是氧基。優(yōu)選地，RZ包括H、任選地被一個或多個氧或硫原子取代的烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基。優(yōu)選地，Rz包含至少一個環(huán)氧官能團(tuán)。優(yōu)選地，RZ包含至少一個M官能團(tuán)。優(yōu)選地，每一RW獨(dú)立地選自H、烷基、烯基、炔基、芳垸基或芳基。優(yōu)選地，每一RW包含H基團(tuán)，因此優(yōu)選地，基團(tuán)-N(RW)2可以是氨基。優(yōu)12選地，至少一個R2基團(tuán)包含冊2端基。優(yōu)選地，至少一個W基團(tuán)包含環(huán)氧端基。優(yōu)選地，至少一個112基團(tuán)包含丙烯酸酯端基。除非另外定義，本文中使用的術(shù)語"烷(alk)"或"烷基(alkyl)"涉及作為直鏈、支化、環(huán)狀或多環(huán)部分或其組合的飽和烴基，其含有1~20個碳原子，優(yōu)選110個碳原子，更優(yōu)選1~8個碳原子，仍然更優(yōu)選1~6個碳原子，仍然更優(yōu)選14個碳原子。這些基團(tuán)可以任選地被氯、溴、碘、絲、硝基、OR19、OC(0)r、C(O)R21、C(O)OR22、NR23R24、C(0)NR"R"、SR27、C(O)SR27、C(S)NR"R26、芳基或Het取代,其中R"-R"各自獨(dú)立地表示氫、芳基或烷基，和/或被一個或多個氧或硫原子或者被硅醇或二烷M氧烷基團(tuán)間隔。這類基團(tuán)的實(shí)例可以獨(dú)立地選自甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、2-曱基丁基、戊基、異戊基、己基、環(huán)己基、3-甲基戊基、辛基等。本文中使用的術(shù)語"亞烷基"涉及如上定義的二價(jià)基團(tuán)烷基。例如，烷基例如將被表示為-CH3的甲基當(dāng)作為亞烷基表示時變成亞曱基-CH2-。其他亞烷基應(yīng)被相應(yīng)地理本文中使用的術(shù)語"烯基"涉及具有一個或若干、優(yōu)選至多4個雙鍵的烴基，其是直鏈、支化、環(huán)狀或多環(huán)部分或其組合并且含有2~18個碳原子，優(yōu)選2~10個碳原子，更優(yōu)選2~8個碳原子，仍然更優(yōu)選2~6個碳原子，仍然更優(yōu)選24個碳原子。這些基團(tuán)可以任選地被羥基、氯、溴、碘、氰基、硝基、0R19、0C(0)R2。、C(0)R21、C(O)OR22、NR"R24、C(0)NR"R26、SR27、C(O)SR27、C(S)NR"R26、芳基或Het取代，其中R191127各自獨(dú)立地表示氫、芳基或烷基，和/或被一個或多個氧或硫原子或者被硅醇或二烷基硅氧烷基團(tuán)間隔。這類基團(tuán)的實(shí)例可以獨(dú)立地選自烯基，包括乙烯基、烯丙基、異丙烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、環(huán)丙烯基、環(huán)丁烯基、環(huán)戊烯基、環(huán)己烯基、l-丙烯基、2-丁烯基、2-甲基-2-丁烯基、異戊二烯基(isoprenyl)、法呢基、香葉基、香葉基香葉基等。本文中使用的術(shù)語"亞烯基"涉及如上定義的二價(jià)基團(tuán)烯基。例如，烯基例如將被表示為-CH=CH2的乙烯基當(dāng)作為亞烯基表示時變成亞乙烯基13-CH-CH-。其他亞烯基應(yīng)被相應(yīng)地理解。本文中使用的術(shù)語"炔基"涉及具有一個或若干、優(yōu)選至多4個三鍵的烴基，其是直鏈、支化、環(huán)狀或多環(huán)部分或其組合并且含有2~18個碳原子，優(yōu)選2~10個碳原子，更優(yōu)選2~8個碳原子，仍然更優(yōu)選2~6個碳原子，仍然更優(yōu)選2~4個碳原子。這些基團(tuán)可以任選地被幾基、氯、溴、碘、氰基、硝基、0R19、0C(0)R2。、C(0)R21、C(O)OR22、NR"R"、C(O)NR"R26、SR27、C(O)SR27、C(S)NR"R26、芳基或Het取代，其中T一R27各自獨(dú)立地表示氫、芳基或低級烷基，和/或被一個或多個氧或硫原子或者被硅醇或二烷基硅氧烷基團(tuán)間隔。這類基團(tuán)的實(shí)例可以獨(dú)立地選自炔基，包括乙炔基、丙炔基、炔丙基、丁炔基、戊炔基、己炔基等。本文中使用的術(shù)語"亞炔基"涉及如上定義的二價(jià)基團(tuán)炔基。例如，炔基例如將被表示為-CsCH的乙炔基當(dāng)作為亞炔基表示時變成亞乙炔基-C三C-。其他亞炔基應(yīng)被相應(yīng)地理解。本文中使用的術(shù)語"芳基"涉及源自芳烴通過除去一個氫得到的有機(jī)基團(tuán)，并且包括每一環(huán)中至多7元的任何單環(huán)、雙環(huán)或多環(huán)碳環(huán)，其中至少一個環(huán)是芳族的。這些基團(tuán)可以任選地被羥基、氯、溴、碘、氛基、硝基、0R9、0C(0)R2。、C(0)R21、C(0)0R22、NR"R24、C(0)NR"R26、SR"、C(0)SR"、C(S)NR"R"、芳基或Het取代，其中R19~R"各自獨(dú)立地表示氬、芳基或低級烷基，和/或被一個或多個氧或疏原子或者被硅醇或二烷^基團(tuán)間隔。這類基團(tuán)的實(shí)例可以獨(dú)立地選自苯基、對-甲苯基、4-甲M苯基、4-(叔丁氧基)苯基、3-甲基-4-甲氧基苯基、4-氟苯基、4-氯苯基、3-硝基苯基、3-絲苯基、3-乙酰絲苯基、4-乙酰絲苯基、2-甲基-3-乙酰脈苯基、2-甲基-3-絲苯基、3-甲基-4-絲苯基、2-絲-3-甲基苯基、2，4-二甲基-3-M苯基、4-羥基苯基、3-甲基-4-羥基苯基、l-萘基、2-萘基、3-氨基-l-萘基、2-甲基-3-M-1-萘基、6-氨基-2-萘基、4，6-二甲IL^-2-萘基、四氫萘基、茚滿基、聯(lián)苯基、菲基、蒽基或苊基(acenaphthyl)等。本文中使用的術(shù)語"亞芳基"涉及如上定義的二價(jià)基團(tuán)芳基。例如，芳基例如將被表示為-Ph的苯基當(dāng)作為亞芳基表示時變成亞苯基-Ph-。其他亞芳基應(yīng)被相應(yīng)地理解。本文中使用的術(shù)語"芳烷基"涉及具有式烷基-芳基的基團(tuán)，其中烷基和芳基具有如上定義的相同含義并且可以通過其烷基或芳基部分與相鄰的基團(tuán)相連。這類基團(tuán)的實(shí)例可以獨(dú)立地選自芐基、苯乙基、二芐基曱基、甲基苯基曱基、3-(2-萘基)丁基等。本文中使用的術(shù)語"亞芳烷基"涉及如上定義的二價(jià)基團(tuán)芳烷基。例如，芳烷基例如將被表示為-Bn的芐基當(dāng)作為亞芳烷基表示時變成亞芐基-Bn-。其他亞芳烷基應(yīng)被相應(yīng)地理解。術(shù)語"Het，，當(dāng)在本文中使用時包括四至十二元、優(yōu)選四至十元的環(huán)體系，所述環(huán)含有一個或多個選自氮、氧、硫和其混合物的雜原子，和所述環(huán)可以含有一個或多個雙鍵或者在性質(zhì)上是非-芳族、部分芳族或全部芳族的。該環(huán)體系可以是單環(huán)、雙環(huán)或稠合的。本文中提及的每一"Het"基團(tuán)任選地被一個或多個選自以下的取代基取代鹵素、氰基、硝基、氧基、低級烷基(該烷基本身可以任選地如下面定義的那樣被取代或封端)、0R19、0C(0)R2。、C(0)R21、C(O)OR22、NR23R24、C(O)NR"R26、SR"、C(0)SR"或C(S)NR"R26,其中R"R"各自獨(dú)立地表示氫、芳基或低級烷基(該烷基本身可以任選地如下面定義的那樣被取代或封端)。術(shù)語"Het"因此包括以下基團(tuán)例如任選取代的吖丁咬基、吡咯烷基、咪唑基、丐1咮基、呋喃基、噁唑基、異噁唑基、噁二唑基、噻唑基、噻二哇基、三唑基、噁三唑基、噻三唑基、歧喚基、嗎啉基、嘧咬基、吡嗪基、會啉基、異會啉基、哌咬基、吡唑基和哌溱基。Het上的取代可以在Het環(huán)的碳原子上，或者如果合適的話在一個或多個雜原子上。"Het"基團(tuán)也可以為N氧化物的形式。為了避免疑問，應(yīng)該相應(yīng)地解釋在本文中提及的復(fù)合基團(tuán)中的烷基、烯基、炔基、芳基或芳烷基，例如提及氨基烷基中的"烷基，，或者烷氧基中的"烷"應(yīng)該被解釋為上述的烷或烷基等。優(yōu)選地，每一W基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何d-C6烷基。合適的W基團(tuán)的實(shí)例包括但不限于以下的任一種氫、甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、2-甲基戊基、3-甲基戊基、4-甲基戊基、環(huán)戊基、甲基環(huán)戊基、己基、環(huán)己基、甲?；?、乙?；⒈；⒍□；?、三氟乙?；?。優(yōu)選地，每一W基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何d-a烷基。更優(yōu)選地，每一W獨(dú)立地選自氫、甲基、乙基、丙基或丁基。最優(yōu)選地，每一W獨(dú)立地選自曱基或乙基。優(yōu)選地，每一R'基團(tuán)獨(dú)立地選自以下的任一種氫、甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、仲丁基或叔丁基。在一個特別優(yōu)選的實(shí)施方案中，每一R"基團(tuán)獨(dú)立地選自氫、曱基或乙基。優(yōu)選地，每一115基團(tuán)獨(dú)立地選自以下的任一種氫、甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、仲丁基或叔丁基。在一個特別優(yōu)選的實(shí)施方案中，每一R"基團(tuán)獨(dú)立地選自氫、甲基或乙基。優(yōu)選地，每一RS基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何d-Ce烷基。合適的113基團(tuán)的實(shí)例包括但不限于氫、甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、2-曱基丁基、3-甲基丁基、叔丁基、戊基、2-甲基戊基、3-曱基戊基、4-甲基戊基、環(huán)戊基、曱基環(huán)戊基、己基、環(huán)己基。更優(yōu)選地，每一R3基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何C,-"烷基。更優(yōu)選地，每一ie基團(tuán)獨(dú)立地選自氫、甲基、乙基、丙基或丁基或者其支化變體。最優(yōu)選地，每一W基團(tuán)獨(dú)立地選自甲基或乙基。合適的R2基團(tuán)的實(shí)例包括但不限于氫、曱基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、叔丁基、戊基、環(huán)戊基、己基、環(huán)己基、庚基、辛基、乙烯基、苯基、3-縮水甘油氧基丙基、3，4-環(huán)氧基環(huán)己基-乙基、3-甲基丙烯酰氧基丙基、乙酰氧基乙基、乙酰氧基甲基、巰基丙基、烷基優(yōu)選地，m'2或3。最優(yōu)選地，m30具有通式結(jié)構(gòu)I的合適化合物的實(shí)例包括但不限于以下的任一種硅酸四甲酯；硅酸四乙酯；硅酸四丙酯；硅酸四丁酯；硅酸四戊酯；硅酸四己酯；硅酸四異丙酯。可以使用的具有通式結(jié)構(gòu)II的合適化合物的實(shí)例包括但不限于以下的任一種3-(縮水甘油lL基丙基)-三甲IU^烷(CASRN:[2530-83-8])、3-(縮7jC甘油IL基丙基)-三乙氧^烷(CASRN:[2602-34-8])、3-(縮水甘油緣丙基)-甲基二乙IU^烷(CASRN:[2897—60-1])、2-(3，4一環(huán)氧基環(huán)己基)-乙基三曱氧基珪烷(CASRN:[3388-04-3])、2-(3，4-環(huán)氧基環(huán)己基)-乙基三乙liJ^烷(CASRN:[10217-34-2])、3-(甲基丙烯酰氧基丙基)-三曱氧基硅烷(CASRN:[2530-85-0])、3-(甲基丙烯酰氧基丙基)-三乙氧基硅烷(CASRN:[21142-229-0])、3-(甲基丙烯酰軋基丙基)-曱基二乙氧^i:烷(CASRN:[65100-04-1])、3-(丙烯酰氧基丙基)-三乙氧基硅烷(CASRN:[21142-29-0])、乙酰氧基甲基三乙氧絲烷(CASRN:5630-83-1)、3-巰基丙基三乙氧絲烷(CASRN:14814-09-6)、3-氨基丙基三乙氧基硅烷(CAS919-30-2)。在一個特別優(yōu)選的實(shí)施方案中，低聚或聚合物質(zhì)由至少一種通式I的單體和至少一種通式n的單體形成，該至少一種通式II的單體包含環(huán)氧端基或丙烯酸酯端基。優(yōu)選地，該低聚或聚合物質(zhì)由50~70%(以用于制^[氐聚或聚合物質(zhì)的全部單體的重量計(jì))的至少一種通式I的單體形成。優(yōu)選地，該低聚或聚合物質(zhì)由55~65%(以用于制備低聚或聚合物質(zhì)的全部單體的重量計(jì))的至少一種通式I的單體形成。優(yōu)選地，該低聚或聚合物質(zhì)由約60%(以用于制備低聚或聚合物質(zhì)的全部單體的重量計(jì))的至少一種通式I的單體形成。優(yōu)選地，該低聚或聚合物質(zhì)由30~50%(以用于制^[氐聚或聚合物質(zhì)的全部單體的重量計(jì))的至少一種通式II的單體形成。優(yōu)選地，該低聚或聚合物質(zhì)進(jìn)一步由35~45%(以用于制^1氐聚或聚合物質(zhì)的全部單體的重量計(jì))的至少一種通式II的單體形成。優(yōu)選地，該低聚或聚合物質(zhì)進(jìn)一步由約40%(以用于制^[氐聚或聚合物質(zhì)的全部單體的重量計(jì))的至少一種通式II的單體形成。優(yōu)選地，該聚合或低聚物質(zhì)由至少一種通式I的單體和至少一種膠體二氧化硅形成。為了避免疑問，本文中使用的術(shù)語"膠體二氧化硅"是指優(yōu)選通過一種或多種金屬離子穩(wěn)定的二氧化硅的膠體懸浮液。該一種或多種金屬離子可以是例如Li+或Na+。優(yōu)選地，膠體二氧化硅以水分散液的形式存在。17優(yōu)選地，單體I:II:Si02(以膠體二氧化硅)的比例(以重量計(jì))為約50~70:50~30:0.1~5。優(yōu)選地，單體I:II:Si02(以膠體二氧化硅)的比例(以重量計(jì))為約5565:45~35:1~4。最優(yōu)選地，單體I:II:Si02(以膠體二氣化硅)的比例(以重量計(jì))為約58.5:39:2.5。合適的膠體二氧化硅的實(shí)例包括Bidzil(RTM)CC30(可從EkaChemicals商購獲得)、Kostrosol0820BS(可從ChemiewerkeBadKostritz商購獲得)。優(yōu)選地，低聚或聚合物質(zhì)以所述水性基料組合物的1%~99%、更優(yōu)選1%~70%(干重)存在于水性基料組合物中。優(yōu)選地，低聚或聚合物質(zhì)以所述水性基料組合物的5%~60%(干重)存在于水性基料組合物中。更優(yōu)選地，低聚或聚合物質(zhì)以所述水性基料組合物的5%~50%(干重)的量存在于水性基料組合物中，更優(yōu)選地，低聚或聚合物質(zhì)以所述水性基料組合物的6%~40%(干重)的量存在于水性M組合物中，更優(yōu)選地，低聚或聚合物質(zhì)以所述水性基料組合物的8%~30%(干重)的量存在于水性基料組合物中，和最優(yōu)選地，低聚或聚合物質(zhì)以所述水性基料組合物的15%~20%(干重)的量存在于水性基料組合物中。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供了一種制備涂料組合物的方法，其包括使第一組分與第二組分接觸，所述第一組分包含水性基料，所述水性基料包括低聚或聚合化合物，所述低聚或聚合化合物由至少一種通式I的單體Si(0R1)4I其中每一Ri獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(O0)R4基團(tuán)，和每一R4基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和至少一種具有通式II的單體(R2)4-raS"OR3)mII其中每一R2獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和其中至少一個-R2基團(tuán)包括基團(tuán)-RXQRZ或-RXN(RW)2，其中RX是任何C「d。二價(jià)有機(jī)橋連基團(tuán)，Q選自氧或硫基團(tuán)和RZ包括H、烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和每一『獨(dú)立地如上面針對Rz那樣選擇和定義；其中每一R3獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(COR5基團(tuán)，其中RS如上面針對R4那樣定義，和m-l3;和任選地至少一種膠體二氧化硅形成；所述第二組分包括活性填料。優(yōu)選地，該聚合或低聚物質(zhì)由至少一種通式II的單體和至少一種膠體二氧化硅形成。根據(jù)本發(fā)明的第四方面，提供了一種涂料組合物，該涂料組合物包含至少一種活性填料和基料，所述基料包括低聚或聚合材料，該低聚或聚合材料由以下方法形成i)形成包含以下物質(zhì)的反應(yīng)相至少一種通式I的單體Si(0R1)4I其中每一W獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-0X))R4基團(tuán)，和每一R4基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和至少一種具有通式II的單體(R2)4-mSi(OR3)mII其中每一R2獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和其中至少一個-R2基團(tuán)包括基團(tuán)-RXQRZ或-RXN(RW)2,其中RX是任何C「d。二價(jià)有機(jī)橋連基團(tuán)，Q選自氧或硫基團(tuán)和RZ包括H、烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和每一r獨(dú)立地如上面針對Rz那樣選擇和定義；其中每一R3獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(C-0)R5基團(tuán)，其中R5如上面針對W那樣定義，和m=1~3;和任選地至少一種膠體二氧化硅；H)使所述反應(yīng)相的組分與R30-脫除劑接觸；iii)使所述反應(yīng)相的組分反應(yīng)形成低聚物或聚合物。優(yōu)選地，該聚合或低聚物質(zhì)由至少一種通式II的單體和至少一種膠體二氧化硅形成。根據(jù)本發(fā)明的第五方面，提供了一種制備涂料組合物的方法，其包括使至少一種活性填料與基料接觸，所述基料包括低聚或聚合材料，所述低聚或聚合材料由以下方法形成i)形成包含以下物質(zhì)的反應(yīng)相至少一種通式I的單體Si(OR1)4I其中每一R1獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(O0)R4基團(tuán)，和每一r基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和至少一種具有通式II的單體(R2)4-raSi(OR3)mII其中每一R2獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳垸基或芳基，和其中至少一個-^基團(tuán)包括基團(tuán)-RXQRZ或-RXN(RW)2,其中RX是任何C「Ct。二價(jià)有才A^連基團(tuán)，Q選自氧或硫基團(tuán)和RZ包括H、烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和每一IT獨(dú)立地如上面針對Rz那樣選擇和定義；其中每一R3獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(C-0)R5基團(tuán)，其中RS如上面針對W那樣定義，和m=1~3;和任選地至少一種膠體二氧化珪；ii)使所述反應(yīng)相的組分與R30-脫除劑接觸；iii)使所述反應(yīng)相的組分反應(yīng)形成低聚物或聚合物。優(yōu)選地，該聚合或低聚物質(zhì)由至少一種通式II的單體和至少一種膠體二氧化硅形成。在一個優(yōu)選實(shí)施方案中，形成低聚或聚合材料的方法的步驟i)可以如下i)形成包含以下物質(zhì)的反應(yīng)相至少一種通式I的單體S"0R1)4I其中每一f獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(C-0)R4基團(tuán)，和每一R4基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和任選地至少一種膠體二氧化硅；和至少一種具有通式II的單體(R2)4-mSi(OR3)mII其中每一R2獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和其中至少一個-R2基團(tuán)包括基團(tuán)-RXQRZ或-RXN(RW)2，其中RX是任何d-d。二價(jià)有機(jī)橋連基團(tuán)，Q選自氧或硫基團(tuán)和RZ包括H、烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和每一Rw獨(dú)立地如上面針對Rz那樣選擇和定義；其中每一R3獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(COR5基團(tuán)，其中R5如上面針對W那樣定義，和m=1~3。優(yōu)選地，該聚合或低聚物質(zhì)由至少一種通式I的單體和至少一種膠體二氧化硅形成。優(yōu)選地，至少一種通式I的單體至少一種通式II的單體的比例(以重量計(jì))為1~99:99~1。更優(yōu)選地，至少一種通式I的單體至少一種通式II的單體的比例(以重量計(jì))為51~99:49~1。優(yōu)選地，單體I:II的比例(以重量計(jì))為51~95:49~5。優(yōu)選地，單體I:II的比例(以重量計(jì))為51~85:49~15。優(yōu)選地，單體I:II的比例(以重量計(jì))為51~75:49~25。優(yōu)選地，單體I:II的比例(以重量計(jì))為51~66:49~34。優(yōu)選地，單體I:II的比例(以重量計(jì))為55~65:45~35。最優(yōu)選地，單體I:II的比例(以重量計(jì))為約60:40。在一個優(yōu)選實(shí)施方案中，步驟ii)可以如下ii)使所述反應(yīng)相的組分與R10-脫除劑和/或1130-脫除劑接觸。優(yōu)選地，制備低聚或聚合物質(zhì)的方法包括除去被釋放的醇(alkanol)、RtOOH、R5C00H和/或水的另外步驟。21優(yōu)選地，被釋放的醇、Rt00H、R5C00H和/或水可以通過任何方法例如蒸餾除去。在一個優(yōu)選實(shí)施方案中，被釋放的醇、R4C00H、RSC00H和/或水在該方法的步驟(iii)期間除去。例如，被釋放的醇、R4C00H、R5C00H和/或水可以如其在所述反應(yīng)中產(chǎn)生的那樣^f皮除去(例如通過蒸餾)。除去的醇、R4C00H、R5C00H和/或水可被其他組分例如至少一種酸代替。優(yōu)選地，R勺-脫除劑包括水。優(yōu)選地，R勺-脫除劑進(jìn)一步包括至少一種烷醇(alkanol)。優(yōu)選地，R勺-脫除劑包括水和至少一種烷醇的混合物。優(yōu)選地，該至少一種烷醇具有小于ioot:(在10卞a壓力下測量)的沸點(diǎn)。優(yōu)選地，該至少一種烷醇是任何d-Cs醇。優(yōu)選地，該至少一種烷醇是任何d-Ce醇。合適的至少一種烷醇的實(shí)例包括但不限于甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇等。優(yōu)選地，該至少一種烷醇與至少一種通式I的單體和至少一種具有通式II的第二單體一起加入，或者作為選擇，可以將所述至少一種烷醇/水混合物添加至少一種通式I的單體和至少一種具有通式II的第二單體中。優(yōu)選地，該至少一種烷醇以至少一種通式I的單體和至少一種具有通式II的第二單體的總重量的140wt。/。的量存在于反應(yīng)混合物中。更優(yōu)選地，該至少一種烷醇以至少一種通式I的單體和至少一種具有通式II的第二單體的總重量的5-25wt。/。的量存在于反應(yīng)混合物中。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解上面關(guān)于R勺-脫除劑提及的優(yōu)選特征類似地適用于1130-脫除劑。優(yōu)選地，步驟(ii)在0r:70iC的溫度下進(jìn)行。更優(yōu)選地，步驟(ii)在10匸60"C的溫度下進(jìn)行。更優(yōu)選地，步驟(ii)在20。C50。C的溫度下進(jìn)行。最優(yōu)選地，步驟(ii)在30X:~40匸的溫度下進(jìn)行。優(yōu)選地，步驟Uii)的反應(yīng)在ox:90x:的溫度下進(jìn)行。更優(yōu)選地，該反應(yīng)在iox:90x:的溫度下進(jìn)行。更優(yōu)選地，該反應(yīng)在4oc9ox:的溫度下進(jìn)行。最優(yōu)選地，該反應(yīng)在80匸901C的溫度下進(jìn)行。優(yōu)選地，步驟(iii)的反應(yīng)在至少一種催化劑的存在下進(jìn)行。優(yōu)選地，該催化劑包括任何合適的催化劑。優(yōu)選地，該催化劑包括過渡金屬或14或15族螯合化合物。優(yōu)選地，該催化劑包括過渡金屬或14或15族有機(jī)螯合化合物。優(yōu)選地，該催化劑包括過渡金屬或14或15族烷氧基螯合化合物。優(yōu)選地，該催化劑是水溶性的。更優(yōu)選地，該催化劑包括過渡金屬或14或15族多烷氧基螯合化合物。該催化劑可以通過烷醇胺(alkanolamine)衍生物穩(wěn)定。優(yōu)選地，該催化劑選自以下任一種的化合物鈦、鋯、鉿、錫、銻或鍺。在一個特別優(yōu)選的實(shí)施方案中，該催化劑包括通過烷醇胺衍生物穩(wěn)定的水溶性烷氧基鈦酸酯、鋯酸酯或錫酸酯化合物。最優(yōu)選地，該催化劑包括烷氧基鈦酸酯化合物。合適的催化劑的實(shí)例包括可從DuPont商購獲得的TYZ0R(RTM)，和可從JohnsonMatthey商購獲得的VERTEC(RTM)。優(yōu)選地，所述反應(yīng)在適合于M穩(wěn)定性范圍內(nèi)的合適pH下進(jìn)行。優(yōu)選地，所述反應(yīng)在可操作以調(diào)節(jié)反應(yīng)混合物的pH的pH調(diào)節(jié)劑存在下進(jìn)行。優(yōu)選地，pH調(diào)節(jié)劑包括至少一種酸。優(yōu)選地，pH調(diào)節(jié)劑以足以將反應(yīng)混合物的pH調(diào)節(jié)至6~1、更優(yōu)選5~1、和最優(yōu)選4~1.5的量存在于所述反應(yīng)中。在一個實(shí)施方案中，pH調(diào)節(jié)劑可以包括在反應(yīng)期間生成的酸R4C00H。作為選擇或者另外地，pH調(diào)節(jié)劑可以包括在反應(yīng)期間生成的酸R5C00H。優(yōu)選地，該至少一種酸是任何合適的有機(jī)或無機(jī)酸。優(yōu)選地，該至少一種酸在水溶液中在298K下具有小于5、更優(yōu)選小于4的pKa。優(yōu)選地，pH調(diào)節(jié)劑是強(qiáng)布朗斯臺德酸。強(qiáng)布朗斯臺德酸是指具有-12至-5、和優(yōu)選-10至-6的pKa(在水溶液中在298K下)的布朗斯臺德酸。作為選擇或者另外地，pH調(diào)節(jié)劑可以是弱布朗斯臺德酸。弱布朗斯臺德酸是指具有-5至+10、和優(yōu)選+3至+5的pKa(在水溶液中在298K下)的布朗斯臺德酸。優(yōu)選地，該至少一種酸是水溶性的。優(yōu)選地，該至少一種酸包括任何Crd。有機(jī)酸，更優(yōu)選任何C「C6有機(jī)酸。優(yōu)選地，該至少一種酸包括任何低級烷基酸。合適的至少一種酸的實(shí)例包括但不限于單獨(dú)或者組合的以下任何物質(zhì)甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、檸檬酸、鹽酸、硫酸、磷酸、硝酸、硼酸、三氟乙酸、甲烷磺酸、三氟甲烷磺酸。作為選擇或者另外地，該至少一種酸可以包括至少一種水溶性路易斯酸。合適的路易斯酸的實(shí)例包括但不限于LiCl、FeCl3、ZnCl2、CaCl2等。這里提及的pH應(yīng)被看作是在水溶液中在298K下測量的pH。本發(fā)明的第三和第四方面的組分可以按任何順序接觸。例如，可以首先將所述至少一種酸供至所述硅烷中并且然后供至水或水/至少一種烷醇混合物中，或者作為選擇，可以同時將所述硅烷、所述至少一種酸和所述水或水/至少一種烷醇混合物全部供入。通過在聚合反應(yīng)的不同階段加入不同量的所述至少一種酸，可以獲得有利的結(jié)果。也可以在制備基料期間引入添加劑或穩(wěn)定劑。這些的實(shí)例包括但不限于膠體二氧化硅、二氧化硅溶膠、消泡劑或緩沖劑。該方法的一個實(shí)施方案包括將R力-和/或R勺-脫除劑添加至其他組分中。在一個備選實(shí)施方案中，將所述反應(yīng)相和其他試劑，如果有的話，添加至R勺-和/或1130-脫除劑中。在另一個備選實(shí)施方案中，將所述反應(yīng)相的一部分與R力-和/或R30-脫除劑混合和然后添加至其余的組分中。醇、R4COOH、R5COOH和/或水的除去可以在常壓下或在真空下進(jìn)行。該除去可以在混合階段期間以及在所述珪烷水解結(jié)束之后開始。硅烷水解的進(jìn)展可以通過任何傳統(tǒng)的分析方法例如氣相色譜法、紅外光譜法、拉曼光鐠法或核磁共振法來監(jiān)測。#^除去的醇、R4COOH、R5COOH和/或水的量可以通過任何合適的分析方法來測量?？梢哉{(diào)節(jié)用于聚合反應(yīng)中的R力-和/或R勺-脫除劑的量以在蒸餾過程之后達(dá)到所希望的最終固體量。可以在該過程期間，或者優(yōu)選地基本上在該過程結(jié)束之后，所述醇的重量由相同重量的R力-和/或R30-脫除劑代替。所述涂料可以是任何水基硅樹脂裝飾或保護(hù)涂料，例如用于混凝土和建筑物正面的防水、防污涂料，用于戶內(nèi)或戶外墻壁的浸漬劑，用于織物的防水劑。優(yōu)選地，該涂料是防腐蝕涂料。優(yōu)選地，該涂料是底漆，更優(yōu)選預(yù)涂底漆。在一個尤其優(yōu)選的實(shí)施方案中，該涂料是可焊性預(yù)涂底漆。根據(jù)本發(fā)明的第六方面，提供了一種雙組分涂料組合物，其包含i)包含如本發(fā)明的以上方面的任一個中定義的水性M成分的第一組分；和ii)包含至少一種活性填料的第二組分。該雙組分涂料組合物可以進(jìn)一步在任一種組分中包含以下的一種或多種非導(dǎo)電顏料、增稠劑、流變學(xué)添加劑、膠體二氧化硅、涂布的膠體二氧化硅和/或至少一種硅溶膠。優(yōu)選地，該第一組分進(jìn)一步包含以下的一種或多種非導(dǎo)電顏料、增稠劑、流變添加劑、膠體二氧化硅、涂布的膠體二氧化硅或硅溶膠。合適的非導(dǎo)電顏料的實(shí)例包括二氧化鈦、氧化鐵紅、碳酸釣、滑石、硅酸鋁和氧化鐵黃。優(yōu)選地，該雙組分涂料組合物包含至少一種填料。優(yōu)選地，第二組分是粉末。優(yōu)選地，所述至少一種填料存在于第二組分中，優(yōu)選以第二組分的1~99%(干重)的量。更優(yōu)選地，所述至少一種填料以第二組分的20~80%(千重)的量存在于第二組分中。更優(yōu)選地，所述至少一種填料優(yōu)選以第二組分的30~60°/。(干重)的量存在于第二組分中。最優(yōu)選地，所述至少一種填料優(yōu)選以第二組分的40~50%(干重)的量存在于第二組分中。優(yōu)選地，該至少一種填料包括礦物填料。優(yōu)選地，該至少一種填料包括以下的一種或多種鐵氧化物(除了云母鐵礦)；天然和沉淀石危酸鋇、重晶石、鋇白；硅酸鋁、高冷土、高呤石、瓷土；硅酸鎂和含水硅酸鎂、云母、滑石、綠泥石、透閃石；二氧化硅、表面處理的二氧化硅、無定形石英、結(jié)晶石英、熱解法二氧化硅；氧化鋁和氫氧化鋁、鋁土礦、熟礬土；碳酸鉀鎂、白云石；天然和沉淀碳酸鉤；鋁硅酸鹽；長石；霞石正長巖；鈣硅酸鹽、硅灰石；氧化鋅；磷酸鋅；石墨；釩酸鉍；鉻酸鉛；碳化硅；沸石；葉蠟石；玻璃薄片；磷化鐵；砩化鎳；中空球體；和鋁。還可以是其他類型的硫酸鹽、碳酸鹽、硅酸鹽、氧化物和釩酸鹽。優(yōu)選地，第二組分包括鋅。優(yōu)選地，鋅作為細(xì)碎的鋅、鋅薄片、鋅粉末或鋅粉塵存在。優(yōu)選地，鋅以第二組分的1~99%(干重)的量存在于第二組分中。更優(yōu)選地，鋅以第二組分的20~80°/。(干重)的量存在于第二組分中。更優(yōu)選地，鋅以第二組分的30~60%(干重)的量存在于第二組分中。最優(yōu)選地，鋅以第二組分的40~50%(干重)的量存在于第二組分中。優(yōu)選地，該雙組分涂料組合物包含有色顏料。優(yōu)選地，有色顏料以其存在于其中的任一種組分的0.1~50%(干重)的量存在于第一或第二組分中。更優(yōu)選地，有色顏料以其存在于其中的任一種組分的1~15%(干重)的量存在于第一或第二組分中。優(yōu)選地，第二組分包括導(dǎo)電顏料。已知導(dǎo)電顏料可提高防腐蝕性能(通過使鋅顆粒與基材電連接)和電弧悴性能。優(yōu)選地，導(dǎo)電顏料選自云母鐵礦、鐵合金、磷化二鐵、銅薄片、鎳薄片、不銹鋼薄片、鋁薄片等。優(yōu)選地，導(dǎo)電顏料以第二組分的60~20%(干重)的量存在于第二組分中。更優(yōu)選地，導(dǎo)電顏料以第二組分的40~25%(干重)的量存在于第二組分中。任選地，該雙組分涂料組合物可以進(jìn)一步包含合適的添加劑例如防沉淀劑、消泡劑、增稠劑、防銹劑或潤濕劑。典型的增稠劑是丙烯酸酯聚合物或羥乙基纖維素聚合物；當(dāng)使用時它們優(yōu)選以雙組分涂料組合物的至多2。/。w/w(千重)，更優(yōu)選雙組分涂料組合物的至多1W/w(干重)的量加入。典型的防沉淀劑是粘土類材料比如膨潤土、三羥基硬脂酸甘油酯、聚酰胺或聚乙烯蠟；當(dāng)使用時它們優(yōu)選以雙組分涂料組合物的至多4。/。w/w(干重)，更優(yōu)選雙組分涂料組合物的至多2%w/w(干重)的量加入。典型的潤濕劑是乙氧基化烷醇(例如CASRN-68439-45-2的產(chǎn)品)。任選地，該雙組分涂料組合物可以進(jìn)一步包含合適的防腐蝕顏料，例如鉬酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽或氧化鋅。任選地，該雙組分涂料組合物可以進(jìn)一步包含合適的催化劑。優(yōu)選地，該催化劑包括過渡金屬或14或15族螯合化合物。優(yōu)選地，該催化劑包括過渡金屬或14或15族有機(jī)螯合化合物。優(yōu)選地，該催化劑包括過渡金屬或14或15族烷氡基螯合化合物。優(yōu)選地，該催化劑是水溶性的。更優(yōu)選地，該催化劑包括過渡金屬或14或15族多烷氧基螯合化合物。該催化劑可以通過烷醇胺衍生物穩(wěn)定。優(yōu)選地，該催化劑選自以下任一種的化合物鈦、鋯、鉿、錫、銻或鍺。在一個特別優(yōu)選的實(shí)施方案中，該催化劑包括通過烷醇胺衍生物穩(wěn)定的水溶性烷氧基鈦酸鹽、鋯酸鹽或錫酸鹽化合物。最優(yōu)選地，該催化劑包括烷lL^鈥酸鹽化合物。合適的催化劑的實(shí)例包括但不限于可從DuPont商購獲得的TYZ0RLA(RTM)，或者可從JohnsonMatthey商購獲得的VERTECXL175(RTM)。優(yōu)選地，以組分的重量計(jì)，第一與第二組分之間的混合比為1:20~1:0.05，更優(yōu)選l:10~1:0.1,最優(yōu)選1:2~1:0.1。優(yōu)選在將涂料組合物施涂在基材上之前基本上立即、優(yōu)選在施涂之前少于2小時、更優(yōu)選在施涂之前少于1小時、最優(yōu)選在施涂之前少于30分鐘將該雙組分涂料組合物的兩種組分彼此引入。優(yōu)選在使用之前將這兩種組分混合在一起。優(yōu)選地，該雙組分涂料組合物的固體百分比w/w為70%~10%,更優(yōu)選40%~20%,和最優(yōu)選35%~25%。優(yōu)選地，在將雙組分涂料組合物施涂在基材上之后，其固化形成干膜。優(yōu)選地，鋅粉塵以干膜的80%~1%(重量)、更優(yōu)選60%~20°/。(重量)、和最優(yōu)選50%~30%(重量)存在于干膜中。根據(jù)本發(fā)明的第七方面，提供了一種由第一、第二、第四或第六方面中的任一個的涂料組合物得到的涂層。根據(jù)本發(fā)明的第八方面，提供了一種包含至少一個涂層的基材，該涂層由第一、第二、第四或第六方面中的任一個的涂料組合物得到。本文中披露的全部特征可與任一個上述方面組合并且以任何組合方式組合。實(shí)施例絲l將91g3-縮水甘油氧基丙基三甲，眭烷、136.6g硅酸四乙酯攪拌。然后在30分鐘內(nèi)滴加含有2.3g甲酸的662.5g水并同時將溫度保持在35匸以下。在添加結(jié)束時，將溫度升高至85X:達(dá)15分鐘并且然后升高以保持曱醇和乙醇的混合物的蒸餾，當(dāng)溫度達(dá)到99t;時停止蒸餾。為了指示，在蒸餾捕集器中收集約267ml的體積，得到約17.5%的基料固體重量。絲2將80.2g3-縮7JC甘油IU^丙基三甲lLiJ^烷、120.3g硅酸四乙酯攪拌。然后在30分鐘內(nèi)滴加含有2,2g甲酸和17.16gBindzilCC30的629.8g水并同時將溫度保持在35X:以下。在添加結(jié)束時，將溫度升高至85X:達(dá)45分鐘并且然后升高直到曱醇和乙醇的混合物蒸餾，當(dāng)反應(yīng)器的溫度達(dá)到IOOX:時停止蒸餾。為了指示，在蒸餾捕集器中收集約241ml的體積，得到約17.0%的^固體重量。使用的硅烷可從DegussaAG商購獲得。以下實(shí)施例是涂料配制物。該涂料配制物通過將填料混合物添加至水性M中并且然后手動攪拌而制備。<table>tableseeoriginaldocumentpage28</column></row><table>*以克計(jì)的相對重量WestminD30E可從MondoMinerals商購獲得，NyadM1250可從NycoMinerals商購獲得，鋅粉塵標(biāo)準(zhǔn)7和氧化鋅LF可從Umicore商購獲得，并且Miox是可從K3rtner獲得的云母鐵礦的一般縮寫。薄膜性能<table>tableseeoriginaldocumentpage29</column></row><table>*:有效期表示在其間粘度保持足夠低以使得能夠借助于無空氣噴涂進(jìn)行施涂的時間。水雙擦通過使用輕微的壓力在所述涂層上用濕棉布來回擦拭而測量。如果獲得>200次擦拭，則我們可以說涂層被適當(dāng)?shù)毓袒?。?dāng)涂層容易地從基材上擦掉時，我們可以說涂層沒有被固化(參見試驗(yàn)方法ASTMD4752，其中用甲乙酮50次雙擦表示充分固化)。注意在與本申請相關(guān)的本說明書同時或者之前提出并且與本說明書一起對公眾開放的所有論文和文獻(xiàn)，并且所有這些論文和文獻(xiàn)的內(nèi)容通過引用并入本文。本說明書(包括任何附屬的權(quán)利要求、摘要和附圖)中披露的所有特征和/或如此披露的任何方法或工藝的所有步驟可以任何組合方式組合，除了其中這些特征和/或步驟的至少一些相互排斥的組合之外。本說明書(包括任何附屬的權(quán)利要求、摘要和附圖)中披露的每一特征可被起到相同、等價(jià)或類似目的的備選特征代替，除非另外清楚地說明。因此除非另外清楚地說明，披露的每一特征僅是等價(jià)或類似特征的總系列中的一個實(shí)例。本發(fā)明不限于前述實(shí)施方案的細(xì)節(jié)。本發(fā)明延伸至本說明書(包括任何附屬的權(quán)利要求、摘要和附圖)披露的特征中的任何新的一個或者任何新的組合，或者延伸至如此披露的任何方法或工藝的步驟中的任何新的一個或者任何新的組合。權(quán)利要求1.一種雙組分涂料組合物，其在混合之后包含在水溶液中的以下組分a)來自第一組分i)水性基料，該水性基料包括低聚或聚合化合物，所述低聚或聚合化合物由至少一種通式I的單體Si(OR1)4I其中每一R1獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(C＝O)R4基團(tuán)，和每一R4基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和至少一種具有通式II的單體(R2)4-mSi(OR3)mII其中每一R2獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和其中至少一個-R2基團(tuán)包括基團(tuán)-RXQRZ或-RXN(RW)2，其中RX是任何C1-C10二價(jià)有機(jī)橋連基團(tuán)，Q選自氧或硫基團(tuán)和RZ包括H、烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和每一RW獨(dú)立地如上面針對RZ那樣選擇和定義；其中每一R3獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(C＝O)R5基團(tuán)，其中R5如上面針對R4那樣定義，和m＝1～3；和任選地至少一種膠體二氧化硅形成；b)來自第二組分i)至少一種活性填料。2.—種包含水性基料的涂料組合物，該水性基料包括低聚或聚合化合物，所述低聚或聚合化合物由至少一種通式I的單體Si(0R1)4I其中每一W獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-闊R4基團(tuán),和每一R4基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和至少一種具有通式II的單體(R2)"Si(OR3)mII其中每一R2獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和其中至少一個-R2基團(tuán)包括基團(tuán)-RXQRZ或-RXN(RW)2,其中RX是任何d-d。二價(jià)有機(jī)橋連基團(tuán)，Q選自氧或硫基團(tuán)和RZ包括H、烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和每一ir獨(dú)立地如上面針對Rz那樣選擇和定義；其中每一R3獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-0X))R5基團(tuán)，其中R5如上面針對R4那樣定義，和m=1~3;和任選地至少一種膠體二氧化硅形成；和所述涂料組合物進(jìn)一步包含至少一種活性填料。3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2的涂料組合物，其中所述至少一種活性填料是堿性填料。4.根據(jù)任一項(xiàng)前述權(quán)利要求的涂料組合物，其中至少一個^基團(tuán)包括環(huán)氧端基。5.根據(jù)任一項(xiàng)前述權(quán)利要求的涂料組合物，其中至少一個^基團(tuán)包括丙烯酸酯端基。6.根據(jù)任一項(xiàng)前述權(quán)利要求的涂料組合物，其中通式II的單體選自以下的一種或多種3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氣基硅烷、3-曱基丙烯酰氧基丙基三乙氧基珪烷。7.根據(jù)權(quán)利要求2或當(dāng)從屬于權(quán)利要求2時根據(jù)權(quán)利要求3~6中任一項(xiàng)的涂料組合物，其中通式I的單體選自四(曱lL&)硅烷或四(乙氧基)硅烷。8.根據(jù)任一項(xiàng)前i^利要求的涂料組合物，其中所述低聚或聚合物質(zhì)以該M組合物的干重的99~1%存在于水性^中。9.一種制備涂料組合物的方法，其包括使第一組分與第二組分接觸，所述第一組分包括水性基料，該水性基料包括低聚或聚合化合物，所述低聚或聚合化合物由至少一種通式I的單體Si(0R1)4I其中每一Ri獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(C-0)R4基團(tuán)，和每一R4基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和至少一種具有通式II的單體(R2)4—mSi(0R3)mII其中每一R2獨(dú)立地選自氬或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和其中至少一個-R2基團(tuán)包括基團(tuán)-RXQRZ或-RXN(RW)2,其中RX是任何C「d。二價(jià)有機(jī)橋連基團(tuán)，Q選自氧或硫基團(tuán)和RZ包括H、烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和每一RW獨(dú)立地如上面針對RZ那樣選擇和定義；其中每一113獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(O0)R5基團(tuán)，其中R5如上面針對R4那樣定義，和m=1~3;和任選地至少一種膠體二氧化硅形成；所述第二組分包括活性填料。10.—種涂料組合物，所述涂料組合物包含至少一種活性填料和基料，該基料包括低聚或聚合材料，所述低聚或聚合材料由以下方法形成i)形成包含以下物質(zhì)的反應(yīng)相至少一種通式I的單體Si(0R1)4I其中每一R1獨(dú)立地選自氯或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-0M))R4基團(tuán)，和每一R4基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和至少一種具有通式II的單體(R2)4-Si(OR3)mII其中每一R2獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和其中至少一個-R2基團(tuán)包括基團(tuán)-RXQRZ或-RXN(RW)2，其中RX是任何C「d。二價(jià)有機(jī)橋連基團(tuán)，Q選自氧或硫基團(tuán)和RZ包括H、烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和每一IT獨(dú)立地如上面針對Rz那樣選擇和定義；其中每一R3獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-0X))R5基團(tuán)，其中R5如上面針對R4那樣定義，和m=1~3;和任選地至少一種膠體二氧化硅；ii)使所述反應(yīng)相的組分與1130-脫除劑接觸；iii)使所述反應(yīng)相的組分反應(yīng)形成低聚物或聚合物。11.一種制備涂料組合物的方法，其包括使至少一種活性填料與基料接觸，該基料包括低聚材料或聚合材料，所述低聚或聚合材料由以下方法形成i)形成包含以下物質(zhì)的反應(yīng)相至少一種通式I的單體Si(0R1)4I其中每一W獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(C-0)R4基團(tuán)，和每一R4基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和至少一種具有通式II的單體(R2)4iSi(OR3)raII其中每一R2獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和其中至少一個-R2基團(tuán)包括基團(tuán)-RXQRZ或-RXN(RW)2,其中RX是任何C「d。二價(jià)有機(jī)橋連基團(tuán)，Q選自氧或硫基團(tuán)和RZ包括H、烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和每一RW獨(dú)立地如上面針對RZ那樣選擇和定義；其中每一R3獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(O0)R5基團(tuán)，其中R4口上面針對R4那樣定義，和m=1~3j和任選地至少一種膠體二氧化硅；ii)使所述反應(yīng)相的組分與1130-脫除劑接觸；iii)使所述反應(yīng)相的組分反應(yīng)形成低聚物或聚合物。12.根據(jù)權(quán)利要求ll的方法，其中形成所述低聚或聚合材料的方法包括除去凈皮釋放的醇、R4C00H、R5C00H和/或水的另外步驟。13.根據(jù)權(quán)利要求11或權(quán)利要求12的方法，其中所述反應(yīng)在可操作以調(diào)節(jié)所述反應(yīng)混合物的pH至6~1的pH調(diào)節(jié)劑的存在下進(jìn)行。14.當(dāng)從屬于權(quán)利要求12時根據(jù)權(quán)利要求13的方法，其中所述pH調(diào)節(jié)劑包括在所述反應(yīng)期間生成的酸RtOOH或R5C00H。15.根據(jù)權(quán)利要求1~8和權(quán)利要求10中任一項(xiàng)的涂料組合物，其中所述涂料組合物是可焊性預(yù)涂底漆。16.—種源自權(quán)利要求1~8、10和15中任一項(xiàng)的涂料組合物的涂層。17.—種包括至少一個涂層的基材，所述涂層源自權(quán)利要求1~8、10和15中任一項(xiàng)的涂料組合物。全文摘要一種雙組分涂料組合物，其在混合之后包含在水溶液中的以下組分a)來自第一組分i)水性基料，該水性基料包括低聚或聚合化合物，所述低聚或聚合化合物由至少一種通式I的單體Si(OR¹)₄，其中每一R¹獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(C＝O)R⁴基團(tuán)，和每一R⁴基團(tuán)獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和至少一種具有通式II的單體(R²)_4-mSi(OR³)_m，其中每一R²獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和其中至少一個-R²基團(tuán)包括基團(tuán)-R^XQR^Z或-R^XN(R^W)₂，其中R^X是任何C₁-C₁₀二價(jià)有機(jī)橋連基團(tuán)，Q選自氧或硫基團(tuán)和R^Z包括H、烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基，和每一R^W獨(dú)立地如上面針對R^Z那樣選擇和定義；其中每一R³獨(dú)立地選自氫或任何烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基或-(C＝O)R⁵基團(tuán)，其中R⁵如上面針對R⁴那樣定義，和m＝1～3；和任選地至少一種膠體二氧化硅形成；b)來自第二組分i)至少一種活性填料。文檔編號C09D5/10GK101506320SQ200780025086公開日2009年8月12日申請日期2007年7月3日優(yōu)先權(quán)日2006年7月4日發(fā)明者J·考汀,M·普萊海爾斯,S·萬隆,S·韋瑟申請人:西格瑪克隆股份有限公司