專利名稱:成型體、其制造方法、電子設(shè)備用構(gòu)件和電子設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及成型體、其制造方法、含有該成型體的電子設(shè)備用構(gòu)件以及具備該電子設(shè)備用構(gòu)件的電子設(shè)備。
背景技術(shù):
一直以來(lái),塑料薄膜等高分子成型體由于價(jià)格低廉、加工性優(yōu)異,因此可以賦予所需功能,在各種領(lǐng)域中應(yīng)用。近年來(lái),對(duì)于液晶顯示器或電致發(fā)光(EL)顯示器等顯示器,為了實(shí)現(xiàn)薄型化、輕量化、柔韌化等,作為具有電極的基板,人們對(duì)于使用透明塑料薄膜代替玻璃板進(jìn)行了研但是,這種塑料薄膜與玻璃板相比,存在容易透過(guò)水蒸氣或氧等,容易引起顯示器內(nèi)部元件劣化的問(wèn)題。為解決該問(wèn)題,專利文獻(xiàn)1中提出了在聚酯系樹(shù)脂薄膜上層疊阻氣性的無(wú)機(jī)化合物薄膜而成的阻氣性薄膜。但是,該文獻(xiàn)記載的層疊薄膜的阻氣性尚未達(dá)到令人滿意的水平,另外,無(wú)機(jī)化合物薄膜的表面平滑性差,在阻氣層上形成其他層時(shí),存在所形成的其他層容易產(chǎn)生針孔,針孔發(fā)生部分的阻氣性極度降低的問(wèn)題。并且,該薄膜是通過(guò)蒸鍍法、電子束法、濺射法等在由聚酯系樹(shù)脂形成的基膜上層疊由無(wú)機(jī)化合物形成的阻氣層而成,因此,將該層疊薄膜卷起或彎折時(shí),存在阻氣層產(chǎn)生裂紋,阻氣性降低的情況。因此,為了提高耐彎折性,人們還提出了將無(wú)機(jī)膜和有機(jī)膜交替層疊的方法,但存在工序復(fù)雜、密合性降低、材料的成本升高等問(wèn)題。專利文獻(xiàn)1 日本特開(kāi)平10-305542號(hào)公報(bào)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)而作出的發(fā)明,其課題在于提供阻氣性、透明性、耐彎折性、密合性和表面平滑性均優(yōu)異的成型體,其制造方法,含有該成型體的電子設(shè)備用構(gòu)件,和具備該電子設(shè)備用構(gòu)件的電子設(shè)備。本發(fā)明人為解決上述課題進(jìn)行了深入的研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn)向表面部具有含聚碳硅烷化合物的層的成型物的上述含聚碳硅烷化合物的層中注入離子,由此所得的成型體的阻氣性、透明性、耐彎折性、密合性和表面平滑性均優(yōu)異,從而完成了本發(fā)明。根據(jù)本發(fā)明的第1方面,提供下述(i)-(iv)的成型體。(i)成型體,其特征在于該成型體具有向含聚碳硅烷化合物的層中注入離子而得到的層。(ii) (i)所述的成型體,其中,上述聚碳硅烷化合物是含有下式(1)所示的重復(fù)單元的化合物。[化1]
權(quán)利要求
1.成型體,其特征在于,該成型體具有向含聚碳硅烷化合物的層中注入離子而得到的層。
2.權(quán)利要求1所述的成型體,其中,上述聚碳硅烷化合物是含有下式(1)所示的重復(fù)單元的化合物,[化1]
3.權(quán)利要求1或2所述的成型體,其特征在于,該成型體具有通過(guò)等離子體離子注入法向上述含聚碳硅烷化合物的層中注入離子而得到的層。
4.權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的成型體,其特征在于,在40°C、相對(duì)濕度90%氣氛下的水蒸氣透過(guò)率低于0.3 g/m2/天。
5.權(quán)利要求1所述的成型體的制造方法,該方法具有以下工序向在表面部具有含聚碳硅烷化合物的層的成型物的上述含聚碳硅烷化合物的層的表面部中注入離子。
6.權(quán)利要求5所述的成型體的制造方法,其特征在于,上述注入離子的工序是一邊將在表面部具有含聚碳硅烷化合物的層的長(zhǎng)的成型物沿一定方向運(yùn)送,一邊向上述含聚碳硅烷化合物的層中注入離子的工序。
7.電子設(shè)備用構(gòu)件,其包括權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的成型體。
8.電子設(shè)備,其具備權(quán)利要求7所述的電子設(shè)備用構(gòu)件。
全文摘要
本發(fā)明涉及成型體、其制造方法、含有該成型體的電子設(shè)備用構(gòu)件以及具備該電子設(shè)備用構(gòu)件的電子設(shè)備,其中,所述成型體的特征在于具有向含聚碳硅烷化合物的層中注入離子而得到的層。根據(jù)本發(fā)明,可提供阻氣性、透明性、耐彎折性、密合性和表面平滑性優(yōu)異的成型體、其制造方法、含有該成型體的電子設(shè)備用構(gòu)件和具備該電子設(shè)備用構(gòu)件的電子設(shè)備。
文檔編號(hào)C08J7/00GK102439078SQ20108002242
公開(kāi)日2012年5月2日 申請(qǐng)日期2010年5月21日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月22日
發(fā)明者星慎一, 近藤健, 鈴木悠太 申請(qǐng)人:琳得科株式會(huì)社