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一種替尼類藥物新晶型的制作方法

文檔序號(hào):3486912閱讀:651來源:國知局
一種替尼類藥物新晶型的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及藥物化學(xué)領(lǐng)域,一方面涉及舒尼替尼的新晶型,所述舒尼替尼晶型為“基本上純凈的”晶型B或晶型C,另一方面涉及舒尼替尼L-蘋果酸鹽的新晶型,所述舒尼替尼L-蘋果酸鹽晶型為“基本上純凈的”晶型D;這些晶型是非吸濕的,有利于工業(yè)化生產(chǎn)中操作和/或制備制劑;本發(fā)明還提供了這些晶型的制備方法。
【專利說明】一種替尼類藥物新晶型
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及藥物化學(xué)領(lǐng)域,具體涉及一種替尼類藥物新晶型及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]舒尼替尼,其結(jié)構(gòu)如式⑴所示,其L-蘋果酸鹽結(jié)構(gòu)如式(II)所示:
[0003]
【權(quán)利要求】
1.一種舒尼替尼晶型,所述晶型為“基本上純凈的”晶型B或晶型C, a)其中所述晶型B的X-射線粉末衍射圖中在2Θ大約為8.76度的位置有峰;或 b)其中所述晶型C的X-射線粉末衍射圖中在2Θ大約為9.04度的位置有峰。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的舒尼替尼晶型,所述晶型B的X-射線粉末衍射圖中在2Θ大約為8.76、17.51和26.11度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型B的X-射線粉末衍射圖中在2 Θ大約為8.76、17.20、17.51和26.11度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型B的X-射線粉末衍射圖中在2 Θ大約為3.96、8.76、17.51、21.28、26.11和28.04度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型B的X-射線粉末衍射圖中在2 Θ大約為3.96,8.76、9.25,9.56,10.34,15.77,17.19,17.51,17.91,19.43,20.36,21.28,25.00,25.53,26.11、26.83和28.04度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型B的X-射線粉末衍射圖中在2Θ 大約為 3.96,4.34,8.76,9.25,9.56,10.34,10.73,15.77,17.19,17.51,17.91,19.43、20.36,21.28,24.55,25.00,25.53,26.11,26.83,28.04,35.62 和 39.62 度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型B的X-射線粉末衍射圖中在2 Θ大約為3.96,4.34,7.85,8.76、9.25,9.56,10.34,10.73,11.81,13.08,13.80,15.77,17.19,17.51,17.91,19.43,19.85、20.36,21.28,24.55,25.00,25.53,26.11,26.83,28.04,31.67,35.62,39.62 和 43.51 度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型B的X-射線粉末衍射圖基本上如圖2所示,其中衍射角2 Θ為8.76度的峰的相對(duì)強(qiáng)度大于50%,或者大于60%,或者大于70%,或者大于80%,或者大于90%,或者大于99%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的舒尼替尼晶型,所述晶型C的X-射線粉末衍射圖中在2Θ大約為9.04,25.95和27.01度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型C的X-射線粉末衍射圖中在2 Θ大約為9.04、16.88,25.95和27.01度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型C的X-射線粉末衍射圖中在2 Θ大約為9.04、16.60、16.88,25.95和27.01度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型C的X-射線粉末衍射圖中在2 Θ大約為4.55,7.60、9.04,16.88,16.60,18.31,25.95和27.01度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型C的 X-射線粉末衍射圖中在 2 Θ 大約為 4.55,7.17,7.60,9.04、10.28、11.69、14.39、15.18、16.60,16.88,18.31,19.12,20.38,21.80,23.01,23.80,25.95 和 27.01 度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型C的X-射線粉末衍射圖中在2 Θ大約為4.02,4.55,7.17,7.60、9.04,10.28,11.69,14.39,13.00,13.71,15.18,16.60,16.88,18.31,19.12,20.38,21.80、23.01,23.80,25.95,27.01,29.46,32.94,34.50,42.31 和 44.37 度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型C的X-射線粉末衍射圖基本上如圖3所示,其中衍射角2 Θ為9.04度的峰的相對(duì)強(qiáng)度大于50%,或者大于60%,或者大于70%,或者大于80%,或者大于90%,或者大于99%。
4.一種“基本上純凈的”舒尼替尼L-蘋果酸鹽晶型D,所述晶型D的X-射線粉末衍射圖中在2 Θ大約為27.21度的位置有峰。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的舒尼替尼L-蘋果酸鹽晶型D,所述晶型D的X-射線粉末衍射圖中在2 Θ大約為27.21,14.92和22.55度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型D的X-射線粉末衍射圖中在2 Θ大約為27.21、14.92,9.29,22.55、12.27,7.75和23.94度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型D的X-射線粉末衍射圖中在2 Θ大約為27.21、14.92,9.29,22.55,12.27,7.75,23.94,3.13和6.11度的位置的一處或多處有峰;或者所述晶型D的X-射線粉末衍射圖基本上如圖4所示,其中衍射角2 Θ為27.21的峰的相對(duì)強(qiáng)度大于50%,或者大于60%,或者大于70%,或者大于80%,或者大于90%,或者大于99%。
6.權(quán)利要求1-3任一所述的舒尼替尼晶型的制備方法,包含將舒尼替尼溶于溶解溶劑,加入不良溶劑或?qū)⒑婺崽婺岬娜芤杭尤氲讲涣既軇┲校龀鼍w,并收集晶體;其中所述溶解溶劑選自二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亞砜、四氫呋喃、乙腈或其組合,所述不良溶劑包括丙酮、水、甲醇、乙醇或其組合。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法,當(dāng)溶解溶劑選自二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亞砜、四氫呋喃、乙腈或其組合,不良溶劑選自丙酮、水或其組合時(shí),所得晶型為晶型B ;或者當(dāng)溶解溶劑為二甲基甲酰胺,不良溶劑為丙酮和水時(shí),所得晶型為晶型B。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法,當(dāng)溶解溶劑選自二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲基亞砜、四氫呋喃、乙腈或其任意組合,不良溶劑包括丙酮、水、甲醇或乙醇時(shí),所得晶型為晶型C ;或者當(dāng)溶解溶劑為二甲基甲酰胺,不良溶劑為水和甲醇時(shí),所得晶型為晶型C。
9.權(quán)利要求4或5所述的“基本上純凈的”舒尼替尼L-蘋果酸鹽晶型D的制備方法,包含將舒尼替尼L-蘋果酸鹽溶于溶解溶劑,然后噴霧干燥,收集所得固體,其中溶解溶劑選自極性溶劑。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法,所述溶解溶劑選自二甲基亞砜、水或其組合。
【文檔編號(hào)】C07C59/245GK103833733SQ201310583411
【公開日】2014年6月4日 申請(qǐng)日期:2013年11月19日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月21日
【發(fā)明者】曾紀(jì)森, 沈安雄, 寇景平 申請(qǐng)人:廣東東陽光藥業(yè)有限公司
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